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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 ZE{aS4c ^f!Zr
Cln^ 1N0 ,M| QN* 介质目录中的斜光栅介质 wV7@D[8 xzuPie\
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i&n >|y>e{P 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 dw@TbJ 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 = E##},N" gNG0k$nP 斜光栅介质的编辑对话框 5)h+(u C3 GG@iKL V ee4KMS @2)t#~Wc4h 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 r _{)?B 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 3U :YA&K( 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 ^\xCqVk_R 斜光栅介质的编辑对话框 u<BHf@AI kxt\{iy4
LG"BfYy6 0(Yh~{ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 7-g]A2N 以下参数可用: !y[}| - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) IBn'iE[> - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) JNU"5sB - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) [ flu|v - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) ]<&B
BQ FN{H\W1cf 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 K|P9uHD xMO[3D&D 斜光栅介质的编辑对话框 xg*\j)_} a>;3
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'Qp&,xK IG2 `9rR 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 kMfc"JXF 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 :pL1F)-* $9LGdKZ_D 斜光栅介质的编辑对话框 &etL&s v e
_SoM!; yBXkN&1=%; F``EARG)iu [RGC!}"mr 首先,必须选择涂层材料。 0{^l2?mgSb 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 sK"" 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 vu
!j{%GO &sr:\Qn X/ 斜光栅的编辑对话框 [N0/"> c >S-N|uR6
i"2J5LLv X-*KQ+? DRKc&F6Qy 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 LXTipWKz 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 luG023' (F4d Fh 堆栈使用的评论 "W,"qFx oJ4mxi@|#
P@! Q1pr OW[/%U> dctA`W@:- 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 's7 SZ$( 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 $z`cMQ r 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 jiw`i 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 ATXx?
b8h ~PH1|h6 斜光栅介质的采样配置 L&3Ar' =oKPMmpCZ 斜光栅介质采样 $fj"* zn?a|kt ]
fwTi(4y 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 7y)|^4X2 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 @Z=y'yc'y. 在右边,显示了介质的预览。 /%}YuN 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 HPd+Bd Tg{dIh.Q~O
wZ\e3H z ([4{n 采样斜光栅#1 J~yd]L> zM9) .D
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Jb)eC?6O yW6[Fpw 采样斜光栅#2 Sj]T{3mi 40l#'< y;
MR l*rK At^DY!3vx 采样斜光栅#3 d= T9mj.@ )lngef
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