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《Essential Macleod中文手册》 ?AH B\S +sV~#%% 目 录 !;4Hh)2 <kk!ns I ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 s\< @v7A 第1章 介绍 ..........................................................1 1Ko4O)L]& 第2章 软件安装 ..................................................... 3 G)q;)n;*= 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 tH~>uOZW 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 cwOa"]t} 第5章 软件结构 ............................................................... 21 FU(2,Vl 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 W4bN']? 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 "lrQC`? 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 0cDP:EzR; 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 :G#+5 } 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 NTEN 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 7xFZJ# 第12章 优化和综合 ..................................................................120 Cg|\UKfy$ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 [$F*R@,& 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 a`[9<AM1# 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 ddN G: 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 do*aE 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 :[CEHRc7x 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 *U}ztH-+/ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Uu52uR 第20章 运行表单 .................................................................... 251 'tDUPm38 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 f7 |Tp m 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ExMd$`gW 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 BOh^oQh 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 xQ2:tY#? 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 AF8:bk,R 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 C#4_`4{ 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 *Hi}FI 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 $4}G 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 |fIyq}{7 m;A[2 6X Ni%@bU $ GwfC l{l ?z <-Ww j@w1S[vt 内容简介 9UVT]acq Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ~@)s)K 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 $:\`E56\ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Z zjCS2U
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 4 R(m$!E! |2%|= 目录 q3#+G:nh Preface 1 .ANR|G 内容简介 2 !%D';wQ,/ 目录 i 7(oA(l1V 1 引言 1 4P"bOt5izR 2 光学薄膜基础 2 FUlhEH 2.1 一般规则 2 .Zj`_5C 2.2 正交入射规则 3 G maNi 2.3 斜入射规则 6 _Gf-s51s 2.4 精确计算 7 p:K%-^ 2.5 相干性 8 y4LUC;[n 2.6 参考文献 10 1_#;+S 3 Essential Macleod的快速预览 10 q5L^>" 4 Essential Macleod的特点 32 f$6N 4.1 容量和局限性 33 cJv/)hRaz 4.2 程序在哪里? 33 P tLWFO 4.3 数据文件 35 d6ef)mw 4.4 设计规则 35 \@WVeFr 4.5 材料数据库和资料库 37 (ie%zrhS 4.5.1材料损失 38 \/?J)k3H. 4.5.1材料数据库和导入材料 39 5 7t.Ud 4.5.2 材料库 41 *U]&a^N 4.5.3导出材料数据 43 Nh_\{
&r 4.6 常用单位 43 fK+
5 4.7 插值和外推法 46
oI[rxr 4.8 材料数据的平滑 50 ,ofE*Wt 4.9 更多光学常数模型 54 ZJQFn 4.10 文档的一般编辑规则 55 <+-n
lK4 4.11 撤销和重做 56 ,z>-_HOnw 4.12 设计文档 57 )\ceanS 4.10.1 公式 58
l
EzN 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 IQ~qiFCf 4.10.3 沉积密度 59 Ul9^"o 4.10.4 平行和楔形介质 60 RJzIzv99m 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 R:YVmqd 4.10.4 性能 61 8cG`We8l& 4.10.5 保存设计和性能 64 m7g*zu2# 4.10.6 默认设计 64 MTZCI} 4.11 图表 64 .pQ5lK(R 4.11.1 合并曲线图 67 !cYID \}S, 4.11.2 自适应绘制 68 rU&Y/ 4.11.3 动态绘图 68 DAP/ 4.11.4 3D绘图 69 -` ViuDX= 4.12 导入和导出 73 8K?}!$fz 4.12.1 剪贴板 73 ;'8Wl 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 5;HGS{` 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 $b1>,d'oz 4.13 背景 77 DE?k|Get2 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 GT6i9*tb# 4.15 生成Rugate 84 $zp|()_ 4.16 参考文献 91 tEvDAI} 5 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 i79$D:PcLa 5.1 Jobs 92 1xd6p 5.2 创建一个新Job(工作) 93 a-Y6ghs 5.3 输入材料 94 U364'O8_ 5.4 设计数据文件夹 95 xZ P
SUEG 5.5 默认设计 95 J(d[05x0 6 细化和合成 97 9!Q ZuZY 6.1 优化介绍 97 h7q{i|5 6.2 细化 (Refinement) 98 xS tsw5d 6.3 合成 (Synthesis) 100 n|&=6hiI 6.4 目标和评价函数 101 K+!e1
' 6.4.1 目标输入 102
^ExuIe 6.4.2 目标 103 'QG`^@Z 6.4.3 特殊的评价函数 104 IiqqdU] 6.5 层锁定和连接 104 5%WAnh 6.6 细化技术 104 l3>e-kP 6.6.1 单纯形 105 x4c|/}\)*
6.6.1.1 单纯形参数 106 2SC-c `9) 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 UTKyPCfj 6.6.2.1 Optimac参数 108 $M,<=.oT 6.6.3 模拟退火算法 109 I<D7Jj 6.6.3.1 模拟退火参数 109 G6zFQ\&f 6.6.4 共轭梯度 111 6384$mT,S 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {{Ox%Zm 6.6.5 拟牛顿法 112 Z/G#3-5)p 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 g^+p7G 6.6.6 针合成 113 CO@G%1# 6.6.6.1 针合成参数 114 SR?mSpq5 6.6.7 差分进化 114 O[t?*m1/ 6.6.8非局部细化 115 E-.X%xfO 6.6.8.1非局部细化参数 115 ~nU9j"$ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 F<g&t|@ 6.7.1 细化 116 |YROxY"ML 6.7.2 合成 117 ydYsmTr 6.8 参考文献 117 ?#
FYF\P 7 导纳图及其他工具 118 dv\bkDF4A 7.1 简介 118 ial{A6X 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 =bC' >qw} 7.2.1 四分之一波长规则 119 9gw;MFP)D 7.2.2 导纳图 120 ~9FL]qo 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 :Q=y'< 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ZN$%\,< 7.5 斜入射导纳图 141 L}rZ1wV6 7.6 对称周期 141 HP]5"ziA 7.7 参考文献 142 CYy=f- 8 典型的镀膜实例 143 =YgH-{ 8.1 单层抗反射薄膜 145 C}mhnU@ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 !;|#=A9 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 hxMRmH[f: 8.4 W-膜层 148 Eej
Lso#\ 8.5 V-膜层 149 tW|0_m>{ 8.6 V-膜层高折射基底 150 tdxzs_V,- 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Rkg8 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 T,9q~*" 8.9 四层抗反射薄膜 153 f^1J_}cL 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 aq_K,li#w 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 r_$*euh@ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 OgIRI8L 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 V9$T=[ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 u:|^L]{ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 wW*7 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 pZ|{p{_j 8.17 1/4波长堆栈 162 *w4#D:g 8.18 陷波滤波器 163 ;LP3 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 d%0Gsga} 8.20 褶皱 165 UU>+ b: 8.21 消偏振分光器1 169 v; i4ZSV^A 8.22 消偏振分光器2 171 3S+9LOrhY 8.23 消偏振立体分光器 172 >eG<N@13p 8.24 消偏振截止滤光片 173 BZQ}c<Nl 8.25 立体偏振分束器1 174 ugTsI~aE 8.26 立方偏振分束器2 177 2YZ>nqy 8.27 相位延迟器 178 QyVAs ; 8.28 红外截止器 179 GB Yy^wjU 8.29 21层长波带通滤波器 180 N!~]D[D 8.30 49层长波带通滤波器 181 SgxrU&:: 8.31 55层短波带通滤波器 182 dX/7n= 8.32 47 红外截止器 183 ZtO$kK%q; 8.33 宽带通滤波器 184 kVWcf-f 8.34 诱导透射滤波器 186 tlp,HxlP 8.35 诱导透射滤波器2 188 !Ea >tQ| 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 kH hp;< 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 p*0[:/4 8.35 增益平坦滤波器 193 3A`]Rk
8.38 啁啾反射镜 1 196 r c[~S 8.39 啁啾反射镜2 198 7d%x 7!E 8.40 啁啾反射镜3 199 rz_W]/G-P 8.41 带保护层的铝膜层 200
:2nsi4 8.42 增加铝反射率膜 201 1Mp-)-e 8.43 参考文献 202 Sk7R;A 9 多层膜 204 H@@ 4n%MK 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 1-E6ACq 9.2 内部透过率 204 _:Xmq&<W 9.3 内部透射率数据 205 b/a\{ 9.4 实例 206 *tj(,:! 9.5 实例2 210 n?cC]k;P~ 9.6 圆锥和带宽计算 212 b)'CP Cu* 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 .%n_{ab1 10 光学薄膜的颜色 216 [pTdeg;QE 10.1 导言 216 Hj
r'C?[ 10.2 色彩 216 R]%"YQ V 10.3 主波长和纯度 220 d*{Cv2A. 10.4 色相和纯度 221 FhY#3-jH 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 &,G2<2_ b 10.6 色差 226 )/'WboL 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 {p1`[R&n# 10.8 颜色渲染指数 234 @ywtL8"1~ 10.9 色差计算 235 }_KzF~ 10.10 参考文献 236 FhUi{` 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 /xJD/"Y3& 11.1 短脉冲 238 a~jb%i_ 11.2 群速度 239 #d$zW4ur2 11.3 群速度色散 241 G?$o+Y'F 11.4 啁啾(chirped) 245 @Nsn0-B?ne 11.5 光学薄膜—相变 245 QnOgF 3t 11.6 群延迟和延迟色散 246 :5/Ue,~ag 11.7 色度色散 246 `ZEFH7P 11.8 色散补偿 249 9dA+#;? 11.9 空间光线偏移 256 Rs"=o>Qu 11.10 参考文献 258 C8|Ls(4Ck 12 公差与误差 260 ,e'm@d$Q* 12.1 蒙特卡罗模型 260 B1|nT?}J( 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 iT==aJ=~/& 12.2.1 误差工具 267 ^/E'Rf3[A 12.2.2 灵敏度工具 271 0>CG2 SRn 12.2.2.1 独立灵敏度 271 u=InE|SH 12.2.2.2 灵敏度分布 275 &T, ,fz$ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 'e]>lRZ 12.3 参考文献 276 y%%VJ}'X! 13 Runsheet 与Simulator 277 H( .9tuA 13.1 原理介绍 277 #3
E"Ame 13.2 截止滤光片设计 277
sG#O s 14 光学常数提取 289 .Xp,|T 14.1 介绍 289 ]pe7I
P 14.2 电介质薄膜 289 z8a{M$-Q 14.3 n 和k 的提取工具 295 3_
J'+ 14.4 基底的参数提取 302 Vc9Bg2f5 14.5 金属的参数提取 306 qc,E azmU 14.6 不正确的模型 306 ]'xci"qV` 14.7 参考文献 311 v[uVAbfQ 15 反演工程 313 %!Eh9C* 15.1 随机性和系统性 313 aMe&4Q 15.2 常见的系统性问题 314 xL_QTj 15.3 单层膜 314 kIS )*_ 15.4 多层膜 314
iWjNK"W 15.5 含义 319 5(CInl 15.6 反演工程实例 319 Ag0w8F 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 #\X)|p2 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Awfd0L;9 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 i695P}J2 16.1 光学性质的热致偏移 329 A nl1+ 16.2 应力工具 335 zu?112-v2 16.3 均匀性误差 339 *c4OhMU( 16.3.1 圆锥工具 339 *3Lo[GE> 16.3.2 波前问题 341 <$?#P#A 16.4 参考文献 343 Cu%BU}( 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 ]g$ky.; 17.1 引言 345 v0)
%S 17.2 操作数 345 N:3=G`Ws 18 如何在Function中编写脚本 351 +$ djX=3 18.1 简介 351 YC%xW* 18.2 什么是脚本? 351 ]p+KN>1e 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 4S4MQ 18.4 基础 352 e^q^AP+* 18.4.1 Classes(类别) 352 ~H \P0G5GA 18.4.2 对象 352 P51c Ehf 18.4.3 信息(Messages) 352 ?3DFm 18.4.4 属性 352 T$MXsq 18.4.5 方法 353 *.w6 =} 18.4.6 变量声明 353 W!ug^2" 18.5 创建对象 354 j^#\km B 18.5.1 创建对象函数 355 V$DB4YM1k 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 Yf[Cmn 18.5.3 丢弃对象 356 A
,0}bFK 18.5.4 总结 356 JQ}4{k 18.6 脚本中的表格 357 >,zU=I?9Y 18.6.1 方法1 357 :f Rta[ 18.6.2 方法2 357 k"[AV2UW1 18.7 2D Plots in Scripts 358 AiR#:r 18.8 3D Plots in Scripts 359 BIMX2.S1o 18.9 注释 360 rJf{YUZe 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 _^{RtP#= 18.11 一个更高级的脚本 362 tC1'IE-h 18.12 <esc>键 364 IG}yGGn 18.13 包含文件 365 -TH(Z(pB 18.14 脚本被优化调用 366 fGj66rMGw 18.15 脚本中的对话框 368 =4x6v< 18.15.1 介绍 368 ecl6>PS$' 18.15.2 消息框-MsgBox 368 aC9iNm8w 18.15.3 输入框函数 370 NlhC7 18.15.4 自定义对话框 371 h] )&mFiE" 18.15.5 对话框编辑器 371 k:/Z6TLk3 18.15.6 控制对话框 377
(oiQ5s^f 18.15.7 更高级的对话框 380 ,>(X}Q
18.16 Types语句 384 6& |