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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) QQg8+{> bH\'uaJ 内容简介 93W Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 T~i%j@Q.6 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 _pz,okO[V 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 KP[NuXA` heE}_,$| 54q4CagFq
HE#,(;1i 目录 h4hN1<ky\ Preface 1 K3vseor 内容简介 2 Usa+b
A 目录 i w5F4"nl#O} 1 引言 1 ]{f^;y8 2 光学薄膜基础 2 <Rcu%&;i 2.1 一般规则 2 s<[A0=LH 2.2 正交入射规则 3 *4<4 2.3 斜入射规则 6 o"rq/\ovv 2.4 精确计算 7 _j:UGMTi(U 2.5 相干性 8 [[:UhrH- 2.6 参考文献 10 f4]N0 3 Essential Macleod的快速预览 10 s kN9O"^A 4 Essential Macleod的特点 32 "+=Pp 4.1 容量和局限性 33 )y9 ;OA 4.2 程序在哪里? 33 "$XYIuT 4.3 数据文件 35 {Ge+O<mD
4.4 设计规则 35 yJ!OsD 4.5 材料数据库和资料库 37 0U$:>bQ 4.5.1材料损失 38 `I5O4|K) 4.5.1材料数据库和导入材料 39 (GCG/8s 4.5.2 材料库 41 _fcS>/<a 4.5.3导出材料数据 43 ?b||Cr 4.6 常用单位 43 rRB~=J" 4.7 插值和外推法 46 ~9Zh,p; 4.8 材料数据的平滑 50 ze`1fO|% 4.9 更多光学常数模型 54 J,f/fPaf7 4.10 文档的一般编辑规则 55 o^3FL||P#r 4.11 撤销和重做 56 \)ip>{WG 4.12 设计文档 57
qE )Y}oN 4.10.1 公式 58 $}t=RW 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 QE|`&~sme 4.10.3 沉积密度 59 !c% 4.10.4 平行和楔形介质 60 9YB2e84j 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 9B
/s 4.10.4 性能 61 qu_)`wB 4.10.5 保存设计和性能 64 cv}aS_`f 4.10.6 默认设计 64 tR kF
4.11 图表 64 &5?G-mn 4.11.1 合并曲线图 67 }g~g50ci 4.11.2 自适应绘制 68 >R!"P[* 4.11.3 动态绘图 68 3UdU"d[75 4.11.4 3D绘图 69 Q]@c&* _| 4.12 导入和导出 73 [F+(^- ( 4.12.1 剪贴板 73 e}c&LDgU 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 B`fH^N 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 o\Uu?.-< 4.13 背景 77 jpRBER_X 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 GcT;e5D 4.15 生成Rugate 84 F/>*Ifs 4.16 参考文献 91 lwc5S`" 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ;B~P>n}}_] 5.1 Jobs 92 (&jW}1D 5.2 创建一个新Job(工作) 93 zJ+3g! 5.3 输入材料 94 s=Df ` 5.4 设计数据文件夹 95 #)o7"PW: 5.5 默认设计 95 Z|G/^DK! 6 细化和合成 97 iK#/w1` 6.1 优化介绍 97 8V9[a*9 6.2 细化 (Refinement) 98 Oe51PEqn 6.3 合成 (Synthesis) 100 C-m*?))go 6.4 目标和评价函数 101 %Tv^GP{} 6.4.1 目标输入 102
.[?BlIlm 6.4.2 目标 103 8TE>IPjm 6.4.3 特殊的评价函数 104 .h4\{| 6.5 层锁定和连接 104 Bq@zaMv 6.6 细化技术 104 `9Yn0B. 6.6.1 单纯形 105 WF2NG;f= 6.6.1.1 单纯形参数 106 ]ab#q= 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 3uV4/%U 6.6.2.1 Optimac参数 108 2?W7I/F 6.6.3 模拟退火算法 109 |Y},V_@d 6.6.3.1 模拟退火参数 109 %y&]'A 6.6.4 共轭梯度 111 o:"anHs 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 j(eFoZz, 6.6.5 拟牛顿法 112 j?6X1cM q 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 wG1l+^p 6.6.6 针合成 113 er2cQS7R 6.6.6.1 针合成参数 114 06 i;T~Y 6.6.7 差分进化 114 \}5p0.= 6.6.8非局部细化 115 =wG+Ao 6.6.8.1非局部细化参数 115 7AwgJb hn 6.7 我应该使用哪种技术? 116 )}MHx`KT2 6.7.1 细化 116 ('C7=u&F 6.7.2 合成 117 oFDz;6 6.8 参考文献 117 kkS~4?-* 7 导纳图及其他工具 118 y<- _(^ 7.1 简介 118 e)H!uR 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 DWU`\9xA* 7.2.1 四分之一波长规则 119 /6KIl 7.2.2 导纳图 120 Pf<[|yu4? 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 =8Ehrlq 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 rY0u|8.5Q 7.5 斜入射导纳图 141 ^B/9{0n' 7.6 对称周期 141 hePPxKQ- 7.7 参考文献 142 Wht(O~F 8 典型的镀膜实例 143 g5Z#xszj+ 8.1 单层抗反射薄膜 145
X[](Kj^`< 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 4/e60jA 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 . ]@=es 8.4 W-膜层 148 C3'rtY. 8.5 V-膜层 149 17|np2~ 8.6 V-膜层高折射基底 150 +nL+N 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 $w#r"= ) 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 e`K)_>^n# 8.9 四层抗反射薄膜 153 (=4W-z7 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 5fJ[}~ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 $t~@xCi]S 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 l[GOs&D1 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 b'YE9E 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 \HZ9S= 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ?GA&f2]a 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 /)
4GSC}Gg 8.17 1/4波长堆栈 162 Wg`AZ=t 8.18 陷波滤波器 163 (u3s"I
d 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Y&HK |