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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。 ?~s2 3%E
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KMZEUmY1R1
介质目录中的斜光栅介质 gyAKjLqqpi
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 268H!'!\ V=DT .u 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 K^fH:pV 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。 k| Ye[GM*
t_Rpeav 斜光栅介质的编辑对话框 a0=5G>G9c T{Rh n V1  s0bWg$
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斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 b+qdl`V d
首先，光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 sU }.2 k
这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过折射率定义。 6fr @y=s2: 斜光栅介质的编辑对话框 8!q$8]M
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N&'05uWY}
在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。 :w5p#+/,P
以下参数可用： P-~kxb9aa
- 填充率（定义光栅的上部分和下部分） `OWw<6`k
- z扩展（沿着z方向测量光栅高度） @5y ~A}Vd
- 倾斜角度左（脊左侧的倾斜角） x&PVsXdt5m
- 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角） -F+dmI,1$
P-c<[DSM'I
如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。 #Z.2g]. ,F)9{ <r] 斜光栅介质的编辑对话框 QY]G+3W y wS2` (
 aE'nW@YL.
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为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。 %x G3z7;
现在，额外的选项和结构的图形一起显示。 y@? t[A#v
d#*n@@V4 斜光栅介质的编辑对话框 6rD
Oa~< B !04zWYHo  gE~ ]^B{
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首先，必须选择涂层材料。 "o
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同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。 ' 3 MCb
接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。 ; OpN &q+
hn@T ]k 斜光栅的编辑对话框 u^ !c:RfE?
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由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。 ueM[&:g&MU
由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。 />,Tq!i\4}
+g6t)Gl 堆栈使用的评论 X\a*q]"_
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q0l=S+0
为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。 f;w7YO+$p9
一般来说，界面之间的距离必须手动设置。 >P/Nb]C
对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。 &S8Pnb)d
因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 10 D6fkjf
O0Vtvbj 斜光栅介质的采样配置 uuA
q\YZy/ ;HOOo>%_K 斜光栅介质采样 x/pM.NZF1 S|pMX87 R
g,0u_$U
接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 lW!}OzE(m
在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。 0E k + }`
在右边，显示了介质的预览。 3bGJ?hpp
介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 qf7oG0
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 SX4"HadV> \ tK{!v+ 采样斜光栅#1 >O:31 Uk 0xe!tA
 W_##8[r(? ,> ^6ztM 采样斜光栅#2 u6,NQ^4 }c"1;C&{
 38[k o 3 FccT@ ,.F 采样斜光栅#3 ;B'5B]A3 Q^iE, _Zq  z`^DQ8+\j
},d`<^~ 采样斜光栅#4 l^ @!,Z oB m^RHTZ  99\;jz7
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