09-8Xzz 应用示例简述 ed,A'S=d
_u[tv, 1. 系统细节 FMVAXOO 光源 U3{<+vSR` — 高斯光束 yjjq&Cn 组件 JD$g%hcVZa — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ]eKuR"ob0 探测器 uCDe>Q4@/ — 视觉感知的仿真 tn5%zJ#+ — 电磁场分布 Kz"3ba}KH 建模/设计 '5BD%#[ — 场追迹: TmG);B} 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 zWEPwOlI1P ddfGR/1X 2. 系统说明 &>zH.6%$ NfvPE ]S ,W}:vdC 3. 模拟 & 设计结果 >9{?]x -{\(s=% 4. 总结 ;;,7Jon2
Me.I>7c 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 duG3-E pN[WYM?[ 第1步 ^X96yj'? 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 lp
*GJP]T 1C<cwd;9 第2步 f!x9% 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 1B4Qj`:+0 Uj(0M;#%o+ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 6$R9Y.s>Z
/f#b;qa, 应用示例详细内容 ;ek*2Lh
CPOHqK`k 系统参数 3+ 6Ed;P
(Mk7"FC7 1. 该应用实例的内容 9hA`I tS 7_I83$p' "#~>q(4^ 2. 设计&仿真任务 B7 s{yb
WWunS|B! 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 jKq*@o~} e$~[\
w 3. 参数:输入近乎平行的激光束 )=5&Q 'S_i6K QF>T)1&J[7 4. 参数:SLM像素阵列 nJ;^Sz17Q
|n26[=\B ]*=4>(F[ 5. 参数:SLM像素阵列 296}LW
wEjinP$2 JXc.?{LL 应用示例详细内容 pQiC#4b
7X>IS#W] 仿真&结果 $XF$ n#ua
(7R?T} 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM -Uo11'{ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 h5P_kZJ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 qfDG.Zee# 8c9HJ9vk 2. VirtualLab的SLM模块 { M**a
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b >D
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 fmW{c mr|
必须设置所设计的SLM透射函数。 Jy(G
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yx]9rD1cz 3. SLM的光学功能 YlrN^rO
ZwUBeyxS=c 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 jYp!?%! 为此,将区域填充因子设置为60%。 i7#4&r 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 11oNlgY& L8`v ,:t,$A
^^b'tP1> ~Gfytn9x.; 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 1B;2 ~2X eh9?GUr5 ^\}qq>_
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4. 对比:光栅的光学功能 aKj|gwo! 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 mh3S?Uc 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 /yI4;:/ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 O*~,L6# } 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 Pxr/*X 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 CTNL->
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NH/A`Wm nm5DNpHk
9S%5Z> 5. 有间隔SLM的光学功能 ve
d]X! 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 <st<oR' z8X7Y
>+SA KL_/f
^C'S-2nGH +pR,BjY 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 lx|Aw@C3~ J+P<zC @;4;72@O 6. 减少计算工作量 I-R7+o !8G)`'
uyYV_Q0~; 采样要求: H7+"BWc 至少1个点的间隔(每边)。 =>
(g_\ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 dL0Q8d\^T 7ui<2(W@0 采样要求:
e}uK"dl( 同样,至少1个点的间隔。 j=O+U_w 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 bLg!LZ|S0s 随填充因子的增大,采样迅速增加。 p7|I>8ur. Jx+6Kq( 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 64u(X^i 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。
o
]*yI[\ 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 63oe0T& 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 5=?P6I_$G B=cA$620 A]bQUWt2
"B3jq^ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
Jt[ug26 7. 指定区域填充因子的仿真 4!/QB6
p :xyy*I 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 N?qETp -: 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 7z;2J;u`n 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Wr[LC& 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 -PPwX~;! Z|_V ;*
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8. 总结 |XB<vj07G 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ^Gd1T LaJvPOQ 第1步 $+WXM$N 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 @}q, ';H7 Pl B3"{}0Q 第2步 ?2"g*Bak 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 4#(/{6J 扩展阅读 D|5mNX%e 扩展阅读 AZ!/{1 Az 开始视频 i431mpMa - 光路图介绍 *P' X[z