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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 #+Lo&%p#3 % ~%>3
38P_wf~\ ?k4O)?28 介质目录中的斜光栅介质 @:DS/#! |L{<=NNs:D
E&k{ubcT >iP>v`J 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 l'N>9~f 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 {rr
ED z41
p$ 斜光栅介质的编辑对话框 _\ n'uW$ `nMHuv &,':@OQ F]Zg9c{# 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
/A|cO 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 O'JH=
' 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 XQ:HH 8 斜光栅介质的编辑对话框 ~..h= BzH7E[R49
LV=!nF0 m,e1:Nk< 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 >VqMSe_v 以下参数可用: ,)+O.Lf7&. - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) gDnG!i+ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) (CYVSO - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) NWB/N* - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) Cm}ZeQ \~nUk7. 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 PpN+q:( 2q# t/oN3T 斜光栅介质的编辑对话框 F!{N4X>%T &eY$(o-Hw
]\P Z.m.Uyz{7 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 r jU $*+ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 'rf='Y BU:s&+LYUv 斜光栅介质的编辑对话框 vzaxi;S< _}Jz_RS2` h bj^!0m #.}Su+XF ~C=`yj 首先,必须选择涂层材料。 c#9 zw[y-L 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 `Y.RAw5LrE 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 Q}]:lmqH r3Z-mJ$: 斜光栅的编辑对话框 2ok>z$Y {b/60xl?
4)9X) Qx Tjure]wQz z!Jce}mx 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 )X\3bPDJR 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 S%&l(=0X :'GTCo$3 堆栈使用的评论 uK(+WA 3{CGYd]_u
wrsETB
c 1[3"| WF-imI:EK 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 ,O
a) 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 9'//_ A, 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 KU33P>a"[k 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 Q'~;RE%T )IZ$R*Y{ 斜光栅介质的采样配置 O";r\Z =NJb9S&8A 斜光栅介质采样 $
Qg81mu .M:,pw"S] W,Dr2$V 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 aKCCFHq t! 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 w #(XiH* 在右边,显示了介质的预览。 &B3\;|\ 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 Y!&dj95y AW> P\>{RE
Zb2 B5(0 %q>gwq
A 采样斜光栅#1 Iobo5B `q_7rrkO
F>*w)6 4~ 5W<BEcV\ 采样斜光栅#2 e4CG=K3s UQW;!8J#R(
!2&h=;i~V ?wwY8e?S 采样斜光栅#3 zP=J5qOZ8 T/S-}|fhQ :^iR&`2~ OgH Wmb 采样斜光栅#4 XTW/3pB e`}|*^- i@B5B2
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