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时间地点 &dmIv[LU 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司 "#7Q} d!x 协办单位：苏州黉论教育咨询有限公司 r"h09suZBW 授课时间：随时随地学习 F1- "yX1B 授课地点：黉论教育网校 W,Q>3y* 课程费用：4500 元（包含课程材料费、开票税金） xZ;eV76 授课讲师：讯技光电高级工程师 SM
RKEPwp& 学员要求：不需要任何软件基础 LTo!DUi` YjTr49Af0 课程简介 A o` e{ 当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用 jLI1Ed 所需的基板，镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如 WKlqm)m@ 高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是 f>C+ l( 截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需 $p0D9mF 要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化，设计好之后，即刻进行 mhhc}dS(H 制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，
(Z?f eUxp 则要修改设计，重新分析直到合格为止。 n/Fxjf0W
课程涵盖 Macleod 软件所有模块、光学薄膜膜系设计与优化方法。培训期间
#iv4L 针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员 t`|Rn9- 快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜 ,
otXjz 领域的具体应用。 85Yi2+8f4  qg`ae OF ']- 课程大纲： &`n:AR` 1. 软件基础入门 c|9g=DjK 软件简介 Ew
PJ|Z^ 软件计算方法简介 XdV>6<gf{
程序基本框架和全局参数设置 ~zac.:a8 程序中使用的各种术语的定义 juWXB+d2Y 2. 图表 __$ ;Z 绘图和制表来表示性能3D 绘图-用两个变量绘图表示性能 =UK:83R( 交互式绘图的使用 *kK +Nvt8s 3. 材料管理 w/ ( T 材料的获取 L3wj vq^ 材料的导入与导出 8gE p5 材料数据平滑与插值 Y_ne?/sZE 用包络法推导介质膜的光学常数 C za }cF 利用光谱仪的测量值计算基底光学常数 y|MhV/P04 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) fDB. r$|d 4. 薄膜设计与优化简介 ~< UYJc 优化与合成功能说明 >\pF5a` 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate
gvo98Id Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local) X{V s 膜层锁定和链接 ,z#D[5 减反膜优化 Khi6z& B 高反膜优化 v+Y^mV`| 滤光片优化 >m1b/J3# 斜入射光学薄膜 R+uZi~ 5. 反演工程 T|S-?X, 镀膜过程中两种主要的误差（系统误差和随机误差） hkb\ GcOj 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品 vW*Mf}= 6. 分析工具 R-Lpgi<a" 颜色模型和分析工具 gE @Pb 公差工具和良品率预估 )hO%W| 灵敏度分析 DKMkCPX%  RbxQTM_:M 7. 附加模块-Vstack Z9 ws{8@_ 非平行平面镀膜 k n>qX{W 棱镜镀膜透反吞吐量评估8. 附加模块-DWDM &XC d2 光通信用窄带滤光片模拟 >E4,zs@7t 9. 附加模块-Runsheet&Simulator p2b~k[ 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Gd\ /n*j 镀膜沉积过程噪声信号模拟 8h| } Q _ <BBzv -?D 10. 附加模块-Function ]SU)L5Dt; 如何在 Function 中编写脚本 $X)|`$#pL# 案例：自定义画图 _)Txg2?= 案例：太阳能抗反射薄膜分析 UIf#Gy|l 案例：膜厚变化颜色变化 W QVU 82b* Rh"O$K~
>T [ Y> ] 有兴趣可以扫码加微联系 g]z k` R5 8 NNh8k#6 cOpe6H6,bz
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