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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 E"9(CjbQ[ +YZo-tE
T#Q7L~?zY f2[R2sto@ 介质目录中的斜光栅介质 XfE0P(sE /69yR
MO$yst?fK q83^?0WD 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 #I?Z,;DI= 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
.mfLH N%: IDn<5# 斜光栅介质的编辑对话框 fD@d.8nXd K@*+;6y@ `bBkPH}M D2}^TIg 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 +r'&6Me! 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 CIMI? 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 ke8g tbm 斜光栅介质的编辑对话框 ( 0/M?YQF Pw<' rN8''
Dx1(}D ~\(c;J*Ir 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 7YD+zd: 以下参数可用: .iy>N/u - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) _|US`,kfc - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
O6NH - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) 5@+?{Cl - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) R/x3+_.f yVnG+R& 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 AE>W$x8P F/ZFO5C% 斜光栅介质的编辑对话框 @Pk<3.S0 ;Tr,BfV|Bf
UH-873AK ;Tnid7:S 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 U Buh'?j 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 OY}FtGy ^P@:CBO 斜光栅介质的编辑对话框 T`wDdqWbEG by'KJxl[ ss%, V3ht:>c9qs Q&.uL}R 首先,必须选择涂层材料。 g>h/|bw4 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 &*>.u8:r 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 H;4QuB'^ 2j8GJU/L 斜光栅的编辑对话框 dscah0T \4wMv[;7
F8Ety^9>9 d~qQ_2M[G F:q4cfL6 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 sR1_L/. 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 s 4_Dqm `{:Nt#7
堆栈使用的评论 KxK,en4)+ e:Y+-C5
)9"^ D YA$YT8iMe w"?Q0bhV9y 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 Qz(2Iu{E] 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 @
&N 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 #epbc K 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 ':pDlUA ,Tr&`2w 斜光栅介质的采样配置 #4mRMsW5" boEQI=!j\+ 斜光栅介质采样 N_K9H1r -$<oY88 ? Vd~ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 %3qjgyLZ| 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 c`;oV-f 在右边,显示了介质的预览。 ,Suk_aX> 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ?pZU'5le` =!q]0#
/al56n l%2VA 采样斜光栅#1 pF8$83S a6n@
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K% ISC>]` 采样斜光栅#2 V8 8u- GKIzU^f
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