1.模拟任务 Gukvd6-g9b
C<T6l'S{? 本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 mP6}$D 设计包括两个步骤: C_q2bI - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 D8~\*0-> - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 c*zeO@AAn 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 }|;j2'(R |"%OI~^% u$5.GmKm 照明光束参数 C<9GdN
<{;'0> ToM
r9M3rj]
波长:632.8nm DxN\ H"
激光光束直径(1/e2):700um 7\yh(+ kN -
uO(qUa# 理想输出场参数 4B[pQlg
T;{}bc&I
?,v&
o>*
直径:1° Ho*B<#&(A|
分辨率:≤0.03° WwWOic2
效率:>70% G~u$BV'
杂散光:<20% _!,2"dS
;3& wO~lW >)*d/ ^ 2.设计相位函数 |unvDXx- qHyOaKMd ]:2Ro:4Yv
E'mT%@MOM
相位的设计请参考会话编辑器 c'VCCXe
Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 @mg5vt!$`
设计没有离散相位级的phase-only传输。 kxyOe[7 S
jz;{,F 3.计算GRIN扩散器 >f^kp8`3{Y GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 EFI!b60mc 最大折射率调制为△n=+0.05。 nwfu@h0G 最大层厚度如下: @m%B>X28F @C[p? ak 4.计算折射率调制 daSx^/$R Wql=PqF 从IFTA优化文档中显示优化的传输 1TfFWlf[B D(|+z-}M 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 (Lh!7g/0N @44*<!da L$!2<eK 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 @J6r;4|& kt_O= !U2<\!_
乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 e~># M$
pON#r Vx5fQ mx 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 XrMw$_0) _*sd# yD!GgnW
/?Y4C)G
数据阵列可用于存储折射率调制。 ZRwN #?x
选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 0%HAa|L,,
插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 #a|r
^%D
'ju_l)(R
5.X/Y采样介质 d0%Wz5Np |7Z}#eP//
h?4EVOx+ GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 9|@5eN:N 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ?/,V{!UTtq 元件厚度对应于层厚度12.656μm。 >OjK0jiPf 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。 ?/@XJcm+ "5N$u(: b '< >Q20
@'hkU$N)
基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 9-1'jNV
折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 vt(}8C+
应该选择像素化折射率调制。 mdmJne.
Dcs O~mg
&:g1*+
优化的GRIN介质是周期性结构。 ?TW? 2+
只优化和指定一个单周期。 &K=)YpT
介质必须切换到周期模式。周期是 `@6y Wb:X
1.20764μm×1.20764μm。 QGErQ
+l 5OFB[ 6.通过GRIN介质传播 _|MK0'+f q/@r# ] ONmWo77o
[{`&a#Q
通过折射率调制层传播的传播模型: O_
$ zK
- 薄元近似 w'xPKO$bzR
- 分步光束传播方法。 4/S3hH
对于这个案例,薄元近似足够准确。 DI-CC[
在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 HG5E,^1n
场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 1[a#blL6W
2Mw` 7.模拟结果 \l5G X6r<#n|l 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
/6 x[C
8.结论 {=3'H?$
Ne1W!0YLK VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 r=RiuxxTq 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 brqmi<*9"[ 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 =6fJUy^M\