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Essential Macleod中文手册》 MJO-q $)c k]|~>9eY] 目 录 yx[/|nZDC4 |syR6(U} ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 AV]2euyn 第1章 介绍 ..........................................................1 U< fGGCw 第2章 软件安装 ..................................................... 3 ec;o\erPG 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 cqkV9f8Ro 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 4F:\-O 第5章 软件结构 ............................................................... 21 z&\a:fJ& 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 `/+>a8 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 v ;{#Q&( 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 [|$h*YK 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ]s'as9s9 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Bkc4TO 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 N>`Aw^ _@& 第12章 优化和综合 ..................................................................120 9W5lSX#^; 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 <'Eme 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 T?0eVvM 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 <n$'voR7] 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Z5n1@a__ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ?l{nk5,?-Y 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 rs[T=C Q 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 M|h3Wt~7 第20章 运行表单 .................................................................... 251 %sP*=5?vA 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 6d}lw6L 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284
<kqo^ 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 IEi^kJflU 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 K69'6?# 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 .`eN8Dl1 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 \}b%E'+_T 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 dZ@63a>>@ 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 .L~AL|2_ 7JH6A'& 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 6nvz8f3*r] C,r;VyW6BI 价 格:400元 Qw*|qGvy^ $6 f3F?y7 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 Ui W>J 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) H7n>Vx:L- ;)*eo_tQ 内容简介 rb.N~ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 r#a=@ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Ti5-6%~& 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ?fSG'\h> 8nV+e~-w 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 <]2w n 目录 {EQOP] Preface 1 CD~.z7,LC 内容简介 2 Vc Z3
X4/ 目录 i T0)@pt7> 1 引言 1 )Aqtew+A& 2 光学薄膜基础 2 DvvK^+-~ 2.1 一般规则 2 8l`*]1.W< 2.2 正交入射规则 3 q 2E_A 2.3 斜入射规则 6 qX{+oy5 2.4 精确计算 7 F]&*ow 2.5 相干性 8 sO@Tf\d 2.6 参考文献 10 xb8!B 3 Essential Macleod的快速预览 10 NBGH_6DROw 4 Essential Macleod的特点 32 W'TZ%K) I 4.1 容量和局限性 33 kxv1Hn"`{E 4.2 程序在哪里? 33 x%B/ 4.3 数据文件 35 b\2
ds, 4.4 设计规则 35 XSLFPTDEc 4.5 材料数据库和资料库 37 a:w#s}bL 4.5.1材料损失 38 ?=Kduef 4.5.1材料数据库和导入材料 39 =Xr.'(U 4.5.2 材料库 41 NgPk&niM 4.5.3导出材料数据 43 ?Ir:g=RP* 4.6 常用单位 43 WNtW|IV 4.7 插值和外推法 46 \9T7A& 4.8 材料数据的平滑 50 7%M_'P4 V 4.9 更多光学常数模型 54 8":Q)9;% 4.10 文档的一般编辑规则 55 D0f] $ 4.11 撤销和重做 56 ;2QP7PrSY 4.12 设计文档 57 3JR+O<3D 4.10.1 公式 58 +NUG 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 @r1_U,0e 4.10.3 沉积密度 59 R:qW;n%AF 4.10.4 平行和楔形介质 60 f!X[c?Xy" 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Z%UP6% 4.10.4 性能 61 >A"(KSNL 4.10.5 保存设计和性能 64 G3T]`Atf 4.10.6 默认设计 64 ");a3hD 4.11 图表 64 Ny/MJ#Lq 4.11.1 合并曲线图 67 Q7CsJzk~) 4.11.2 自适应绘制 68 ;O,jUiQ 4.11.3 动态绘图 68 X:{!n({r= 4.11.4 3D绘图 69 F#E3q|Q"BS 4.12 导入和导出 73 _+MJ%'>S 4.12.1 剪贴板 73 vl)l' 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 8&dF 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 T)_hpt. 4.13 背景 77 J'r^/ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 $*m-R*kt 4.15 生成Rugate 84 wMN]~|z> 4.16 参考文献 91 >9J:Uo1z 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 1o>xEWt:0K 5.1 Jobs 92 x,'!gT:j 5.2 创建一个新Job(工作) 93 u ^RxD^=L 5.3 输入材料 94 7G],T++N 5.4 设计数据文件夹 95 %;!.n{X 5.5 默认设计 95 _q^E,P 6 细化和合成 97 _@/8gPT*i 6.1 优化介绍 97 7{Wny&[0 6.2 细化 (Refinement) 98 xgtR6E^k 6.3 合成 (Synthesis) 100 Eh4=ZEX 6.4 目标和评价函数 101 Dvln/SBk 6.4.1 目标输入 102 ;dhQN}7 6.4.2 目标 103 L}NSR 6.4.3 特殊的评价函数 104 Etm?' 6.5 层锁定和连接 104 7 X4LJf 6.6 细化技术 104 Z3!`J& 6.6.1 单纯形 105 T51
`oZ` 6.6.1.1 单纯形参数 106 `r_/Wt{g 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 kcxAd 6.6.2.1 Optimac参数 108 }ad|g6i` 6.6.3 模拟退火算法 109 / XIhj 6.6.3.1 模拟退火参数 109 SgOheN- 6.6.4 共轭梯度 111 =tY T8Q;al 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 QmIBaMI# 6.6.5 拟牛顿法 112 3;Fhg!ZO 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ~Cjn7 6.6.6 针合成 113 I2Yz#V<%ru 6.6.6.1 针合成参数 114 &kw@,];4Z 6.6.7 差分进化 114 k VQ\1! 6.6.8非局部细化 115 Ga'swP=hf 6.6.8.1非局部细化参数 115 :Ux_qB 6.7 我应该使用哪种技术? 116 xId.GWY1 6.7.1 细化 116 Y6d@h? ht 6.7.2 合成 117 #LOwGJ$yVz 6.8 参考文献 117 bN@
l?w 7 导纳图及其他工具 118 as=LIw}Q4 7.1 简介 118 4X|zmr:A 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 .%QXzIa3F 7.2.1 四分之一波长规则 119 _J [P[(ab 7.2.2 导纳图 120 po7q mLq 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 OZ!^ak 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 1aABzB
^ 7.5 斜入射导纳图 141 @\I#^X5lv 7.6 对称周期 141 FxtI"g\0 7.7 参考文献 142 dcT80sOC 8 典型的镀膜实例 143 ~e.L.,4QZ8 8.1 单层抗反射薄膜 145 #R
RRu2 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 }o{(S%% 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 8HdAFRw 8.4 W-膜层 148 5*D/%]YsD 8.5 V-膜层 149 ;jTN| i' 8.6 V-膜层高折射基底 150 3oG,E;( 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 =mmWl9'mJ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 nt.y
!k 8.9 四层抗反射薄膜 153 /H+a0`/ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 #cLBQJq 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 pY$Q 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 GowH]MO 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 xAP+FWyV 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 2dgd~
8.15十五层宽带抗反射膜 159 gltBC${7wZ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 y18Y:)DkL 8.17 1/4波长堆栈 162 dnuu&Rv 8.18 陷波滤波器 163 W`*r>`krVJ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 /,Jqmm#s^ 8.20 褶皱 165 j1HW._G 8.21 消偏振分光器1 169 7vj2
`+r. 8.22 消偏振分光器2 171 9Lfv^V0 8.23 消偏振立体分光器 172 Fea(zJ_ 8.24 消偏振截止滤光片 173 FNId; 8.25 立体偏振分束器1 174 mlS$>O_aX 8.26 立方偏振分束器2 177 Q)z8PQl O 8.27 相位延迟器 178 ]"1DGg \A 8.28 红外截止器 179 eKqk= ( 8.29 21层长波带通滤波器 180 5i{j' {_(8 8.30 49层长波带通滤波器 181 cPc</[x[W 8.31 55层短波带通滤波器 182 w:l
V"]1 8.32 47 红外截止器 183 $
o#V# 8.33 宽带通滤波器 184 y$R_.KbO 8.34 诱导透射滤波器 186 vgN&K@hJ 8.35 诱导透射滤波器2 188 E q+_&Wk 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 -RK- Fu<e 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 efE.&] 8.35 增益平坦滤波器 193 b*Q&CL 8.38 啁啾反射镜 1 196 mU9kVx1+ 8.39 啁啾反射镜2 198 mUx+Y ]Ep 8.40 啁啾反射镜3 199 xFg>SJ7] 8.41 带保护层的铝膜层 200 ;mKb] 8.42 增加铝反射率膜 201 '(jG[ry&T 8.43 参考文献 202 R
.2wqkY 9 多层膜 204 {P#|zp 4C{ 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 ',5ky{ 9.2 内部透过率 204 ^D-/`d 9.3 内部透射率数据 205 *bpD`s
@ 9.4 实例 206 2jCf T>`3 9.5 实例2 210 QoH6 9.6 圆锥和带宽计算 212 9490o:s 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 6Sn .I1Wy 10 光学薄膜的颜色 216 N_q|\S>t/ 10.1 导言 216 tcog'nAz 10.2 色彩 216 #@nezu2 10.3 主波长和纯度 220 K@w{"7} 10.4 色相和纯度 221 k~FRD?[u 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 4#hSJ(~7S 10.6 色差 226 delu1r 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ,UdVNA 10.8 颜色渲染指数 234 G?Hdq; 10.9 色差计算 235 .y:U&Rw4 10.10 参考文献 236 jdJ>9O0A, 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 OprkR 11.1 短脉冲 238 G[q$QB+ 11.2 群速度 239 5bpEYW+ 11.3 群速度色散 241 BsYa3d=} 11.4 啁啾(chirped) 245 fvxu#m= 11.5 光学薄膜—相变 245 Aj]V`B:65 11.6 群延迟和延迟色散 246 -v|qZ' 11.7 色度色散 246 1|-Dj| 11.8 色散补偿 249 wZZ t 11.9 空间光线偏移 256 *<ewS8f*6 11.10 参考文献 258 q;)JISf. 12 公差与误差 260 %z4Nl$\ 12.1 蒙特卡罗模型 260 x0:m-C 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 yY&I |