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VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 vAyFm dJ^ K|dso]b/
D9j3Xu y|'SXM 介质目录中的斜光栅介质 )M)7"PC d&Ef"H
MEwo}=B #1>X58I^ 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 m1Y>Nj[f 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 ABUSTf< ],P;WPU 斜光栅介质的编辑对话框 m!<\WN6g e^.Fa59 lP<:tR~K 6R=W}q4 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 mdRU^n 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 "~D]E7Q3y 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 w8n|B?Sr 斜光栅介质的编辑对话框 =}.EY iD tKpmm`2
s`0QA!G{- DZi!aJ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 0qX3v<+[6 以下参数可用: \Ym5<];E - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) 3YVi"
k?2 - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) 2Lx3=[ik - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) :_O%/k1\@ - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) 'Fmvu Yb E-6|cz 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 ^<e.]F25M 0{=`on; 斜光栅介质的编辑对话框 j$+nKc$ y\a1iy
3D2E?$dX @HOBRRm` 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 9=UkV\m) 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 )b:7-}d Yl3n2R /U 斜光栅介质的编辑对话框 %mZ {4<7 [i]Ub0Dh7 ,lyb!k8 X-wf:h?i 1PpyV f 首先,必须选择涂层材料。 ,G2TVjz 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 M8tRjNWS? 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 bFW =ylF9 -4cXRv] 斜光栅的编辑对话框 |9B.mBoX ?Orxmxc
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OVV]x{ 0PWg;>^' U-|NY 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 Z:*76PP, 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 (2=Zm@Zpf l g-X:Z. 堆栈使用的评论 L|,!?cSAT +u3=dj"[
9T1ZL5 PbmDNKEh{ sJDas,7> 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 <"_d]?, 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 O<,\^[x 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 \ioH\9 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 ` eXaT8 Pqn@ST 斜光栅介质的采样配置 yrlf+tl &sU?Ok6 斜光栅介质采样 g4l
!xT =W"F[fD q,+yqrt 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 !Ze5)g%H 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 GgB,tam{p 在右边,显示了介质的预览。 HbxL:~:}J 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 hK_LEwd; K|Di1)7=/
sPR1?:0: sn)3ZA 采样斜光栅#1 {o>j6RS\ FGoy8+nB1M
@9lUSk^9 N9v1[~ bv_ 采样斜光栅#2 BDjn
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=,UWX3`f ,d {"m)r< 采样斜光栅#3 [_Qa9e vuoQz\ J{k79v IyWI5Q"t 采样斜光栅#4 *^:N.&] Mw;sLsu o}* hY"&
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