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时间地点 ECSC,oJ 主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司
h!Q>h7 协办单位:苏州黉论教育咨询有限公司 49#-\=<gt 授课时间:随时随地学习 :#L B}=HQ 授课地点:黉论教育网校 givK{Yt<B 课程费用:4500 元(包含课程材料费、开票税金) l-Xxv 授课讲师:讯技光电高级工程师 $wN .~"T 学员要求:不需要任何软件基础 !kIw835U U-k;kmaj 课程简介 8t^"1ND 当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用 IM#+@vv 所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如 E`s_Dr}K 高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是 42C:cl} ." 截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需 PQ[TTLG\& 要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化,设计好之后,即刻进行 tyDtwV| 制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到, Zb1v 则要修改设计,重新分析直到合格为止。 oO|^ [b# 课程涵盖 Macleod 软件所有模块、光学薄膜膜系设计与优化方法。培训期间 s,}<5N]U 针对实例,演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员 z=xHk|+' 快速知悉软件的各项功能的同时,并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜 y,
Z#?O 领域的具体应用。 X}!_p& WI >hhd9 Cse0!7_T 课程大纲: J8%|Gd0#4 1. 软件基础入门 xvkof
'Q) 软件简介 b^xf,`D 软件计算方法简介 OBZ |W**N" 程序基本框架和全局参数设置 GGBe/X 程序中使用的各种术语的定义 ZJ4"QsF 2. 图表 .xx#>Y-\ 绘图和制表来表示性能3D 绘图-用两个变量绘图表示性能 oaKf{$vg 交互式绘图的使用 X1-s,[j' 3. 材料管理 Z:*U/_G 材料的获取 GBQb({ 材料的导入与导出 daorKW4 材料数据平滑与插值 9,Mp/.T" \ 用包络法推导介质膜的光学常数 e%P;Jj476 利用光谱仪的测量值计算基底光学常数 `~}7k)F( 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) w0IB8GdF 4. 薄膜设计与优化简介 =?lT&|" 优化与合成功能说明 @v'D9 ? 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate zbR.Lb Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local) EH3G|3^xz 膜层锁定和链接 0
mQ3P.9 减反膜优化 &SM$oy#? 高反膜优化 ]UI+6}r 滤光片优化 !$?@;}= 斜入射光学薄膜 <7 rK 5. 反演工程 JA}'d7yEa 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差) vP4Ij 使用反演工程来控制对设计的搜索,该设计代表实际生产的产品 @}Ixr{t 6. 分析工具 [0LqZ<\5 颜色模型和分析工具 aC},h 公差工具和良品率预估 h=tu+pn 灵敏度分析 qIT{` hX \,EPsQV0? 7. 附加模块-Vstack U{_s1 非平行平面镀膜 EVL;" 棱镜镀膜透反吞吐量评估8. 附加模块-DWDM 8?YW i 光通信用窄带滤光片模拟 S=g-&lK 9. 附加模块-Runsheet&Simulator ]*@$%iCPE 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 J){\h-4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 QT$1D[> ,OCTm%6e 10. 附加模块-Function {|h"/ 如何在 Function 中编写脚本 ?>8zU;Aj 案例:自定义画图 T/;hIX:R 案例:太阳能抗反射薄膜分析 <`3(i\-X 案例:膜厚变化颜色变化 C6M/$_l&a }Yl=lcvw
D.o|($S0 XgKG\C=3 对此课程有兴趣可以扫码加微联系
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