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英文原厂售价100美金,中文版598元 B5R/GV 9coN >y x<=<Lx0B; 内容简介 (_ TKDx_ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Jf</83RZ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Au"7w=G`f 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 <&CzM"\Em n/
m7+=]v 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 'Dx_n7&= 目录 e$Npo<u Preface 1 b0:5i<"w6 内容简介 2 dN)@/R^E; 目录 i zNh$d;(O$^ 1 引言 1 nW"ml$ 2 光学薄膜基础 2 BpR#3CfW 2.1 一般规则 2 lm[LDtc 2.2 正交入射规则 3 * .P3fVlZ 2.3 斜入射规则 6 C<B1zgX 2.4 精确计算 7 r1]DkX <6 2.5 相干性 8 b&g`AnYT 2.6 参考文献 10 J_@`:l0,z 3 Essential Macleod的快速预览 10 fa#5pys 4 Essential Macleod的特点 32 q% pjY 4.1 容量和局限性 33 L=v"5)m2R 4.2 程序在哪里? 33 L9bIdiB7 4.3 数据文件 35 &{=`g+4n 4.4 设计规则 35 @FLa i 4.5 材料数据库和资料库 37 Qh{]gw-6 4.5.1材料损失 38 =JDa[_lpN 4.5.1材料数据库和导入材料 39 -Izc-W 4.5.2 材料库 41 W^T6^q5;H 4.5.3导出材料数据 43 dt1,!sHn 4.6 常用单位 43 @'lO~i 4.7 插值和外推法 46 IA(+}V 4.8 材料数据的平滑 50 "v[?`<53^l 4.9 更多光学常数模型 54 ptCAtEO72 4.10 文档的一般编辑规则 55 ?S0gazZm 4.11 撤销和重做 56 Z#_ +yw 4.12 设计文档 57 )an,-EIX% 4.10.1 公式 58 <uL0M`u3 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 >&DNxw 4.10.3 沉积密度 59 67b[T~92o 4.10.4 平行和楔形介质 60 ZNjqH[ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 f%ynod8 4.10.4 性能 61 ufc_m4PN 4.10.5 保存设计和性能 64 M\w%c5 4.10.6 默认设计 64 ?6>rQ6tBv 4.11 图表 64 =k|hH~ 4.11.1 合并曲线图 67 (.J8Q 4.11.2 自适应绘制 68 .:?cU#. 4.11.3 动态绘图 68 h"849c;C. 4.11.4 3D绘图 69 N^U<;O?YDW 4.12 导入和导出 73 B>{\qj)% 4.12.1 剪贴板 73 {S=gXIh(y 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 t^(#~hx 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 BdYl
sYp 4.13 背景 77 v>]^wH>/" 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 eF%IX 4.15 生成Rugate 84 p}{V%!`_ 4.16 参考文献 91 oEuo@\U05v 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 g$eZT{{W 5.1 Jobs 92 O:86* 5.2 创建一个新Job(工作) 93 7J$5dFV2 5.3 输入材料 94 o7#Mr`6H 5.4 设计数据文件夹 95 |=U(8t 5.5 默认设计 95 QnPgp(d< 6 细化和合成 97 @[] A&)B 6.1 优化介绍 97 PdNxuy 6.2 细化 (Refinement) 98 f8X/kz 6.3 合成 (Synthesis) 100 eHy.<VX 6.4 目标和评价函数 101 M!E#T-) 6.4.1 目标输入 102 eV x
&S a 6.4.2 目标 103 4t;m^Iv 6.4.3 特殊的评价函数 104 J&jNONu? 6.5 层锁定和连接 104 !YJ^BI 6.6 细化技术 104 G*$a81dAX 6.6.1 单纯形 105 zMI0W&P M 6.6.1.1 单纯形参数 106 ~RS^Opoa 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 $xsmF?Dsx5 6.6.2.1 Optimac参数 108 X/!37 6.6.3 模拟退火算法 109 .1 =8c\% 6.6.3.1 模拟退火参数 109 :.,3Zw{l 6.6.4 共轭梯度 111 ;n-IpR#|
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 FII>6c 6.6.5 拟牛顿法 112 /|.
|y
S9 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 mK2M1r 6.6.6 针合成 113 r31H Zx1^ 6.6.6.1 针合成参数 114 te b~KM 6.6.7 差分进化 114 6qgII~F' 6.6.8非局部细化 115 /Vy8%
6.6.8.1非局部细化参数 115 ~"ij,Op,3 6.7 我应该使用哪种技术? 116 9+sOSz~
P 6.7.1 细化 116 Pv(icf
l| 6.7.2 合成 117 xp>p#c 6.8 参考文献 117 <Gr775" 7 导纳图及其他工具 118 }M I9?\"q 7.1 简介 118 ?8LRd5LH 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 E*t0ia8 7.2.1 四分之一波长规则 119 U.@j!UrZ 7.2.2 导纳图 120 4gNF; 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 t,8p}2,$ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 A-dL_3 7.5 斜入射导纳图 141 (n~e2tZ/ 7.6 对称周期 141 ZoiCdXvTN 7.7 参考文献 142 Y}C~&Ph |