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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 Z%;)@0~f 9mm2V ps;
=WjJN Q n>T:2PQ3 介质目录中的斜光栅介质 ULTNhq
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i?W]*V~ply >@:667i,`
内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 wEK%T P4 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 '2wCP
EC <4sj@C 斜光栅介质的编辑对话框 /THNP 8. rkq)&l=ny .o"<N %2zas(b9j 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 }Qb';-+;d 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 i9y3PP) 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 bu&;-Ynb 斜光栅介质的编辑对话框 T(&kXMaB iW;}%$lVX
n/?eZx1 (`F|nG=X 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 +>u>`| 以下参数可用: Y}K!`~n1S - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) '6+Edu~Ho) - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) ki`8(u6l - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) Z/n3aYM - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) Wge ho ,y{0bq9*2 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 `i9N)3
X \w3%[+c 斜光栅介质的编辑对话框 AzxL%,_ ]L$4Py
:b<KX%g OWZS3Y+ 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 T
G_bje 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 }2h't.Z<u k06xz#pL 斜光栅介质的编辑对话框 Rnzqw,q %N>\:85? 64h_1,U 5St`@ =?HzNA$yh 首先,必须选择涂层材料。 ,TEuM| 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 -}E)M}W 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 |>Z&S=\I) wKGogf[(% 斜光栅的编辑对话框 gm(De9u 2YE7 23H=Z
r)OO&. P@j {=s:P|ah Sf=F cb 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 :4%<Rp 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 Q!YF!WoBX 3mk=ZWwv 堆栈使用的评论 |xp$OL"a 75kKDR}6
tCX9:2c r }ZLf RzpC1nd 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 m5)EQE}gPp 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 UOw~rK 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 jY rym- 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 P87ld._ L'13BRu` 斜光栅介质的采样配置 d [)_sa `'*F1F 斜光栅介质采样 ax<g0=^R }iD$4\ L M8\G>0Hc6 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 HmhUc,EC 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 c/b%T 在右边,显示了介质的预览。 5.O-(eSa0& 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 mPckf XIqv{w
$[j-C9W Yr5iZ~V$ 采样斜光栅#1 -E6J f$ N )'8o}E
KLG6QBkj M`)s>jp@w 采样斜光栅#2
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)!N2'Ld y=-{Q 采样斜光栅#3 tceIA8d6
6 lN?) <uQ l{nB.m2 #:]vUQ 采样斜光栅#4
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