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英文原厂售价100美金,中文版598元 tf1Y5P$ ~q}]/0-m 0UGAc]!/RZ 内容简介 iR8;^C.aT Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ;<%d^ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 NH1ak(zHW 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 IxY!.d_s|~ A2Iqn5 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 4 XGEw9`3 目录 Nov
An+ Preface 1 8^R~qpg% 内容简介 2 n@S|^cH 目录 i &yqk96z 1 引言 1 Ie8SPNY-H 2 光学薄膜基础 2 |>-0q~ 2.1 一般规则 2 6+C]rEY/o
2.2 正交入射规则 3 F$9+WS`c 2.3 斜入射规则 6 GB>T3l" 2.4 精确计算 7 $cLZ,N24 2.5 相干性 8 ZJ[p7XP 2.6 参考文献 10 k\ZU%"^J 3 Essential Macleod的快速预览 10 -cUw} 4 Essential Macleod的特点 32 SL<EZn0F9 4.1 容量和局限性 33 =S\pI 4.2 程序在哪里? 33 zCu+Oi6 4.3 数据文件 35 6']WOM# 4.4 设计规则 35 h9~oS/%: 4.5 材料数据库和资料库 37 %*Yb
J_j7 4.5.1材料损失 38 (D\`:1g 4.5.1材料数据库和导入材料 39 5rJ7CfVq 4.5.2 材料库 41 HLh]*tQG 4.5.3导出材料数据 43 AZ-JaE
4.6 常用单位 43 W=,]#Z+M; 4.7 插值和外推法 46 a!PN`N28 4.8 材料数据的平滑 50 &@qB6!^ 4.9 更多光学常数模型 54 uFOYyrESc 4.10 文档的一般编辑规则 55 CZ(fP86e 4.11 撤销和重做 56 Tcq@Q$H 4.12 设计文档 57 &*~_ "WyU 4.10.1 公式 58 \x"BgLSE 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <S0gIg`) 4.10.3 沉积密度 59 mH'om
SCz 4.10.4 平行和楔形介质 60 ,~NJ}4wP 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 / 6DW+! 4.10.4 性能 61 e^hI[LbNC 4.10.5 保存设计和性能 64 5g 2:o^ 4.10.6 默认设计 64 _ n4C~ 4.11 图表 64 mf2Qu 4.11.1 合并曲线图 67 h6D1uM"o 4.11.2 自适应绘制 68 @rr\Jf""z 4.11.3 动态绘图 68 <In+V 4.11.4 3D绘图 69 0EC/l
OS 4.12 导入和导出 73 yeV|j\TJI. 4.12.1 剪贴板 73 /qd~|[Kx: 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 P>7PO~E. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ?6:e%YT 4.13 背景 77 IY|>'}UU# 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 VJtRL') 4.15 生成Rugate 84 ")W5`9 4.16 参考文献 91 ,6wGd aMR 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 S#\Cyn2(t 5.1 Jobs 92 +^%0/0e 5.2 创建一个新Job(工作) 93 z>spRl,dr 5.3 输入材料 94 =Unu>p}2V 5.4 设计数据文件夹 95 0|(6q=QK 5.5 默认设计 95 No]#RvEd3 6 细化和合成 97 *(nu0 6.1 优化介绍 97 CbT ;#0 6.2 细化 (Refinement) 98 s18A 6.3 合成 (Synthesis) 100 bWMb@zm 6.4 目标和评价函数 101 Qs_]U 6.4.1 目标输入 102 L#/<y{ 6.4.2 目标 103 TZ PUVOtL_ 6.4.3 特殊的评价函数 104 tSaD=# v 6.5 层锁定和连接 104 44UN*_qG
6.6 细化技术 104 cUU"*bA# 6.6.1 单纯形 105
=#vU$~a 6.6.1.1 单纯形参数 106 smuQ1.b 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 sQT<I]e 6.6.2.1 Optimac参数 108 * YTv" 6.6.3 模拟退火算法 109 vH]2t.\ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 wPpern05 6.6.4 共轭梯度 111 }9L;|ul6 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <rNz&;m} 6.6.5 拟牛顿法 112 K )9f\1\ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 !]#;' 6.6.6 针合成 113 ?O/!pUAu 6.6.6.1 针合成参数 114 kJ B u7 6.6.7 差分进化 114 |TuFx=~5v 6.6.8非局部细化 115 a.SxMF 6.6.8.1非局部细化参数 115 ;x4yidb6 6.7 我应该使用哪种技术? 116 8jgamG 6.7.1 细化 116 }yM!o`90 6.7.2 合成 117 wmit>69S 6.8 参考文献 117 eo4v[V& 7 导纳图及其他工具 118 q_0,KOGW 7.1 简介 118 C0'_bTfB 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Oa7jLz'i 7.2.1 四分之一波长规则 119 c nV2}U/\ 7.2.2 导纳图 120 dxF)) Z 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 2;YL+v2 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ] U[4r9V 7.5 斜入射导纳图 141 Iyt.`z 7.6 对称周期 141 U p: M[S
7.7 参考文献 142 Ba;tEF{X 8 典型的镀膜实例 143 H`8}w{ft& 8.1 单层抗反射薄膜 145 bcFZ ~B 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ?rgtbiSW- 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 nnMRp7LQ- 8.4 W-膜层 148 /@K1"/fqH 8.5 V-膜层 149 &fgfCZz' 8.6 V-膜层高折射基底 150 :-1
i1d 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 +rOd0? 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 /1LQx>1d 8.9 四层抗反射薄膜 153 uJL[m(G 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 etH]-S 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 "A& |