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1.模拟任务 [w&$| h:; ^-[ ?#] 本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 pTyi!:g3W 设计包括两个步骤: YcN!T"wJ@ - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 mK [0L - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 Wxbq)Z[V 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 /M*a,o j~e;DO Hw-Z 照明光束参数 Wf&W^Q 1[t=XDz/e pmFk50` 波长:632.8nm (Gw,2-A 激光光束直径(1/e2):700um {s_+?<l pKjoi{
Z 理想输出场参数 C$@yG)Pj r@o6voX 3t0[^cY8=z 直径:1° XxaGp95so 分辨率:≤0.03° _"#!e{N| 效率:>70% "/nNM{^ 杂散光:<20% 7zv1wb -#Z
bR V86Xg:?7 2.设计相位函数 ]d]JXt?)i .]9c / M!tXN&V] 2"d!(J6}K 相位的设计请参考会话编辑器 k~|-gfFP Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 Izv+i*(dl 设计没有离散相位级的phase-only传输。 DS%\SrC 5 XA=G 3.计算GRIN扩散器 |K^"3`SJ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 f5GdZ_ 最大折射率调制为△n=+0.05。 >"@?ir 最大层厚度如下: \ AC|?/sH !2|=PB' M 4.计算折射率调制 C( id=F nxJee=qH 从IFTA优化文档中显示优化的传输 3tmdi 3s 80$fG8 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 c. A|Ir 7rC uu *M XZ/[v8 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 @Kgl%[NmX ne>g?"Pex{ //&j<vus 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 tL+OCLF; B<~U3b :Yj)CGl$ 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 }rdIUlVO\ 8p!*?RRme[ 3~qR olW|$? 数据阵列可用于存储折射率调制。 L}yyaM) 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 EOoZoVdzx 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 jkF8\dR TbehR:B5g 5.X/Y采样介质 D5an\gE =5sF"L;b /V?H4z[G GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 &VBd~4|p 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 (.Lrmf@hI7 元件厚度对应于层厚度12.656μm。 =D^TK-H 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。 3},Zlu IAOcKQ3 G^(}a]>9 jb /8?7 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 M]-VHI[&W 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 m ga6[E< 应该选择像素化折射率调制。 ;p ]y)3 M/*NM= -a pX=,iOF[I 优化的GRIN介质是周期性结构。 SjdZyJa 只优化和指定一个单周期。 .!}hhiF,Z 介质必须切换到周期模式。周期是 &l |