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在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 I9H+ $Wjd 9=Y-w s ?PLf+S 建模任务 {Dqf.w>t gTm[ <Y NEJxd%- 结果 9tWu>keu +wr2TT~ dFK/ 结果 Js ~_8 NO8)XJ3s hgL wxJu 结果 z`y!C3w< Rra<MOR
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