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时间地点 VL@eR9}9K 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司 BWG#W C 协办单位：苏州黉论教育咨询有限公司 -*0U&]T 授课时间：随时随地学习 -* piC( 授课地点：黉论教育网校 $tca:
b}Mk 课程费用：4500 元（包含课程材料费、开票税金） } |? W 授课讲师：讯技光电高级工程师 Mr yY<s 学员要求：不需要任何软件基础 OR-fC ~`CWpc: 课程简介 ]n&Eb88 当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用 >}!})]Xw9 所需的基板，镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如 r=^ ? 高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是 W"H*Ad(V 截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需 `Ct fe8 要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化，设计好之后，即刻进行 .h ytn`+9 制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到， ~*^aCuq\ 则要修改设计，重新分析直到合格为止。 " s
rRlu 课程涵盖 Macleod 软件所有模块、光学薄膜膜系设计与优化方法。培训期间 {P
$sQv 针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员 Ab)X/g-I @ 快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜 6 #Afj0 领域的具体应用。 &-M}:'  lX|d:HFtP LRmH@-qP 课程大纲： ^@ n?& 1. 软件基础入门 3Ay<2v 软件简介 Y.v. EZ 软件计算方法简介 2:Q2w3 Xe 程序基本框架和全局参数设置 )U u! x6 程序中使用的各种术语的定义 `l`)Cs;a 2. 图表 KM ogwulG 绘图和制表来表示性能3D 绘图-用两个变量绘图表示性能 nkTu/)or 交互式绘图的使用 _|vY)4B 4U 3. 材料管理 QwgP+ M+ 材料的获取 n0%]dKCB 材料的导入与导出 3YOYlb %j 材料数据平滑与插值 f" g-Hbl5 用包络法推导介质膜的光学常数 _ -C{:rV 利用光谱仪的测量值计算基底光学常数 +{p S2I}d 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) `oGL== 4. 薄膜设计与优化简介 Avn)%9 优化与合成功能说明 0GP\*Y8 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate ;dE'# Kb Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local) tg' 2 v/ 膜层锁定和链接 hNF. 减反膜优化 Yl0_?.1 z 高反膜优化 b1ma(8{{{ 滤光片优化 JUlCj #% 斜入射光学薄膜 !f! HVna 5. 反演工程 i*ErxWzu 镀膜过程中两种主要的误差（系统误差和随机误差） = & =#G3f 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品 wwD?i.3 6. 分析工具 Rx%SeM 2 颜色模型和分析工具 &'d3Yt 公差工具和良品率预估 :B"Y3~I 灵敏度分析 KBkS>0;X  nN$aZSb` 7. 附加模块-Vstack < k?jt 非平行平面镀膜 kcN# g- 0 棱镜镀膜透反吞吐量评估8. 附加模块-DWDM 1a>TJdoa 光通信用窄带滤光片模拟 b'$fr6"O1 9. 附加模块-Runsheet&Simulator OX[pK_:`l 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 )=@ SA`J 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ]'!$T72 ( !=^ (Nd 10. 附加模块-Function ?A`8c R=)I 如何在 Function 中编写脚本
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=^ 案例：自定义画图 c6_i~0W56 案例：太阳能抗反射薄膜分析 2{fPQQ ;# 案例：膜厚变化颜色变化 %AnqT|\#, yTwtGo&
;j^C35 有兴趣可以扫码加微联系 ?'I pR bfl%yGkd/| -J\R}9 lIm
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