-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-05-13
- 在线时间1972小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
~{]m8a/ `6 内容简介 p|O-I&Xd Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 pZ|nn 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 5qAE9G!c 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ?28G6T]/?d dpOL1rrE 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 'E6gEJ 目录 vp}>#& Preface 1 cDh4@V 内容简介 2 '-1jWw:8 目录 i 5a/
A_..+I 1 引言 1 nm%4L 2 光学薄膜基础 2 d)J] Y=j 2.1 一般规则 2 9p0HFri[ 2.2 正交入射规则 3 onypwfIk)t 2.3 斜入射规则 6 ObHz+qRG 2.4 精确计算 7 07WIa@Q 2.5 相干性 8 QH?2v 2.6 参考文献 10 WaZ@ 3 Essential Macleod的快速预览 10 tS.b5$Q 4 Essential Macleod的特点 32 J*4_|j;Z-E 4.1 容量和局限性 33 *ytd.^@r 4.2 程序在哪里? 33 Gpp}Jpj 4.3 数据文件 35 sOtNd({ 4.4 设计规则 35 )<&CnK 4.5 材料数据库和资料库 37 4!b'%) 4.5.1材料损失 38 M97p.; ; 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ^Y*.Ktp,o 4.5.2 材料库 41 1*`JcUn,> 4.5.3导出材料数据 43 ,IX4Zo"a 4.6 常用单位 43 t6>Qe 4.7 插值和外推法 46 RgzSaP;; 4.8 材料数据的平滑 50 M#jee E-}% 4.9 更多光学常数模型 54 Sy7^;/(ZZ 4.10 文档的一般编辑规则 55 VlXy&oZ 4.11 撤销和重做 56 dCJR,},\f 4.12 设计文档 57 /01(9( 4.10.1 公式 58 Qmh(+-Mp( 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 vWfef~}~ 4.10.3 沉积密度 59 l4.@YYzbp. 4.10.4 平行和楔形介质 60 n7YWc5:CaL 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 :usBeho 4.10.4 性能 61 u KdX4 4.10.5 保存设计和性能 64 /P:WQ* 4.10.6 默认设计 64 9'L0Al~L 4.11 图表 64 @T=HcUP) 4.11.1 合并曲线图 67 &=t(NI$ 4.11.2 自适应绘制 68 U=1`. Ove 4.11.3 动态绘图 68 .&!{8jBX 4.11.4 3D绘图 69 |4*2xDcl 4.12 导入和导出 73 K OHH74}_ 4.12.1 剪贴板 73 oUS>p" : 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ) x O_ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 -Ce4px?3 4.13 背景 77 ?d`+vHK]> 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /M
c"K 4.15 生成Rugate 84 ^)]*10 4.16 参考文献 91 Z8_gI[Zn 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 X{5 DPhB, 5.1 Jobs 92 ><[. 5.2 创建一个新Job(工作) 93 `-`iS? 5.3 输入材料 94 %l P 5.4 设计数据文件夹 95 bM_(`]&* 5.5 默认设计 95 . T>}O0L" 6 细化和合成 97 J]YN2{(x 6.1 优化介绍 97 2gI_*fG1 6.2 细化 (Refinement) 98 C3h!?5 6.3 合成 (Synthesis) 100 Qy,qQA/ 6.4 目标和评价函数 101 i*E`<9 6.4.1 目标输入 102 <"P
'"SC 6.4.2 目标 103 xR%ayT. 6.4.3 特殊的评价函数 104 hWe}(Ks 6.5 层锁定和连接 104 Lj AIB(* 6.6 细化技术 104 l[0P*(I, 6.6.1 单纯形 105 [gY__ 6.6.1.1 单纯形参数 106 r1?FH2Ns 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 vrDRSc6_ 6.6.2.1 Optimac参数 108 ~7H.<kJt 6.6.3 模拟退火算法 109 Q]:%Jj2 6.6.3.1 模拟退火参数 109 DfFPGFv 6.6.4 共轭梯度 111 Q 8E~hgO 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 i^KYZ4/% 6.6.5 拟牛顿法 112 p&M'DMj+ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 UAO#$o( 6.6.6 针合成 113 !/Ps}.)A` 6.6.6.1 针合成参数 114 R?Q-@N>wE 6.6.7 差分进化 114 3k0%H]wt 6.6.8非局部细化 115 T#f@8 -XUE 6.6.8.1非局部细化参数 115 mR@Xt# 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ><7`$ 2Or 6.7.1 细化 116 SX,zJ`" 6.7.2 合成 117 VMXXBa& 6.8 参考文献 117 J>PV{N 7 导纳图及其他工具 118 ,99G2Ev4c 7.1 简介 118 m%\[1|N 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 H
>{K]7D/y 7.2.1 四分之一波长规则 119 9Q1GV>j>B 7.2.2 导纳图 120 `roSOX1f 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 /Q_\h+` 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 kl9z;(6p 7.5 斜入射导纳图 141 3dphS ^X 7.6 对称周期 141 $O-, :<HY 7.7 参考文献 142 K),wAZI!7j 8 典型的镀膜实例 143 rT) R*3 8.1 单层抗反射薄膜 145 ]~ M
-KT 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 dfcG'+RU} 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 :wAB"TCt0 8.4 W-膜层 148 A UV$ S2 8.5 V-膜层 149 k~dr;j 8.6 V-膜层高折射基底 150 .>&fwG 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 OK}"|:hrd 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 #"JU39e 8.9 四层抗反射薄膜 153 YPEd
XU8} 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Shd,{Z)-Tg 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 xGA0]
_ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Qd?P[xm 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ;N|>pSzmL 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ^IYN"yX_ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 uSjMqfK 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 RGLqn{< |