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hU+#S(t>b 内容简介 J[o${^ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ck~ '`<7 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 H<z30r/-w 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 GZ,j?@ w= B 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 #:I^&~:
目录 4K'|DO|dH Preface 1 C=s((q* 内容简介 2 -s33m]a; 目录 i :SdIU36 1 引言 1 ,i;9[4QMX 2 光学薄膜基础 2 R/rcXX7% 2.1 一般规则 2 qw)Key 2.2 正交入射规则 3 x' ?.~ 2.3 斜入射规则 6 /t5g"n3 2.4 精确计算 7 Ga?UHw~ 2.5 相干性 8 7s!AHyZ 2.6 参考文献 10 @21u I{ 3 Essential Macleod的快速预览 10 bsMC#xT 4 Essential Macleod的特点 32 KG-UW 4.1 容量和局限性 33 wNbTM.@ 4.2 程序在哪里? 33 VrudR#q 4.3 数据文件 35 Ipg\9*c` 4.4 设计规则 35 FfjC
M7? 4.5 材料数据库和资料库 37 y^, "gD 4.5.1材料损失 38 {#0Tl 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ^`/V i 4.5.2 材料库 41 ud.poh~| 4.5.3导出材料数据 43 EI<"DB 4.6 常用单位 43 svF*@(-P# 4.7 插值和外推法 46 Q.<giBh 4.8 材料数据的平滑 50 @ljZw( 4.9 更多光学常数模型 54 s^obJl3 4.10 文档的一般编辑规则 55 Hc>([?P%t 4.11 撤销和重做 56 E=A/4p6\$ 4.12 设计文档 57 l(.7t' 4.10.1 公式 58 Mi<*6j0 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 KqFmFcf| 4.10.3 沉积密度 59 X3<SP 4.10.4 平行和楔形介质 60 20n%o&kG]8 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Qz'O{f 4.10.4 性能 61 3HXh6( e 4.10.5 保存设计和性能 64 Qb@BV&^y& 4.10.6 默认设计 64 l
DgzM3 4.11 图表 64 ;.L!%$0i# 4.11.1 合并曲线图 67 Ni&,g 4.11.2 自适应绘制 68 bx1G
CD 4.11.3 动态绘图 68 :U7;M}0 4.11.4 3D绘图 69 kg zwlKK 4.12 导入和导出 73 )x y9X0 4.12.1 剪贴板 73 UzXDi#Ky 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 4GEjW4E 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 <<i=+ed8eP 4.13 背景 77 t!NrB X 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 %`bLmfm 4.15 生成Rugate 84 }o~Tw?z-| 4.16 参考文献 91 L!`*R)I45 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 _.u~)Q`6 5.1 Jobs 92 :/ ~):tM 5.2 创建一个新Job(工作) 93 rD_Ss.\^g 5.3 输入材料 94 D
"JMSL4r 5.4 设计数据文件夹 95 Z?5,cI[6# 5.5 默认设计 95 .n?5}s+q 6 细化和合成 97 ^Z#<tN; 6.1 优化介绍 97 SZNFE 6.2 细化 (Refinement) 98 >eTf}#s?S 6.3 合成 (Synthesis) 100 dP$y>%cB 6.4 目标和评价函数 101 *9\oD~2Y 6.4.1 目标输入 102 8Ng))7g! 6.4.2 目标 103 %w;1*~bH 6.4.3 特殊的评价函数 104 fJ,8g/f8 6.5 层锁定和连接 104 :0i#=ODR 6.6 细化技术 104 K+(m'3` 6.6.1 单纯形 105 y}s
0J K 6.6.1.1 单纯形参数 106 eW<!^Aer 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 (\5<GCW- 6.6.2.1 Optimac参数 108 1',+&2)oj 6.6.3 模拟退火算法 109 bvt-leA= 6.6.3.1 模拟退火参数 109 "Wzij&WkQ 6.6.4 共轭梯度 111 T#ecLD# 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Ktj(&/~} 6.6.5 拟牛顿法 112 c~Q`{2%+ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 rElG7[+)p 6.6.6 针合成 113 KyVe0>{_u 6.6.6.1 针合成参数 114 Xmw2$MCB 6.6.7 差分进化 114 l%v hV& 6.6.8非局部细化 115 n=<q3}1Jej 6.6.8.1非局部细化参数 115 9}7oKlyk 6.7 我应该使用哪种技术? 116 6"#Tvj~-8 6.7.1 细化 116 B)LXxdkOn 6.7.2 合成 117 *GY,h$Ul 6.8 参考文献 117 y"{UNM|R 7 导纳图及其他工具 118 dW] Ej"W 7.1 简介 118 5Lo==jHif 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 -0[>}!l=G 7.2.1 四分之一波长规则 119 [xH2n\7 7.2.2 导纳图 120 EV;;N 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 7ipY*DT8 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ?L.p9o-S0 7.5 斜入射导纳图 141 ixUiXP 7.6 对称周期 141 >Kqj{/SWK 7.7 参考文献 142 2n\i0?RD 8 典型的镀膜实例 143 O>{t}6o 8.1 单层抗反射薄膜 145 D0"yZp} 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 JN9H T0 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 cc#_acR 8.4 W-膜层 148 )Q N=>J 8.5 V-膜层 149 a-o
hS=W 8.6 V-膜层高折射基底 150 k/6Gj}l'o 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 SK~;<>:37 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 s;=J'x)~% 8.9 四层抗反射薄膜 153 9=sMKc%!- 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Y?q*hS0!H 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ^U|CNB%. 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 m78MWz]Yo 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 knj,[7uh 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 S
-mz xj 8.15十五层宽带抗反射膜 159 aF_ZV bS 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 (*@~HF,t= 8.17 1/4波长堆栈 162 7kew/8- 8.18 陷波滤波器 163 & |