《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 v,iq,p)&  
"VMb1Zhf  
e8z?) 4T  
.j"@7#
tW  
A 0;ng2&  
第1章光刻工艺概述 }|znQ3A2\l  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 SUsdX[byb  
1.2光刻技术的发展史_3
?|n@%'  
1.3投影光刻机的空间成像_5 w@,v$4Oi  
1.4光刻胶工艺_10 \e%%ik,<  
1.5光刻工艺特性_12 0P;LH3sx  
1.6小结_18 w+XwPpM0.n  
参考文献_18 jRW@$ <mG  
0}g~69Z1=  
第2章投影光刻的成像原理 pM*( kN  
2.1投影光刻机_20 5`::#[  
2.2成像理论_21 }CrWmJu0  
2.2.1傅里叶光学描述_21 KJt6d`ZN  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 71\GK  
2.2.3其他成像仿真方法_30 6O*lZNN  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 NK%Ok  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 C!Fi&~  
2.3.2影响_36 Q>

L.  
2.4小结_39 bj?=\u  
参考文献_39 J!@R0
U.  
Rq|]KAN  
第3章光刻胶
mRC   
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 Ejyo oO45  
3.1.1光刻胶的分类_42 ]?Q<lMG  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 K4OiKYq  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 j%81q  
3.1.4现象学模型_48 _93:_L  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 7{NH;U t  
3.2.1技术方面_50 jQ-2SA O  
3.2.2曝光_51 *\`<=,H6<  
3.2.3曝光后烘焙_54 #E_
<}o  
3.2.4化学显影_58 JX#0<U|L  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 \\`(x:\  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 ylQ9Su>o  
3.5小结_68 caV DV
  
参考文献_69 mR8tW"Z2  
@Z<Z//^k  
第4章光学分辨率增强技术 U7-*]i
k  
4.1离轴照明_74 4Wa*Pcj  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 6<f(Zv? I  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 9d!mGnl  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 -_Kw3x  
4.2光学邻近效应校正_81 S[N9/2  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 Epm8S}6K  
4.2.2线端缩短补偿_84 (?"z!dgc  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 BteeQ&A|~  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 c Ze59  
4.3相移掩模_89 f5/s+H!  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90
4EaxU !BT  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 q*cEosi'F?  
4.4光瞳滤波_100 r4
b-.>w  
4.5光源掩模协同优化_102 %pf9Yd0t  
4.6多重曝光技术_106 sFsf~|  
4.7小结_109 .-Dc%ap
]  
参考文献_110 +M<W8KF  
2)-4?uz~  
第5章材料驱动的分辨率增强 NnaO!QW%  
5.1分辨率极限的回顾_115 wNmC1HOh  
5.2非线性双重曝光_119 d;{k,rP6  
5.2.1双光子吸收材料_119 Bi>]s%zp  
5.2.2光阈值材料_120 [ B*r{  
5.2.3可逆对比增强材料_121 n98sY+$-z  
5.3双重和多重成形技术_124 M;YJpi  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 F&   
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 z|\n^ZK=  
5.3.3自对准双重成形_126 FW{K[km^P  
5.3.4双色调显影_127 zU_dk'&,  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 nwIj?(8x  
5.4定向自组装_129 mmy/YP)  
5.5薄膜成像技术_133 p8Z;QH*  
5.6小结_135 ]ZNFrpq  
参考文献_135 ;WhRDmT  
=y`-:j\  
第6章极紫外光刻 E0+~c1P-  
6.1EUV光源_141 0?O_]SD  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 ]EG8+K6  
6.3EUV掩模_146 ]bYmM@  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 }
c>vk  
6.5EUV光刻胶_156 d1'= \PYr  
6.6EUV掩模缺陷_157 P!!O~P  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 \C4wWh-A  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 ^)C#  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 G2-0r.f
 
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 9~jS_Y)"  
6.8小结_167 y9
w,Su2  
参考文献_168 >qmNT/  
14*6+~38m&  
第7章投影成像以外的光刻技术 [70 5[  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 Y/T-q<ag8  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 )<qL8#["U  
7.1.2技术实现_179 Z'Pe%}3  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 -)R =p"-w  
7.2无掩模光刻_186 i'\-Y]?[  
7.2.1干涉光刻_186 .tQ(q=#  
7.2.2激光直写光刻_189 -= izu]Fb,  
7.3无衍射限制的光刻_194 <FI
*A+I4\  
7.3.1近场光刻_195 (@;^uVJP  
7.3.2利用光学非线性_198 1GB
]Yi[>  
7.4三维光刻_203
{7;QZk(  
7.4.1灰度光刻_203 MU\Pggs  
7.4.2三维干涉光刻_205 p1("  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 yO,Jgn  
7.5浅谈无光刻印_209 0Ng?U+6  
7.6小结_210 ]>%2,+5  
参考文献_211 owb+,Gk(  
yrl7  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 kk4+>mk  
8.1实际投影系统中的波像差_220 ]E'?#z.t  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 TQ0ZBhd  
8.1.2波前倾斜_226 4^ U%` 1  
8.1.3离焦像差_226 A}&YK,$5ED  
8.1.4像散_228 D5f[:  
8.1.5彗差_229 (U 4n} J  
8.1.6球差_231 c;06>1=wP5  
8.1.7三叶像差_233 sg49a9`8  
8.1.8泽尼克像差小结_233 ]cVDXLj$  
8.2杂散光_234 E'5KJn;_7  
8.2.1恒定杂散光模型_235 pZ3sp!  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 md!!$+a%|  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 9Oo`4  
8.3.1掩模偏振效应_240 sLXM$SMBh  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 )=MK&72r  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 d2^/  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 '>n&3`r5  
8.3.5偏振照明_248 1eEML"  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 GIn%yB'  
8.5小结_250 A1`6+8}o;b  
参考文献_251 <5P*uZ  
 + #E?)  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 a|.IAxJ  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 )+=Kh$VbS  
9.1.1时域有限差分法_257 K2e*AE*  
9.1.2波导法_260 7YK6e  
9.2掩模形貌效应_262 jZ:/d
!
$S  
9.2.1掩模衍射分析_263 ! Vlx  
9.2.2斜入射效应_266 AE~@F4MK  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 56.JBBZZ  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 *+2_!=4V  
9.2.5各种三维掩模模型_277 ;Bj&9DZd  
9.3晶圆形貌效应_279 X(rXRP#  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 aDxNAfP  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 uOy/c 8`  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 x(R;xB  
9.4小结_283 \ym^~ Q|  
参考文献_283 ZbjUOlE02  
-3azA7tzz  
第10章先进光刻中的随机效应 );6f8H@G  
10.1随机变量和过程_288 ~K99DK.  
10.2现象_291 o0S8ki  
10.3建模方法_294 4z26a  
10.4依存性及其影响_297 /c 7z[|  
10.5小结_299 ;134$7!Y  
参考文献_299 vyB{35p$  
专业词汇中英文对照表 @:#J^CsM+'  
aNNRw(0/