《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 50a
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e@F|NCQ.9  
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第1章光刻工艺概述 tL0`Rvl  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 S)%_weLW7  
1.2光刻技术的发展史_3 83.E0@$  
1.3投影光刻机的空间成像_5 P ,K\  
1.4光刻胶工艺_10 ~DLIzg7p!  
1.5光刻工艺特性_12 ' eO/PnYW  
1.6小结_18 /'y5SlE[J  
参考文献_18 F?Or;p5`Y  
| W#~F&{]  
第2章投影光刻的成像原理 |t\|:E>" }  
2.1投影光刻机_20 l9{#sas  
2.2成像理论_21 .F0]6#(  
2.2.1傅里叶光学描述_21
ykq'g|  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 ]Qi,j#X  
2.2.3其他成像仿真方法_30 r3I,11B  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 oTOfK}  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 dmR3Y.\jd  
2.3.2影响_36 JZ`L%  
2.4小结_39 ui'F'"tPz  
参考文献_39  }sMW3'V  
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第3章光刻胶 Ohl} X 1  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 )-&nxOP  
3.1.1光刻胶的分类_42 @~jxG%y86  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 /aUFc'5  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 B[NJ^b|  
3.1.4现象学模型_48 Sb^ b)q"  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 Xa`(;CLW?  
3.2.1技术方面_50 7o{*Z  
3.2.2曝光_51 +0pW/4x  
3.2.3曝光后烘焙_54 $ u2Cd4  
3.2.4化学显影_58 DY><qk  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 T2bnzIi  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 '\*A"8;h  
3.5小结_68 C<he4n.  
参考文献_69 1<uwU(  
o`%I{?UCDJ  
第4章光学分辨率增强技术 XUsy.l/  
4.1离轴照明_74 GqjO>v fy  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 !C7<sZ`C  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 |t\KsW  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 e?)yb^7K  
4.2光学邻近效应校正_81 0]a15  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 ?"@ET9  
4.2.2线端缩短补偿_84 E:Y:X~vy  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ;4d.)-<No_  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 ~yN(-I1P  
4.3相移掩模_89 * NMQ  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 Am7| /  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 7l}~4dm2J  
4.4光瞳滤波_100 d]k='  
4.5光源掩模协同优化_102 SY6r 8RK  
4.6多重曝光技术_106 @+0V& jc  
4.7小结_109 \|!gPc%s  
参考文献_110 /:6Q.onmLn  
jI#z/a!j:  
第5章材料驱动的分辨率增强 &^ceOV0+  
5.1分辨率极限的回顾_115 s1@@o#r  
5.2非线性双重曝光_119 2$ VTu+  
5.2.1双光子吸收材料_119 f)tc4iV  
5.2.2光阈值材料_120 nE<J`Wo$f  
5.2.3可逆对比增强材料_121 Y?.gfEXSQo  
5.3双重和多重成形技术_124 1OPfRDn.bk  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 S%V%!803!  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 Qrz*Lvle h  
5.3.3自对准双重成形_126 8XkIk7  
5.3.4双色调显影_127 cX"G7Bh  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 y(a}IM3~  
5.4定向自组装_129 akrCs&Kka5  
5.5薄膜成像技术_133 'X ~Ab  
5.6小结_135
3APYO  
参考文献_135 J]]\&MtaO  
ypT9 8  
第6章极紫外光刻 67 O<*M  
6.1EUV光源_141 2_Jb9:/X  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 #[(0tc/  
6.3EUV掩模_146 jrdtd6b}  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 i\Q":4  
6.5EUV光刻胶_156 ,|QU] E @  
6.6EUV掩模缺陷_157 @_uFX!;  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 2E([#Pzb  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 Wlxk  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 Z[bv0Pr  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 M->Kz{h?j  
6.8小结_167 6fQ*X~| p  
参考文献_168 2?pM5n  
[sptU3,2U  
第7章投影成像以外的光刻技术 =~;zVP   
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 mlmnkgl ]  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 2q$X>ImI$  
7.1.2技术实现_179 6z`8cI+LRw  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182  z8tt+AU  
7.2无掩模光刻_186 X~#@rg!"  
7.2.1干涉光刻_186 ^zkd{ov  
7.2.2激光直写光刻_189 @+Pf[J41  
7.3无衍射限制的光刻_194 ur`V{9g  
7.3.1近场光刻_195 s!=!A  
7.3.2利用光学非线性_198 1dXh\r_n  
7.4三维光刻_203 RDJ82{  
7.4.1灰度光刻_203 _qk9o  
7.4.2三维干涉光刻_205 SaTEZ.  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 g;ct!f=U  
7.5浅谈无光刻印_209 ]#+5)[N$>  
7.6小结_210 2voNg
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参考文献_211 :hi$}xHa  
-1#e^9Ve\  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 t>=GVu^  
8.1实际投影系统中的波像差_220 kv[OW"8t  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 *E$H;wKs8  
8.1.2波前倾斜_226 X{4xm,B/  
8.1.3离焦像差_226 1.xw'i  
8.1.4像散_228 WJP`0f3  
8.1.5彗差_229 #0xm3rFy4  
8.1.6球差_231 s'_$j$1  
8.1.7三叶像差_233 mn,=V[f  
8.1.8泽尼克像差小结_233 C3^X1F0  
8.2杂散光_234 L'zdsa}Et  
8.2.1恒定杂散光模型_235 `z5v}T  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 X/K| WOO6  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 9?v)  
8.3.1掩模偏振效应_240 F&-5&'6G+  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 G`&'Bt{Z*  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 I]s:Ev[~  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 `7+tPbjs  
8.3.5偏振照明_248 ^$3w&$K*  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 (%=lq#,  
8.5小结_250 0R.Gjz*Q  
参考文献_251 hnlU,p&y3  
mOgx&ns;j  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 !NQf< ch  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 _AA`R`p;  
9.1.1时域有限差分法_257 v#zfs'  
9.1.2波导法_260 }d$vcEI$3  
9.2掩模形貌效应_262 Zm?G'06  
9.2.1掩模衍射分析_263 uBV^nUjS"m  
9.2.2斜入射效应_266 Bx_8@+  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 K.c6Rg  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 9~*_(yjF  
9.2.5各种三维掩模模型_277 jnx+wcd  
9.3晶圆形貌效应_279 GN8`xR{J*  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 xX[{E x  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 u&Ie%@:h9R  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 4?*`:  
9.4小结_283 "y3dwSS  
参考文献_283 5[0l08'D  
9e|{z9z[l  
第10章先进光刻中的随机效应 y^vfgP<@  
10.1随机变量和过程_288 70I4-[/z[d  
10.2现象_291 M<hs_8_*  
10.3建模方法_294 w96j,rEC  
10.4依存性及其影响_297 -bIpmp?  
10.5小结_299 RJ7/I/yD|  
参考文献_299 U{.+*e18  
专业词汇中英文对照表 =!Baz&#}  
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