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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) 7p16Hv7y~ :tB1D@Cb6 内容简介 ;yLu R Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 p\tm:QWD; 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 *-=(Q`3 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Zd}9O jz5 FF(#]vz ' PI:4m%[
O1U= X:Zl 目录
Rn(ec Preface 1 )@l% 内容简介 2 +yH7v5W 目录 i Ms5ap<q# 1 引言 1 BxWPC#5
2 光学薄膜基础 2 2Aazy'/ 2.1 一般规则 2 ;!mzyb* 2.2 正交入射规则 3 M4oy 2.3 斜入射规则 6 [P=Jw:E 2.4 精确计算 7 vrhT<+q 2.5 相干性 8 y^,1a[U. 2.6 参考文献 10 *yt=_Q 3 Essential Macleod的快速预览 10 rq/yD,I, 4 Essential Macleod的特点 32 :bu/^mW[ 4.1 容量和局限性 33 7{)G_?Q& 4.2 程序在哪里? 33 2G67NC?+ 4.3 数据文件 35 %S@ZXf~: 4.4 设计规则 35 RK'\C\gMDu 4.5 材料数据库和资料库 37 'EEJU/"u 4.5.1材料损失 38 0d"[l@UU0 4.5.1材料数据库和导入材料 39 nwB_8mN| 4.5.2 材料库 41 'KS,'% 4.5.3导出材料数据 43 EyD=q! ZVZ 4.6 常用单位 43 ['X]R:3h 4.7 插值和外推法 46 0neoE
E 4.8 材料数据的平滑 50 pMx*F@&nU 4.9 更多光学常数模型 54 j9x<Y] 4.10 文档的一般编辑规则 55 &I+5 4.11 撤销和重做 56 .779pT!,M 4.12 设计文档 57 L%*!`TN 4.10.1 公式 58 3nIU1e 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 eueH)Xkf 4.10.3 沉积密度 59 SIF/-{i(X 4.10.4 平行和楔形介质 60 J{p1|+h% 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 '8RsN-w 4.10.4 性能 61 L3u&/Tn2 4.10.5 保存设计和性能 64 ^pAAzr"hv 4.10.6 默认设计 64 UUYSFa% 4.11 图表 64 H-%v3d>3 4.11.1 合并曲线图 67 -hV*EPQ/ 4.11.2 自适应绘制 68 |3%8&@ho 4.11.3 动态绘图 68 ca}2TT&t 4.11.4 3D绘图 69 /> Nt[o[r 4.12 导入和导出 73 \1`O_DF~o 4.12.1 剪贴板 73 i?gSC<a 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 m68*y;# 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 IAEAhqp 4.13 背景 77 .l|$dE/E 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 $|@ r!/W 4.15 生成Rugate 84 bfO=;S]b! 4.16 参考文献 91 |' . 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 *J{+1Ev~$p 5.1 Jobs 92 <or2 5.2 创建一个新Job(工作) 93 P&q7|ST%N 5.3 输入材料 94
9akH 5.4 设计数据文件夹 95 m3ff;, 5.5 默认设计 95 CNIsZv@Q 6 细化和合成 97 iOdpM{~* 6.1 优化介绍 97 ?}7p"3j'z 6.2 细化 (Refinement) 98 0Qd:`HF[ 6.3 合成 (Synthesis) 100 _FEFx 6.4 目标和评价函数 101 gJhiGYx 6.4.1 目标输入 102 a:S - 6.4.2 目标 103 6r_)sHf 6.4.3 特殊的评价函数 104 p8Q1-T3v 6.5 层锁定和连接 104 vI]N^j2% 6.6 细化技术 104 }-fl$j?9E 6.6.1 单纯形 105 80;(Gt@<" 6.6.1.1 单纯形参数 106 =mGez )T5\ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Wl Sm 6.6.2.1 Optimac参数 108 njw|JnDv 6.6.3 模拟退火算法 109 4 OX^( 6.6.3.1 模拟退火参数 109 wAd9 6.6.4 共轭梯度 111 $SE^S 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 X jX2] 6.6.5 拟牛顿法 112 L-\GHu~) 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 D-4f.Tq4# 6.6.6 针合成 113 O~QB!<Q+ 6.6.6.1 针合成参数 114 _2nx^E(pd 6.6.7 差分进化 114 'QIqBU'~ 6.6.8非局部细化 115 fX+O[j 6.6.8.1非局部细化参数 115 L6LZC2N+2 6.7 我应该使用哪种技术? 116 4&f3%eTi 6.7.1 细化 116 G9:l'\ 6.7.2 合成 117 $kKjgQS( 6.8 参考文献 117 R$Q.sE 7 导纳图及其他工具 118 )ANmIwmC# 7.1 简介 118 BUR*n;V` 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ]q-Y }1di8 7.2.1 四分之一波长规则 119 `@
FYkH 7.2.2 导纳图 120 AK#1]i~ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Z<4AL\l 98 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 x;')9/3 7.5 斜入射导纳图 141 ZW}_Qs 7.6 对称周期 141 Gbw2E&a |