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时间地点 aJ% e'F[ 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司 deHY8x5uI 协办单位：苏州黉论教育咨询有限公司 AW]("pt 授课时间：随时随地学习 t
Qp* ' 授课地点：黉论教育网校 Y^T-A}?` 课程费用：4500 元（包含课程材料费、开票税金） ^O N-# 授课讲师：讯技光电高级工程师 <7@mg/T 学员要求：不需要任何软件基础 MM/BJ M ^ 0w/ 课程简介 g%Th_= qy 当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用 mNGb}
lR 所需的基板，镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如 q YQUr8{ 高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是 zDKLo 3: 截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需 O1l4gduN|i 要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化，设计好之后，即刻进行 *S,v$ VX 制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到， =<Zwv\U 则要修改设计，重新分析直到合格为止。 (e>RNn\ 课程涵盖 Macleod 软件所有模块、光学薄膜膜系设计与优化方法。培训期间 8H HgN`_ 针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员 =k[(rvU3 快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜 mkKRC; 领域的具体应用。 !W (/Y9g#  H CfS )` #S/ pYP`7 课程大纲： \H"/2o%l") 1. 软件基础入门 L|dab {9 软件简介 )dUd `g 软件计算方法简介 *m `KU+o-u 程序基本框架和全局参数设置 z|oA{VxW> 程序中使用的各种术语的定义 (2hk < 2. 图表 vV\/pu8 绘图和制表来表示性能3D 绘图-用两个变量绘图表示性能 B h.6:9{ 交互式绘图的使用 >@q2FSMf 3. 材料管理 )w3XN A_V 材料的获取 Q_UCF'f;} 材料的导入与导出 l7=$4As/hI 材料数据平滑与插值 O sHkAI 用包络法推导介质膜的光学常数 +J}k_'4& 利用光谱仪的测量值计算基底光学常数 {HE.mHy 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) qHcY
2LV 4. 薄膜设计与优化简介 ^5^
zo~^o 优化与合成功能说明 z[<pi : 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate 1.u gXD Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local) sf|_2sI 膜层锁定和链接 q=j/s4~ 减反膜优化 oe RYyJ 高反膜优化 J$e Z Lj 滤光片优化 '/ ]fZ| 斜入射光学薄膜 _bvtJZ3i 5. 反演工程 eO"\UDBV 镀膜过程中两种主要的误差（系统误差和随机误差） XO8 H] 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品 ~Krg8s!F& 6. 分析工具 iNa C ZC 颜色模型和分析工具 b5iJ m- 公差工具和良品率预估 =Un 6|] 灵敏度分析 d}^ :E  }I'>r(K 7. 附加模块-Vstack }f0^9( 非平行平面镀膜 - * -zU#2| 棱镜镀膜透反吞吐量评估8. 附加模块-DWDM F".IB^} $ 光通信用窄带滤光片模拟 6A{s%v H 9. 附加模块-Runsheet&Simulator ^LQ lfd 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ?\/dfK:! 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Y/Gswcz /Va&k4 10. 附加模块-Function *T}dv)8 如何在 Function 中编写脚本 lk *QV 案例：自定义画图 z|4@nqqX 案例：太阳能抗反射薄膜分析 3YZ3fhpw 案例：膜厚变化颜色变化 Dv\:b* P\G C8KV]
J*W;{Vty 有兴趣可以扫码加微联系 <:_]Yl B39PD J]hu ~wd?-$;070
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