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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) z%q)}$O Ajm 内容简介 :
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Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 J a7yq{j 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 V[;^{,; 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 $=9g,39 Yn_v'Os2 `C&@6{L
^Q#g-"b 目录 uPVO!`N3 Preface 1 &SW~4 {n: 内容简介 2 K'c[r0Ew 目录 i N|2PW ~, 1 引言 1 oFi_
op 2 光学薄膜基础 2 sTu]C +A 2.1 一般规则 2 zHX7%x,Cq 2.2 正交入射规则 3 .[:y`PCF 2.3 斜入射规则 6 @@3%lr71
2.4 精确计算 7 K2qKkV@ 2.5 相干性 8 6hO]eS 2.6 参考文献 10 Rn $TYCO 3 Essential Macleod的快速预览 10 r>lo@e0G 4 Essential Macleod的特点 32 TtWWq5X| 4.1 容量和局限性 33 B%I<6E[D 4.2 程序在哪里? 33 B'-n
^'; 4.3 数据文件 35 r'<!wp@ 4.4 设计规则 35 S[e> 8 4.5 材料数据库和资料库 37 -4v2] 4.5.1材料损失 38 #G]g 4.5.1材料数据库和导入材料 39 qQwf#& 4.5.2 材料库 41 O?f?{Jsx 4.5.3导出材料数据 43 f;%=S:3 4.6 常用单位 43 \'6%Ld5km 4.7 插值和外推法 46 pG^>y0 4.8 材料数据的平滑 50 >x*ef]aS 4.9 更多光学常数模型 54 `hDH7u!U. 4.10 文档的一般编辑规则 55 Pyp#'du> 4.11 撤销和重做 56 LO;6g~(1 4.12 设计文档 57 ID~}pEQ 4.10.1 公式 58 ncpNesB 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 GGU>={D) 4.10.3 沉积密度 59 /[I#3| 4.10.4 平行和楔形介质 60 KjK-#F,@ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 48)D%867.; 4.10.4 性能 61 cDq*B*e 4.10.5 保存设计和性能 64 &3|l4R\ 4.10.6 默认设计 64 bl-D{)X 4.11 图表 64 Zg3
/,:1 4.11.1 合并曲线图 67 VKcVwq 4.11.2 自适应绘制 68 pwVaSnre` 4.11.3 动态绘图 68 7;a 4.11.4 3D绘图 69 Z=beki] 4.12 导入和导出 73 G4^6o[ x 4.12.1 剪贴板 73 r8>Qs RnU% 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 fwi
- 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 y=2nV 4.13 背景 77 m>f8RBp]' 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 t]hfq~Ft 4.15 生成Rugate 84 EGzlRSgO 4.16 参考文献 91 ;+*/YTkC+P 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 _ZE&W 5.1 Jobs 92 s;#,c( 5.2 创建一个新Job(工作) 93 K?Jo"oy7 5.3 输入材料 94 \;1nEjIA 5.4 设计数据文件夹 95 @CS%=tE}U 5.5 默认设计 95 Pp.]/; 6 细化和合成 97 :Q}Zb,32 6.1 优化介绍 97 :)F0~Q 6.2 细化 (Refinement) 98 |#sY(1 6.3 合成 (Synthesis) 100 C8O<fwNM
6.4 目标和评价函数 101 RBpv40n0 6.4.1 目标输入 102 IM_SZs 6.4.2 目标 103 sZ0)f!aH:_ 6.4.3 特殊的评价函数 104 9?uU%9r5P 6.5 层锁定和连接 104 $ncP#6 6.6 细化技术 104 =
O|}R 6.6.1 单纯形 105 XHm6K1mGZ 6.6.1.1 单纯形参数 106 U2
Cmf 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 >]x%+@{| 6.6.2.1 Optimac参数 108 ^sF(IV[> 6.6.3 模拟退火算法 109 Nv=&gOy= 6.6.3.1 模拟退火参数 109 &kQj) 6.6.4 共轭梯度 111 Qx8O&C?Ti 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 h>A~yDT[ 6.6.5 拟牛顿法 112 xmejoOF 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 w3M F62: 6.6.6 针合成 113 F.AP)`6+* 6.6.6.1 针合成参数 114 4veXg/l 6.6.7 差分进化 114 G[]h1f! 6.6.8非局部细化 115 >VJ"e` 6.6.8.1非局部细化参数 115 ,U>G$G^ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 zqLOwzMlLx 6.7.1 细化 116 Bqw/\Lxwlf 6.7.2 合成 117 -HRa6 6.8 参考文献 117 _$yS4= . 7 导纳图及其他工具 118 'jYKfq~_cJ 7.1 简介 118 <m*j1|^{t 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 8peK[sz 7.2.1 四分之一波长规则 119 Ah;`0Hz; 7.2.2 导纳图 120 zor 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 f.:0T&%G 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 PJAM_K; 7.5 斜入射导纳图 141 [j?<& |