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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 C\[g>_J 4~:D7",Jn
?=Z0N&}[ 37,)/8]lG 介质目录中的斜光栅介质 `jFvG\aC v".u#G'u
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aiZU I1Gk^wO 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 CH h6Mnw 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 ws}>swR, e-{4qt 斜光栅介质的编辑对话框 >\!>CuU kObgoMT<[ Vuo 8[h> L@5g#mSl 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 PmE2T\{s! 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 _UeIzdV9 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 h@?BA<'S 斜光栅介质的编辑对话框 )N&v.w {I_I$x_
nxYp9,c" !;C *Wsp} 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 W>7 o
ec 以下参数可用: Vt,"5c - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) %8GY`T:^ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) u%Yr&u - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) ma M8:\ - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) s*pgR=dZZ Z,Tv8; 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 4mzWNr>fb V0WFh=CM@ 斜光栅介质的编辑对话框 x-{awP >;@hA*<
9Ic~F^ w,FOq?j^k 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 @oL<Ioh 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 bMw)>4 FPPGf!Eq 斜光栅介质的编辑对话框 _7zER6#} Y;'7Ek) O8:,XTAN =#<TE~n2( ~FV
Z0%+, 首先,必须选择涂层材料。 "i1~YE 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 J5Tl62} 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 cy6P=k* ^CwzAB 斜光栅的编辑对话框 :bgi*pR{ \/9uS.Kw
^4yFLqrC @kLpK MW+]w~7_Q 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 7Jm9,4] 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 )LwB xCV3HnZ 堆栈使用的评论 `_'I 9,.a ^kMgjS}R
h&vq} DP NUm<> xla9:*pPn 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 )nS;]7pB@ 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 bd2"k;H<o 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 /tf}8d 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 f,Sybf/uHh zRJopcE< 斜光栅介质的采样配置 >i4UU0m -_ [Z5%B 斜光栅介质采样 a-,BBM 8| xF_ Y7rw1w $IQ !g 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 3L4lk8Dd 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 $N=A, S 在右边,显示了介质的预览。 ![iAALPNl 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ;ePmN|rq; E#T-2^nD
t\]CdH`+ o=2y`Eq 采样斜光栅#1 xgt dmv% Tp`by
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j7lLSusX %9=^#e+pE 采样斜光栅#2 ~OEP)c\k SN'LUwaMp!
~'HwNzDQc 0bpl3Fh.v 采样斜光栅#3 +MeEy{; Mx-,:a9} t_WNEZW7f 56AaviE C 采样斜光栅#4 yKa}U!$ VWmZ|9Ri ^c^9kK'
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