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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 l\/uXP?
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7;I;(iY "X( 9.6$_ 任务描述 GI<3L K\
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 oO3X>y{gN Ueu~803~ 镀膜样品 qOTo p- 关于配置堆栈的更多信息。 HdR TdV 利用界面配置光栅结构 d4m@u$^1B 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 wX 4gyr - 涂层厚度：10纳米 dH kI9; - 涂层材料。二氧化硅 { .j030Q - 折射率：扩展的Cauchy模型。 6J]8BHJn+  R b_%vOM 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 fB)S: f| - 基板材料：晶体硅 KY%LqcC - 入射角度。75° &R))c|>OT& S^x?<kYQau  #Q1
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<^w4+5sT/ 椭圆偏振分析仪 aH&Efz^
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 Q-?6o uC! dy 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 >|pN4FS 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 hRNnj 6 u 9?
椭圆偏振分析仪 (]nX:t Y6` ^E
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(@Kc(>(: Y 总结 - 组件... ^&lkh@Y1q
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 z?t75#u9. ,B:r^(}0j  p Le[<N iOtf7.@ 椭圆偏振系数测量 =PjxMC._
1'%n?\OK66 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 HPX JRQBE
iHT=ROL
 =u`tlN5pOT ;YZ'd"0v 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 iEx4va-j
FEi@MJ J\e
 $>zqCi2tB< LMNm G]#! 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 T7^?j :kJ/
[ut[W9 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 #fDM{f0]R 5 FE&
 _`. Q7 * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) NcX`*18 hGcu(kAC, 仿真结果与参考文献的比较 I 9<%fv
TU*Y?D
L 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 E"7[|-`e6
{TvB3QOsj
 x@@bC=iY$ qJJ}, 4} VirtualLab Fusion技术 qFI19`?8E
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