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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) CNuE9|W(vI \l(}8;5} 内容简介 q@1A2L\Om Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Nc6y]eGz 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 \zVp8MMf 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 $igMk'%Nmb rfdA?X{Q0 MeV4s%*O+
ZyU/ .Uk 目录 OvdBUcp[ Preface 1 :;#^gvH 内容简介 2 h Q Att 目录 i 9[{q5 1 引言 1 4cm~oZ 2 光学薄膜基础 2 Lo'GfHE 2.1 一般规则 2 8oHIXnK 2.2 正交入射规则 3 ] %7m+-h@ 2.3 斜入射规则 6 LfnQcI$kO 2.4 精确计算 7 V'.gE6we 2.5 相干性 8 t(,2x%{ 2.6 参考文献 10 "
d~M\Az 3 Essential Macleod的快速预览 10 K:4G(?w 4 Essential Macleod的特点 32 2DZ&g\| 4.1 容量和局限性 33 |[V6R\l39 4.2 程序在哪里? 33 ]w)uo4<^J 4.3 数据文件 35 8/"uS ;yP 4.4 设计规则 35 AnsJ3C 4.5 材料数据库和资料库 37 >&Ye(3w& 4.5.1材料损失 38 Exi#@- 4.5.1材料数据库和导入材料 39 kad$Fp39 4.5.2 材料库 41 /KiaLS 4.5.3导出材料数据 43 dZ,7q_r,~ 4.6 常用单位 43 l 9rN!Q| 4.7 插值和外推法 46 q<g!bW% 4.8 材料数据的平滑 50 <1V>0[[e 4.9 更多光学常数模型 54 >]bS"S 4.10 文档的一般编辑规则 55 @$ )C pg 4.11 撤销和重做 56 5',b~Pp 4.12 设计文档 57 H'2o84$ 4.10.1 公式 58 sGMnm 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 HRd02tah 4.10.3 沉积密度 59 +I~U8v- 4.10.4 平行和楔形介质 60 =:RNpi, 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 dI,H:g 4.10.4 性能 61 n 8| 4.10.5 保存设计和性能 64 k"`^vV[{F 4.10.6 默认设计 64 n<[H!4 4.11 图表 64 '(:R-u!pp 4.11.1 合并曲线图 67 RCGpZyl 4.11.2 自适应绘制 68 :)Nk 4.11.3 动态绘图 68 /3`fO^39Ta 4.11.4 3D绘图 69 .w~L0( 4.12 导入和导出 73 ^6,}*@ 4.12.1 剪贴板 73 JZNvuP D 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 >F!X'#Iv 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 aOW~! f/M 4.13 背景 77 'Ya- ;5Y] 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 X 0m6<q 4.15 生成Rugate 84 o,
qBMo^. 4.16 参考文献 91 WoMMAo~ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 TkjZI}]2 5.1 Jobs 92 Of$gs- 5.2 创建一个新Job(工作) 93 "8yDqm 5.3 输入材料 94 -F-,Gcos 5.4 设计数据文件夹 95 /%^^hr 5.5 默认设计 95 LTio^uH 6 细化和合成 97 8x6{[Tx
6.1 优化介绍 97 x8h=3e$ 6.2 细化 (Refinement) 98 W QyMM@# 6.3 合成 (Synthesis) 100 `X wKCI 6.4 目标和评价函数 101 fPsUIlI/A 6.4.1 目标输入 102 u&Y1,:hiL 6.4.2 目标 103 `>$l2, 6.4.3 特殊的评价函数 104 {[FJkP2l 6.5 层锁定和连接 104 7y>{Y$n 6.6 细化技术 104 T+<OlXpL 6.6.1 单纯形 105 &
Mf nH 6.6.1.1 单纯形参数 106 v%2Jm!i+ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Nxt z1 6.6.2.1 Optimac参数 108 IQ}YF]I; 6.6.3 模拟退火算法 109 fxX4 !r 6.6.3.1 模拟退火参数 109 wo!;Bxo
N 6.6.4 共轭梯度 111 T_?,? 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 so\8.(7n 6.6.5 拟牛顿法 112 9RN! <`H 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Xc@%_6 6.6.6 针合成 113 x\XOtjJr 6.6.6.1 针合成参数 114 /H[ !v:U 6.6.7 差分进化 114 9ioV R 6.6.8非局部细化 115 ,1-#Z"~c 6.6.8.1非局部细化参数 115 'x\{sv 6.7 我应该使用哪种技术? 116 J"RmV@| 6.7.1 细化 116 %L;'C
v 6.7.2 合成 117 Ra?0jcSQ$ 6.8 参考文献 117 %Nm69j-5% 7 导纳图及其他工具 118 Ej64^* 7.1 简介 118 ;F'/[l{+ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 -7l)mk 7.2.1 四分之一波长规则 119 5 l(Q#pSX 7.2.2 导纳图 120 L%O(
I 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 p^QB^HEV 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ZYX(Cf 7.5 斜入射导纳图 141 <swYo<?J# 7.6 对称周期 141 5%Q[X
7.7 参考文献 142 /WKp\r(Hp 8 典型的镀膜实例 143 T8rf+B/.L 8.1 单层抗反射薄膜 145 q!zsGf{ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 'xY@I`x 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 \a\ApD
8.4 W-膜层 148 .FXn=4l'vV 8.5 V-膜层 149 m`lsUN, 8.6 V-膜层高折射基底 150 14v,z;HXj 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 uEKa
FRm 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 j8Csnm0 8.9 四层抗反射薄膜 153 wsNM'~( 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 u?n{r 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 P*;zDQy 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 LAwAFma> 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 oUwu:&<Orm 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 7&z`N^dz{ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 O.8{c; 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 hd}"%9p 8.17 1/4波长堆栈 162 77ID
82 8.18 陷波滤波器 163 P7GF"/ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 (7g1eEK% 8.20 褶皱 165 MzsDDP+h 8.21 消偏振分光器1 169 & |