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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 |c!lZo/ v:@ud,d<
:a9$f8*b y1hJVYE2 介质目录中的斜光栅介质 74*iF'f?c aV?r %'~Z
Q$DF3[NC dLTA21b# 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 .AZ+|?d 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 XY`2>7 Q*AgFF%wn 斜光栅介质的编辑对话框 9:6d,^X MFLw^10(T `pd1'5Hm -<B{?D 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 vW4N[ .+ 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 {v}jV{'^um 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 Q Ph6
p3bg 斜光栅介质的编辑对话框 L\UM12 Fgg4QF
vR"<:r47? JSm3ZP|GqJ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 H0i\#)Xs 以下参数可用: _a=f.I - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) pGGx.&5#82 - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) wH[}@ w - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) dbLxm!;( - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) S~DY1e54GF ~j2=hkS
如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 6KI< J*Wz` abM4G 斜光栅介质的编辑对话框 Yhd|1,m9f xF3H\`{4x
@3b|jJyf +,$"%C 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 ,W/D 0 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 BV
HO_ k|}S K9 斜光栅介质的编辑对话框 kpN'H_ . ; i><03 Ey"<hAF ba VCvqiHn 首先,必须选择涂层材料。 n`hes_{,g 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 dO[w3\~ 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 XOy#?X/` -m~[z 斜光栅的编辑对话框 QYL
'; %7?v='s=
Kv:ih=? q}["Nww- $'Hg}|53 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 qqYH}%0dz 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 TY|]""3f9 wFaWLC|& 堆栈使用的评论 f(E 'i> `&U ['_%
Do|`wpR ? I}T[j ?Y~>H2 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 Pz"!8b-MN 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 jjm-%W@ 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 -j9R%+YW< 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 S-h1p` ca_8S8lv 斜光栅介质的采样配置 5aTyM_x 7c6-S@L 斜光栅介质采样 yXw xq(32 .n`MPx' -K/' }I 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 m-a_<xo 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 <_H0Q_/( 在右边,显示了介质的预览。 0nz
k?iP 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 [zR
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H2RNekck b,G+=&6u 采样斜光栅#1 MT#9x> r/L3j0
b\?#O} $(}kau 采样斜光栅#2 SJ7>*Sa(u$ n@g[VR2t
^LT9t2 Af0E_ 采样斜光栅#3 wR/i+,K mcDW&jwQ YKl!M/
qTyU1RU$9^ 采样斜光栅#4 Qq]UEI `Go b)w3
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