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英文原厂售价100美金,中文版598元 ]KK`5Dv|,e y;`eDS'0.N 02b6s&L 内容简介 QTJu7^O9 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 {[OwMk 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 IM(u<c$ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~9M!)\~ {[#(w75R{ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 #6> 6S;Ib 目录 yXfMzG Preface 1 6SEltm( 内容简介 2 [1Dm<G
u@ 目录 i "ED8z|]j 1 引言 1 RI.2F*| 2 光学薄膜基础 2 2<W&\D o@ 2.1 一般规则 2 POd/+e9d 2.2 正交入射规则 3 Eu<r$6Q0}o 2.3 斜入射规则 6 Bq}x9C&< 2.4 精确计算 7 F+aQ $pQ 2.5 相干性 8 J\`^:tcG 2.6 参考文献 10 mUXk9X%n 3 Essential Macleod的快速预览 10 Gp2!xKgm 4 Essential Macleod的特点 32 }[=YU%[o: 4.1 容量和局限性 33 HtBF=Boq 4.2 程序在哪里? 33 zQfkMa. 4.3 数据文件 35 S`g;Y
' 4.4 设计规则 35 szq+@2: 4.5 材料数据库和资料库 37 @p!Q1-] = 4.5.1材料损失 38 Z7#7N wy4 4.5.1材料数据库和导入材料 39 -F`he=Ev9 4.5.2 材料库 41 ;;#nV$ 4.5.3导出材料数据 43 kK[duW=6 4.6 常用单位 43 h}Ygb-uZ 4.7 插值和外推法 46 ([pSVOnIz 4.8 材料数据的平滑 50 \ lr/;-zP 4.9 更多光学常数模型 54 :t$A8+A+0 4.10 文档的一般编辑规则 55 JZx%J) 4.11 撤销和重做 56 A~71i& 4.12 设计文档 57 ;h=S7M9. 4.10.1 公式 58 2P}I'4C- 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 PZOORjF8A 4.10.3 沉积密度 59 uw_?O[ZA[ 4.10.4 平行和楔形介质 60 aqL<v94wX 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 $Z6D:"K 4.10.4 性能 61 i\x~iP&F$ 4.10.5 保存设计和性能 64 ^Q2ZqAf^a 4.10.6 默认设计 64 ?!S
GiARW? 4.11 图表 64 &9P<qU^N) 4.11.1 合并曲线图 67 /$`;r2LG 4.11.2 自适应绘制 68 uWc: jP 4.11.3 动态绘图 68 @PXXt# 4.11.4 3D绘图 69 >>V&yJ_ 4.12 导入和导出 73 j#igu#MB* 4.12.1 剪贴板 73 JMsHK,( 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 |5ONFde"0 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 P|}\/}{` 4.13 背景 77 I' A:J 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 g!^J ,e= 4.15 生成Rugate 84 ,}7_[b)&V 4.16 参考文献 91 Gpu_=9vzv 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Czu1 )y 5.1 Jobs 92 y4<+- 5.2 创建一个新Job(工作) 93 (,tHL 5.3 输入材料 94 +Jq`$+%C 5.4 设计数据文件夹 95 \(u@F<s- 5.5 默认设计 95 K%2I 6 细化和合成 97 w2Kq(^? 6.1 优化介绍 97 Xw(3j)xQ 6.2 细化 (Refinement) 98 /0\QL+^! 6.3 合成 (Synthesis) 100 BE4\U_]a3 6.4 目标和评价函数 101 rw*M&qg!z 6.4.1 目标输入 102 Czh8zB+r 6.4.2 目标 103 C'<'7g4 6.4.3 特殊的评价函数 104 e6m1NH4, 6.5 层锁定和连接 104 lC{L6&T 6.6 细化技术 104 FO^24p 6.6.1 单纯形 105 XGk}e4;_ 6.6.1.1 单纯形参数 106 !E0fGh 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 +$~8)95<B 6.6.2.1 Optimac参数 108 %8<2> 6.6.3 模拟退火算法 109 *1,=qRjL 6.6.3.1 模拟退火参数 109 RpeBm#E2 6.6.4 共轭梯度 111 I~k=3,7< 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ULu O0\W 6.6.5 拟牛顿法 112 bL
MkPty 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 %*p^$5L< 6.6.6 针合成 113 E7LbSZ 6.6.6.1 针合成参数 114 zKMv7;s? 6.6.7 差分进化 114 ?o>6S
EGW 6.6.8非局部细化 115 '\'7yN' 6.6.8.1非局部细化参数 115 Cz[5Ug'V 6.7 我应该使用哪种技术? 116 )<Ob 6.7.1 细化 116 J~'~[,K 6.7.2 合成 117 s
kY0 \V 6.8 参考文献 117 4w9F+*- 7 导纳图及其他工具 118 E6Q91Wz9f 7.1 简介 118 'tSnH&c 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 #:I^&~:
7.2.1 四分之一波长规则 119 4K'|DO|dH 7.2.2 导纳图 120 C=s((q* 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 2D_6 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 b<\G I7 7.5 斜入射导纳图 141 oE 5;|x3 7.6 对称周期 141 PbQE{&D# 7.7 参考文献 142 'Ye]eL,I\ 8 典型的镀膜实例 143 8(uw0~GO 8.1 单层抗反射薄膜 145 (I!1sE!?1 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 &gJW6< 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 `U!(cDY 8.4 W-膜层 148 G\uU- z$) 8.5 V-膜层 149 \CDAFu# 8.6 V-膜层高折射基底 150 DbQBVy 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Sn0Xl3yr
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 'l8eH$ 8.9 四层抗反射薄膜 153 KG-UW 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 T77)Np 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ko>M&/^ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Ipg\9*c` 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 FfjC
M7? 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 y^, "gD 8.15十五层宽带抗反射膜 159 {#0Tl 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ^`/V i 8.17 1/4波长堆栈 162 :nt}7Dn' 8.18 陷波滤波器 163 PXR0 Yn 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Vj29L?3 8.20 褶皱 165 VBhE{4J 8.21 消偏振分光器1 169 Fr<Pe&d |