《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 9XKqsvdS  
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0*+EYnu+  
第1章光刻工艺概述 o^Lq8u;i*  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 Vw.)T/B_D  
1.2光刻技术的发展史_3 ZJm$7T)V  
1.3投影光刻机的空间成像_5 B#+n$5#FK  
1.4光刻胶工艺_10 +H*6:  
1.5光刻工艺特性_12 fE
_%,DJE(  
1.6小结_18 m)rVzL  
参考文献_18 qkz|r?R)  
q2'}S A/  
第2章投影光刻的成像原理 )l.uj  
2.1投影光刻机_20 -~4r6ZcA  
2.2成像理论_21 ew~?&=  
2.2.1傅里叶光学描述_21 T>
7N "C  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 R MOs1<D  
2.2.3其他成像仿真方法_30 *|y$z+g/  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 sINf/mv+  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 m*CW3y{n)  
2.3.2影响_36 yla-X|>  
2.4小结_39 Vh2uzG  
参考文献_39 _0FMwC#DY  
,zr,>^v  
第3章光刻胶 ZJc{P5a1J  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 iH@u3[w  
3.1.1光刻胶的分类_42 l'@!'  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 WPAUY<6f  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 %NJ0Y(:9(  
3.1.4现象学模型_48 D_[NzCv<-  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 ]
$ Nhy8-  
3.2.1技术方面_50 (5,x5l]-N  
3.2.2曝光_51 /U0Hk>$~(  
3.2.3曝光后烘焙_54 68(^
*  
3.2.4化学显影_58 '/t9#I@G\  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 aXG|IN5 *m  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 L N.:>,  
3.5小结_68 zi_$roq=)  
参考文献_69 \8m9^Z7IfK  
Nnr[@^M5  
第4章光学分辨率增强技术 sD2,!/'  
4.1离轴照明_74 4nP4F+  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 9nY|S{L  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 x?lRObHK  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 oU @!R  
4.2光学邻近效应校正_81 kB=B?V~#  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 k;`1Ia  
4.2.2线端缩短补偿_84 tm1&OY  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 8_G6X\q};  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 Mis B&Ok`k  
4.3相移掩模_89 3e47UquZ  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 9I2&Vx=DSt  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 rXT?w]4  
4.4光瞳滤波_100 %&VI-7+K
 
4.5光源掩模协同优化_102 ?e4H{Y/M  
4.6多重曝光技术_106 ::'Y07  
4.7小结_109 @ S[As~9X  
参考文献_110 rQGInzYp  
<#57q%  
第5章材料驱动的分辨率增强 r&B0-7r  
5.1分辨率极限的回顾_115 b_6c
K#  
5.2非线性双重曝光_119 &A.0(s  
5.2.1双光子吸收材料_119 bZ:+q1 D  
5.2.2光阈值材料_120 P0(LdZH6u  
5.2.3可逆对比增强材料_121 Y?7GFkIP$  
5.3双重和多重成形技术_124 J Eo;Fx]  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 #NGtba  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 @t1pB]O:  
5.3.3自对准双重成形_126 1KGf @u%-1  
5.3.4双色调显影_127 tKcC{  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 MBw;+'93qf  
5.4定向自组装_129 C'y2!Q/"  
5.5薄膜成像技术_133 !sEhjJV^7  
5.6小结_135 >i  >|]  
参考文献_135 =T6 ~89  
8Dtpb7\o  
第6章极紫外光刻 [>pBz3fn,  
6.1EUV光源_141 SCe$v76p#  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 @mxaZ5Vv}  
6.3EUV掩模_146 94dd )/a  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 S ~h*U2  
6.5EUV光刻胶_156 =[!(s/+>L  
6.6EUV掩模缺陷_157 u/S>*E  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 !G[%; d  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 YEaT_zWG0  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 d0ht*b  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 g[t paQ  
6.8小结_167 c/^jD5U7  
参考文献_168 Z|N$qm}  
u kZK*Y9P  
第7章投影成像以外的光刻技术 |4 \2,M
#  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 AkW>*x  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 4ytdcb   
7.1.2技术实现_179 `{h)-Y``  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 z,E`+a;  
7.2无掩模光刻_186 9kF0H a}J  
7.2.1干涉光刻_186
X=abaKl  
7.2.2激光直写光刻_189 L[D+=  
7.3无衍射限制的光刻_194 P7,g^:$  
7.3.1近场光刻_195 "M-';;  
7.3.2利用光学非线性_198 Jq(;BJ90R  
7.4三维光刻_203 XMkRYI1~  
7.4.1灰度光刻_203 {5{VGAD&]>  
7.4.2三维干涉光刻_205 X0^@E  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 |te=DCO  
7.5浅谈无光刻印_209 .N.RpRz{f  
7.6小结_210 .81Y/Gad_  
参考文献_211 @~|;/OY>"  
 ^,ISz-4  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 XR7v
\rd  
8.1实际投影系统中的波像差_220 v6=%KXSF  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 cAwqIihZ  
8.1.2波前倾斜_226 52Lp_
M
 
8.1.3离焦像差_226 u*I'c2m  
8.1.4像散_228 D]*|Zmr+}  
8.1.5彗差_229
bQq/
~  
8.1.6球差_231 $.d,>F6  
8.1.7三叶像差_233 ]>Z9K@  
8.1.8泽尼克像差小结_233 uI?Z_  
8.2杂散光_234 fR@Cg sw  
8.2.1恒定杂散光模型_235 ovM;6o  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 9DM,,h<`  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 r5nHYV&7  
8.3.1掩模偏振效应_240 -2[4 @  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 9@ fSO<  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 =$gBWS  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 - QY<o|  
8.3.5偏振照明_248 snfFRc(RE  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 e/:?9  
8.5小结_250 !a:e=b7g  
参考文献_251 EKF4]  
FI?J8a  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 d^6-P R_  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 V-go?b`  
9.1.1时域有限差分法_257 "p;tj74O9  
9.1.2波导法_260 lGR0-Gh2  
9.2掩模形貌效应_262 %(khE-SW  
9.2.1掩模衍射分析_263 )LKJfoo PY  
9.2.2斜入射效应_266 2 G*uv+=  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 d ([~o  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 O<L=N-  
9.2.5各种三维掩模模型_277 `4xQ#K.-  
9.3晶圆形貌效应_279 PpG;5  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 Zv9JkY=+@  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 P
%l?C?L  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 #CI0G  
9.4小结_283 FA{Q6fi:2  
参考文献_283 2[pOGc$  
SZrc-f_  
第10章先进光刻中的随机效应 D>W&#A8&y  
10.1随机变量和过程_288 RDHK'PGA  
10.2现象_291 K.wRz/M&g  
10.3建模方法_294 ;K8}Yq9p9  
10.4依存性及其影响_297 A~nqSe  
10.5小结_299 H^S<bZ  
参考文献_299 l]wLQqoO  
专业词汇中英文对照表 p\;8?x  
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