-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-12-12
- 在线时间1894小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
英文原厂售价100美金,中文版598元 BiGB<Jr [A$5~/Q{U1 O7@CAr 内容简介 I9O9V[ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 is=sV:j: 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 x._IP,vRx^ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 vZV+24YWb a*LT <N 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 (<sZ8n=AD 目录 A
?"(5da. Preface 1 xlPUum-o 内容简介 2 Bvzu{B% 目录 i G| 7\[!R 1 引言 1 whb|N2 2 光学薄膜基础 2 6OYXcPW' 2.1 一般规则 2 ,#3}TDC 2.2 正交入射规则 3 %bI( 2.3 斜入射规则 6 .qVz rS 2.4 精确计算 7 gfE<XrG 2.5 相干性 8 2
q RXA 2.6 参考文献 10 i`o}*`// 3 Essential Macleod的快速预览 10 >)ZX
4 Essential Macleod的特点 32 lB!`,>"c 4.1 容量和局限性 33 {MmHR 4.2 程序在哪里? 33 +|.}oL^}G 4.3 数据文件 35 5 e:Urv77 4.4 设计规则 35 ;t47cUm6j 4.5 材料数据库和资料库 37 \m-fLX 4.5.1材料损失 38 Gd 0-}4S? 4.5.1材料数据库和导入材料 39 &tY3nr 4.5.2 材料库 41 ;9r
Z{'i+| 4.5.3导出材料数据 43 {Z[yY6Nu 4.6 常用单位 43 rQiX7 4.7 插值和外推法 46 Z=%+U _, 4.8 材料数据的平滑 50 \8\)5#? 4.9 更多光学常数模型 54 -_=0PW5{ 4.10 文档的一般编辑规则 55 v +-f
pl& 4.11 撤销和重做 56 eeIh }t>[ 4.12 设计文档 57 o?\)!_Z| 4.10.1 公式 58 <%eY>E 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 kg[u@LgvoN 4.10.3 沉积密度 59 dDH+`;$. 4.10.4 平行和楔形介质 60 gA
]7YHc 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ~ZU;0# 4.10.4 性能 61 ^q6H
=Dl 4.10.5 保存设计和性能 64 }aYm86C] 4.10.6 默认设计 64 R`=3lY; 4.11 图表 64 Mr'}IX5 4.11.1 合并曲线图 67 k5G(7Ug=g~ 4.11.2 自适应绘制 68
'$Jt}O 4.11.3 动态绘图 68 Z :f0> 4.11.4 3D绘图 69 WtI1h `Fo 4.12 导入和导出 73 WujIaJt- 4.12.1 剪贴板 73 7}bjJR " 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 }C>Q 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ,CW]d#P| 4.13 背景 77 2=ZR}8}9Q: 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 q0WW^jwQ 4.15 生成Rugate 84 BmYU#h 4.16 参考文献 91 ;ak3@Uee 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 /uI/8>p( 5.1 Jobs 92 oTZ?x}Z1 5.2 创建一个新Job(工作) 93 xrx{8pf 5.3 输入材料 94 eux_tyC 5.4 设计数据文件夹 95 992;~lBu 5.5 默认设计 95 b3b 4'l 6 细化和合成 97 J#*Uf>5NY 6.1 优化介绍 97 P
Y
+~,T2 6.2 细化 (Refinement) 98 >V(>2eD'S 6.3 合成 (Synthesis) 100 :NU-C!eT 6.4 目标和评价函数 101 UwtOlV:G{ 6.4.1 目标输入 102 @_YEK3l]l 6.4.2 目标 103 FW7+!A&F 6.4.3 特殊的评价函数 104 cJA0$)JP& 6.5 层锁定和连接 104 qx
3.oU 6.6 细化技术 104 O;[PEV~ 6.6.1 单纯形 105 6A M,1 6.6.1.1 单纯形参数 106 tYIHsm\b 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 %Hv$PsSJ 6.6.2.1 Optimac参数 108 L*tXy>&b. 6.6.3 模拟退火算法 109 ?>MD /l(l 6.6.3.1 模拟退火参数 109 yp5*8g5 6.6.4 共轭梯度 111 e<5+&Cj 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ^
vI| 6.6.5 拟牛顿法 112 'R_U,9y` 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 AX**q$'R 6.6.6 针合成 113 0 w\X 6.6.6.1 针合成参数 114 3iYz<M 6.6.7 差分进化 114 567ot|cc 6.6.8非局部细化 115 pALB[;9g 6.6.8.1非局部细化参数 115 |PH]0.m5 6.7 我应该使用哪种技术? 116 A`(p6 H"s 6.7.1 细化 116 ~m!>e])P?X 6.7.2 合成 117 fLI@;*hL0 6.8 参考文献 117 /6{`6(p 7 导纳图及其他工具 118 qNHS 1 7.1 简介 118
N(Y9FD;H 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 x+B~ t4A 7.2.1 四分之一波长规则 119 N=D
Ynz_~ 7.2.2 导纳图 120 Tp`)cdcC[ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 oE#HI2X 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 !Go(8`> 7.5 斜入射导纳图 141 Qm`f5-d 7.6 对称周期 141 =)M 8>>l 7.7 参考文献 142 OpxVy _5, 8 典型的镀膜实例 143 3+A 0O%0* 8.1 单层抗反射薄膜 145 gZM{]GQ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 mk\U wv 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 |+6Z+-.Hg 8.4 W-膜层 148 dMGu9k~u 8.5 V-膜层 149 fH`1dU 8.6 V-膜层高折射基底 150 1\YX| 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 n_Um)GI> 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 C,2IET 8.9 四层抗反射薄膜 153 I.x0$ac7 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 vCH>Fj"7 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 9Z*` { 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 EoU}@MjM~ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 S-2xe?sb 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 w** .8]A"N 8.15十五层宽带抗反射膜 159 h>mQ; L 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 $L</{bXW 8.17 1/4波长堆栈 162 )\mklM9Z 8.18 陷波滤波器 163 eBU\& |