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F~z4T/TN%G 内容简介 8q}`4wCD$ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 {'EQ%H$q 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 3<#4 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 C {gYrz) mam|aRzd 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 r>A,7{ 目录 OV^)
N Preface 1 l. !5/\ 内容简介 2 LQ373
j- 目录 i yLG`tU1 1 引言 1 T ^%$ 2 光学薄膜基础 2 PG+ICg 2.1 一般规则 2 J_<ENs- 2.2 正交入射规则 3 @'jC>BS8` 2.3 斜入射规则 6 cea%M3 2.4 精确计算 7 &qF 2.5 相干性 8 pd/{yX M 2.6 参考文献 10 r^q@rL> 3 Essential Macleod的快速预览 10 !ku5P+y$ 4 Essential Macleod的特点 32 tFO86 !ln 4.1 容量和局限性 33 Sc`W'q^X 4.2 程序在哪里? 33 P]bI".A8 4.3 数据文件 35 IEmtt^C 4.4 设计规则 35 d*4fl. 4.5 材料数据库和资料库 37 *&^`Uk,[ 4.5.1材料损失 38 9YwK1[G6/ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Yx>=(B 4.5.2 材料库 41 VMe~aUd 4.5.3导出材料数据 43 T&j_7Q\;vI 4.6 常用单位 43 +Gg6h=u 4.7 插值和外推法 46 y?zNxk/p 4.8 材料数据的平滑 50 Rbm"Qz 4.9 更多光学常数模型 54 ~kj1L@gy 4.10 文档的一般编辑规则 55 !/[/w39D0o 4.11 撤销和重做 56 =I-SQI8 4.12 设计文档 57 'x$>h)t] 4.10.1 公式 58 8F9sKRq|rO 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ]_G!(`Udh 4.10.3 沉积密度 59 :}i
#ODJ 4.10.4 平行和楔形介质 60 Xb@lKX5Re 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 tg_v\n 4.10.4 性能 61 j,?>Q4G 4.10.5 保存设计和性能 64 .BuXg<` 4.10.6 默认设计 64 w)2X0ev" 4.11 图表 64 (&npr96f 4.11.1 合并曲线图 67 sG!SSRL@ 4.11.2 自适应绘制 68 _l<e>zj 4.11.3 动态绘图 68 KP(RK4F 4.11.4 3D绘图 69 7^>UUdk( 4.12 导入和导出 73 RP?UKOc 4.12.1 剪贴板 73 @zSI@Oq_ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ~G+o;N,V 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 eo.y,U h 4.13 背景 77 ?j6?KR@# 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 |j3mI\ANF 4.15 生成Rugate 84 A%qlB[!: 4.16 参考文献 91 )u ) ]#z 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 PQ9.aJdw@- 5.1 Jobs 92 ;4tmnC>OnA 5.2 创建一个新Job(工作) 93 2Z!%Q}Do 5.3 输入材料 94 \D}K{P 5.4 设计数据文件夹 95 MBXja#(k 5.5 默认设计 95 n#8N{ya5x1 6 细化和合成 97 Vj(}'h-c\ 6.1 优化介绍 97 mF7T=pl 6.2 细化 (Refinement) 98 G9"2h
\ 6.3 合成 (Synthesis) 100 a"ZBSg( 6.4 目标和评价函数 101
Q}.zE+ 6.4.1 目标输入 102 l?F-w;wHN 6.4.2 目标 103 >T:
Yp< 6.4.3 特殊的评价函数 104 Z:7X=t= 6.5 层锁定和连接 104 =
zJY5@^'7 6.6 细化技术 104 K89 AZxH 6.6.1 单纯形 105 m/vwM" 6.6.1.1 单纯形参数 106 [+dOgyK 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ozv:$>v@" 6.6.2.1 Optimac参数 108 f7NK0kuA 6.6.3 模拟退火算法 109 OT/*|Pn9 6.6.3.1 模拟退火参数 109 #Q320}]{ 6.6.4 共轭梯度 111 s2s}5b3 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 TNs;#Q 6.6.5 拟牛顿法 112 ]"? +R+ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 H=Sy. 6.6.6 针合成 113 ?fF{M%i-% 6.6.6.1 针合成参数 114 '!Gnr[aR 6.6.7 差分进化 114 kH$)0nK 6.6.8非局部细化 115 ~Mu=,OT 6.6.8.1非局部细化参数 115 iX
;E"ov] 6.7 我应该使用哪种技术? 116 svki=GD_(. 6.7.1 细化 116 l{OU\ 6.7.2 合成 117 H3<
` 6.8 参考文献 117 Q?]307g7 7 导纳图及其他工具 118 V-rzn171Q) 7.1 简介 118 aI @&x 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 =<~/U? 7.2.1 四分之一波长规则 119 HivmKn` 7.2.2 导纳图 120
--Dd' 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 e]N?{s
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 m#y?k1GY 7.5 斜入射导纳图 141 uEp
v l 7.6 对称周期 141 Z[+H$ =$% 7.7 参考文献 142 gHCk;dmq81 8 典型的镀膜实例 143 J*@(rb#G 8.1 单层抗反射薄膜 145 |4RuT
.-o 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 eq>E<X#< 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 E*rnk4Y 8.4 W-膜层 148 %*4Gx +b 8.5 V-膜层 149 %) A-zzj 8.6 V-膜层高折射基底 150 /y2upu*! 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 '& |