《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 =e7,d$i  
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第1章光刻工艺概述 "ei*iUBN:  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 ;!<WL@C~  
1.2光刻技术的发展史_3 =RR225  
1.3投影光刻机的空间成像_5 S~1>q+<Q  
1.4光刻胶工艺_10 S7-ka{S  
1.5光刻工艺特性_12 KlgPDV9mg  
1.6小结_18 :uZfdu  
参考文献_18 |H67ny&K^&  
IAt;?4  
第2章投影光刻的成像原理 sIuk  
2.1投影光刻机_20 Q]_3 #_'  
2.2成像理论_21 lAsDdxB`  
2.2.1傅里叶光学描述_21 ^/K\a ,  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 9Vx2VjK2'  
2.2.3其他成像仿真方法_30 b _fI1f|  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 73/kyu-0%  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 ~mc7O  
2.3.2影响_36 W1X\!Y  
2.4小结_39
nG;wQvc  
参考文献_39 JZp*"UzQr  
\Q"o\:IoIT  
第3章光刻胶 so|5HR|  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 4[za|t  
3.1.1光刻胶的分类_42 ?2VY^7N[  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 ZF :e6em  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 8tWOV
LquJ  
3.1.4现象学模型_48 PMk3b3)Z  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 w]n20&  
3.2.1技术方面_50 YmM+x=G:  
3.2.2曝光_51 )rv5QH`i  
3.2.3曝光后烘焙_54 BM*9d%m^  
3.2.4化学显影_58 !dB {E  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 'iO?M'0gE#  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 .op: 2y9]  
3.5小结_68 >9c$2d|>  
参考文献_69 8P r H"pI  
Ghgx8 ]e  
第4章光学分辨率增强技术 Y)Y`9u<?  
4.1离轴照明_74 q10gKVJum  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 o.t$hv|  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 xwa5dtcng  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 &
eV& +j  
4.2光学邻近效应校正_81 ryzz!0l  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 ]gYnw;W$  
4.2.2线端缩短补偿_84 v8"plx=3  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 5uMh#dm^  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 X3#/|>
 
4.3相移掩模_89 FR9<$  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 OaU-4 ~n;  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 Z~{0XG\Y  
4.4光瞳滤波_100 ZSq7>}  
4.5光源掩模协同优化_102 jC1mui|Y^  
4.6多重曝光技术_106 Tl=cniy]  
4.7小结_109 !=@Lyt)_b  
参考文献_110 vz:P2TkM  
Y-6
?x  
第5章材料驱动的分辨率增强 D.o|pTZ  
5.1分辨率极限的回顾_115 Vh^fbv`?  
5.2非线性双重曝光_119 kM5N#|!  
5.2.1双光子吸收材料_119 2?ac\c6"  
5.2.2光阈值材料_120 ~H/|J^ J  
5.2.3可逆对比增强材料_121 9;s:Bo  
5.3双重和多重成形技术_124 5Jq~EB{"  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 %pgie"k  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 ~U`oew  
5.3.3自对准双重成形_126 2yR*<yj  
5.3.4双色调显影_127 8;;!2>N  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 Zh`lC1l'  
5.4定向自组装_129 Et
ty{r}  
5.5薄膜成像技术_133 A_1cM#4  
5.6小结_135 Rk.
YnA_J6  
参考文献_135 5R}Qp<D[^  
;4tVFqR  
第6章极紫外光刻 $.kP7!`:,  
6.1EUV光源_141 q}e"E cr  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 aO('X3?  
6.3EUV掩模_146 BL<
.u  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 /kE3V`es  
6.5EUV光刻胶_156 M>dP 1  
6.6EUV掩模缺陷_157 r(iT&uz  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 !Uz{dFJf;  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 1eQ9(hzF  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 m8eyAvi6  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 q}>1Rr|U`  
6.8小结_167 M3@Wb@  
参考文献_168 D'Tb=  

o9ZHa  
第7章投影成像以外的光刻技术 IY6DZP  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 ;hGC.}X  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 PE3FuJGz  
7.1.2技术实现_179 7l> |G,[c  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 qPZ'n=+  
7.2无掩模光刻_186 dt(~)*~R  
7.2.1干涉光刻_186 K: g_M  
7.2.2激光直写光刻_189 D-e0q)RSU  
7.3无衍射限制的光刻_194 =LV7K8FSd  
7.3.1近场光刻_195 =; Gw=m(  
7.3.2利用光学非线性_198 ~K}iVX  
7.4三维光刻_203 OQMkpX-dH  
7.4.1灰度光刻_203 sS;6QkI"y  
7.4.2三维干涉光刻_205 C( 8i0(1  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 j_*$Av
y  
7.5浅谈无光刻印_209 [G2@[CtY1  
7.6小结_210 6nh!g  
参考文献_211 1>P[3Y@}  
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第8章光刻投影系统：　高级技术内容 0X@!i3eu  
8.1实际投影系统中的波像差_220 ntbl0Sk  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 xF: O6KL  
8.1.2波前倾斜_226 V(_OyxeC{2  
8.1.3离焦像差_226 |D+"+w/
 
8.1.4像散_228 I|69|^  
8.1.5彗差_229 u~n*P``{  
8.1.6球差_231 W1'F)5(?7  
8.1.7三叶像差_233 a5=8zO#%g  
8.1.8泽尼克像差小结_233 <WFA3  
8.2杂散光_234 0+MNu8t  
8.2.1恒定杂散光模型_235 k#Qav1_  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 >QO^h<.>  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 !.1oW
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8.3.1掩模偏振效应_240 T<(1)N1H`  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 hw! l{yv  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 |{W4JFKJ  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 ~_opU(;f  
8.3.5偏振照明_248 .GcIwP'aU-  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 q1ybJii  
8.5小结_250 ,5oe8\uz  
参考文献_251 Yt&Isi +  
(5- w>(  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 ]&6# {I-  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 _5TSI'@.4  
9.1.1时域有限差分法_257 |,3s]b`  
9.1.2波导法_260 M)S(:Il6Xx  
9.2掩模形貌效应_262 & $E[l'  
9.2.1掩模衍射分析_263 F.5'5%  
9.2.2斜入射效应_266 e??tp]PLn  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 X`i'U7%I  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 mdjPKrF<  
9.2.5各种三维掩模模型_277 n%'M?o]DF  
9.3晶圆形貌效应_279 0K/Pth"*  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 X`#,*HkK  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 n@5Sp2p  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 E;!pK9wL|  
9.4小结_283 ;1qE:x}
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参考文献_283 .{+KKa $@G  
3ARvSz@5  
第10章先进光刻中的随机效应 qLrvKoEX2  
10.1随机变量和过程_288 @}[>*Xy%  
10.2现象_291 \7b-w81M-  
10.3建模方法_294 ZK:dhwer  
10.4依存性及其影响_297 k1tJ$}  
10.5小结_299 _)|_KQQu  
参考文献_299 fP3e{dVf  
专业词汇中英文对照表 .OhpItn  
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