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时间地点 T^.;yU_B? 主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 #ky]@vyO 协办单位:苏州黉论教育咨询有限公司 #12 授课时间:随时随地学习 /T&z
:st0 授课地点:黉论教育网校 mpfc2>6Il. 课程费用:4500 元(包含课程材料费、开票税金) Lh.?G#E M 授课讲师:讯技光电高级工程师 _ #]uk&5a 学员要求:不需要任何软件基础 !dQG 5v \x?q!(;G2 课程简介 OCmF/B_ 当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用 q8%T)$! 所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如 !wy
Qk 高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是 >MD['=J[d 截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需 epM;u 要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化,设计好之后,即刻进行 A_3V1<J`] 制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到, a_Y*pOu 则要修改设计,重新分析直到合格为止。 R!IODXP= 课程涵盖 Macleod 软件所有模块、光学薄膜膜系设计与优化方法。培训期间 1sp>UBG 针对实例,演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员 SXkUtY$ 快速知悉软件的各项功能的同时,并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜 W FVx7 领域的具体应用。
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+T(73 课程大纲: [@d$XC]Qz 1. 软件基础入门 5u
+U^D 软件简介 }= OI (Wy 软件计算方法简介 BUT{ }2+K 程序基本框架和全局参数设置 Sc03vfmo"N 程序中使用的各种术语的定义 e0iE6:i 2. 图表 =kvfe" N0e 绘图和制表来表示性能3D 绘图-用两个变量绘图表示性能 qW*JB4`?a 交互式绘图的使用 lnuf_;0 3. 材料管理 F:nhSd 材料的获取 H]&a}WQ_ 材料的导入与导出 tGHZU^B:} 材料数据平滑与插值 k L\;90 用包络法推导介质膜的光学常数 9gP-//L@
利用光谱仪的测量值计算基底光学常数 u[nx?! 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) q =sEtH=
4. 薄膜设计与优化简介 sb"z=4 优化与合成功能说明 '&/ 35d9|* 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate x\taG.'zX Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local) $:IOoS|e 膜层锁定和链接 Ip#BR!$n 减反膜优化 }uWIF|h~ 高反膜优化 %Jy0?W N 滤光片优化 Q72}V9I9 斜入射光学薄膜 o5=1 5. 反演工程 TG4?"0`I5 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差) &+V6mH9m@ 使用反演工程来控制对设计的搜索,该设计代表实际生产的产品 "|P8L|
@* 6. 分析工具 wdS4iQD 颜色模型和分析工具 lAjP'( 公差工具和良品率预估 q@K8,=/.# 灵敏度分析 {Up@\M l2&cwjc 7. 附加模块-Vstack &o{= 非平行平面镀膜 ;',hwo_LBf 棱镜镀膜透反吞吐量评估8. 附加模块-DWDM 4n6EkTa 光通信用窄带滤光片模拟 &5JTcMC^ 9. 附加模块-Runsheet&Simulator M "QT(u+ 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 tQ!p<Q=
$) 镀膜沉积过程噪声信号模拟 dkTewT6'
z&fXxp |