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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 9](RZ6A+o <v3pI!)x
jbp?6GW k1~? }+<e 介质目录中的斜光栅介质 6&_K; LL+PAvMg
1!Afq}| Kon|TeC>d 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 g9gi7.'0 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 ]MnQ3bWq"j h_15 " rd 斜光栅介质的编辑对话框 Sh\Jm*5 f"t+r
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qU-@Y$ 7'Gkip 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 \WxBtpbQB 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 gjn1ha"h%. 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 }ZJJqJ`*e 斜光栅介质的编辑对话框 3f(tb%pa5 wicW9^ik
>tE6^7B* IqqBUH 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 SE6c3 以下参数可用: qK]Om6 a~ - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) HNd? ' - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) ]E^)d|_ - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) 3,1HD_ - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) `o?PLE;)p OJD!Ar8Q 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 ~L:H]_8F l }!N/?A5 斜光栅介质的编辑对话框 %Ot*k%F P4fnBH4OQ
"6gBbm .yB{+ 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 2YK2t<EO 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 f([d/ ?X$*8;==6 斜光栅介质的编辑对话框 i':a|#e> |IDZMd0 MH|R @g +asO4'r R# ZO<g%' 首先,必须选择涂层材料。 lYS*{i1^ ' 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 Xn02p,, 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 u{S"NEc l OiZ2_2 斜光栅的编辑对话框 >L433qR 9#
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& l0LW,Bx !\!j?z=O8 US\h,J\Ju 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 m .R**g 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 \-8aTF s7,D}Zz 堆栈使用的评论 3~?m?vj|Y c$x>6&&L
ZE9.r` V=<AI.Z:w Y]DC; , 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 q@1xYz:J 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 S|F:[(WaM 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 <==6fc>s 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 Cv[1HO< A=wG};%_ 斜光栅介质的采样配置 y-{?0mLq AWi+xo| 斜光栅介质采样 <6+T&Ov6 }
L_Zmi$ T3@34}* 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 k"6&& 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 hii#kB2 在右边,显示了介质的预览。 J?Oeuk~[D 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 XSGBC:U)l ^I)+u>fJ
'mZQ}U=< y9.?5#aL 采样斜光栅#1 k U0.:Gcc +!ZfJZls
eJeL{`NS d.HcO^ 采样斜光栅#2 T3I{D@+0 !j}L-1*{ l
"C?H:8W =.w~qL 采样斜光栅#3 ^?*<.rsG /fdrf <W+9h0c HiBI0)N} 采样斜光栅#4 XlnSh<e }Rw6+; _!_1=|[
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