《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 O9oVx4=  
a3ve%b  
dx}()i\@  
p0? XR  
25*/]iu  
第1章光刻工艺概述 EUmQn8  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 U/Z!c\r  
1.2光刻技术的发展史_3 MOP %vS  
1.3投影光刻机的空间成像_5 =El.uBz{  
1.4光刻胶工艺_10 q .nsGbl  
1.5光刻工艺特性_12 A1Mr  
1.6小结_18 V:)k@W?P  
参考文献_18 W}+Q!T=  
gvYa&N  
第2章投影光刻的成像原理 #z-6mRB  
2.1投影光刻机_20 @~'c(+<3  
2.2成像理论_21 ;o_4)+}  
2.2.1傅里叶光学描述_21 {_|~G|Z  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 Sm;&2"  
2.2.3其他成像仿真方法_30 d"uR1rTk  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 lyfLkBF  
2.3.1分辨率极限和焦深_31  .VuZ=  
2.3.2影响_36 KQaw*T[Q3w  
2.4小结_39 d%VGfSrKq  
参考文献_39 8b!&TP~m1  
h"Yi
'  
第3章光刻胶 V/$qD  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 bw9a@X  
3.1.1光刻胶的分类_42 K=M5d^K<E  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 0wB ?U~  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 Vd4x!Vk  
3.1.4现象学模型_48 FgrOZI
;_  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 f8+($Ys  
3.2.1技术方面_50 XUfj 0  
3.2.2曝光_51 =et=X_3-  
3.2.3曝光后烘焙_54 nYY@+%`]z  
3.2.4化学显影_58 [{ K$sd  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 b)(#/}jMkD  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 rr'RX  
3.5小结_68 B-|:l7  
参考文献_69 mWsVOf>g  
fI`6]?W  
第4章光学分辨率增强技术 }N:0%Gk[;  
4.1离轴照明_74 [ahD%UxO5  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 7ml,  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 s[nXr  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 )}9Ef"v|  
4.2光学邻近效应校正_81 <`9Q{~*=t  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 ~A}"s-Kq5  
4.2.2线端缩短补偿_84 %L:e~*  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 |0ACapp!  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 us"SM\X#  
4.3相移掩模_89 ,m{Zn"?kS  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 Z9cch-u~  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 B<xBuW  
4.4光瞳滤波_100 =<y$5"|  
4.5光源掩模协同优化_102 ce.'STm=  
4.6多重曝光技术_106 8GN0487H  
4.7小结_109 VzA~w`$d  
参考文献_110 pjvChl5  
Uxn_
nh  
第5章材料驱动的分辨率增强 5Z]`n  
5.1分辨率极限的回顾_115 pi q%b]  
5.2非线性双重曝光_119 Ry,_%j3  
5.2.1双光子吸收材料_119 R,x\VX!|  
5.2.2光阈值材料_120 -1Yt3M&  
5.2.3可逆对比增强材料_121 >#Y8#-$zc  
5.3双重和多重成形技术_124 m%m/#\J E  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 `][~0\Y3m  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 $^INl0Pg  
5.3.3自对准双重成形_126 eA$9)K1GO  
5.3.4双色调显影_127 O`g44LW2n  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 J1cD)nM<A  
5.4定向自组装_129 h2`W~g_
 
5.5薄膜成像技术_133 RvZi%)  
5.6小结_135 |F-_YR  
参考文献_135 Bbz#$M!:  
>7!4o9)c  
第6章极紫外光刻 f7)}A/$4+  
6.1EUV光源_141 1t+]r:{  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 Yn+/yz5k_  
6.3EUV掩模_146 &Y\Vh}  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 [(BA:x1  
6.5EUV光刻胶_156 F6dm_Oq&  
6.6EUV掩模缺陷_157 QxwZ$?w%  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 1 9$ufod  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 s
ycN  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 z'O$[6m6  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 sEt5!&  
6.8小结_167 lj/?P9  
参考文献_168 %0YwaxXPn7  
W
#$ pt>h)  
第7章投影成像以外的光刻技术 >k<.bEx(A  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 C8}ujC  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 tbJB0T|G  
7.1.2技术实现_179 2P`hdg  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 N8m|Y]^H#  
7.2无掩模光刻_186 =SA@3)kHH  
7.2.1干涉光刻_186 x/{  
7.2.2激光直写光刻_189 y&-wb'==p  
7.3无衍射限制的光刻_194 68V66:0  
7.3.1近场光刻_195 T;w%-k\<r  
7.3.2利用光学非线性_198 1Cki}$k@  
7.4三维光刻_203 /k|y\'<  
7.4.1灰度光刻_203 yw41/jHF  
7.4.2三维干涉光刻_205 ZMids"Xdf  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 )?^0<l#s  
7.5浅谈无光刻印_209 iK#5HW{  
7.6小结_210  &~:b&  
参考文献_211 F8$.K*tT  
mg[=~&J^  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 W&q]bi@C  
8.1实际投影系统中的波像差_220 sn '#]yM  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 jY-{hW+r  
8.1.2波前倾斜_226 HUuL3lYka  
8.1.3离焦像差_226 rbS67--]  
8.1.4像散_228 P6&@fwJ<  
8.1.5彗差_229 4`)`%R$  
8.1.6球差_231 wo5"f}vd#  
8.1.7三叶像差_233 JOS,>;;F4  
8.1.8泽尼克像差小结_233 ):; &~  
8.2杂散光_234 |
G&<@8O  
8.2.1恒定杂散光模型_235 cW4:eh  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 cod__.  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 ZE.nB- H  
8.3.1掩模偏振效应_240 -'QvUHL|  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 \< <u  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 v: cO+dQ  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 5, R\tJCK  
8.3.5偏振照明_248 \-a^8{.^E  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250
vz#VW  
8.5小结_250 N%v}$58Z  
参考文献_251 f]L`^WU  
v]& )+0  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 9G_bM(q'^2  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 !4\`g
?  
9.1.1时域有限差分法_257 {P"$;_Y"<  
9.1.2波导法_260 5
+].$  
9.2掩模形貌效应_262
``kiAKMy  
9.2.1掩模衍射分析_263 ~UA-GWb  
9.2.2斜入射效应_266 srXGe`VL  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 ZgQ4~s  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 [g`9C!P-G  
9.2.5各种三维掩模模型_277 |s`j=<rNQI  
9.3晶圆形貌效应_279 x9k(mn%,  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 P+ONQN|  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ~CIA6&  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 r1b{G%;mJ  
9.4小结_283 ,l^; ZE  
参考文献_283 bO]^TRai
J  
Pz7{dQqjk#  
第10章先进光刻中的随机效应 F$QN>wPpM  
10.1随机变量和过程_288 {G&*\5W
 
10.2现象_291 ?$i`K|  
10.3建模方法_294 Cj"+` C)l  
10.4依存性及其影响_297 ((&
_m9a  
10.5小结_299 l5_RG,O0A  
参考文献_299 ,r
~pf(nz  
专业词汇中英文对照表 !`"@!  
S+Z_Qf