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Essential Macleod中文手册》 PT`gAUCw C}GOwvAL> 目 录 #PRkqg+| m]U`7! ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 V5LzUg] 第1章 介绍 ..........................................................1 1~q|%"J 第2章 软件安装 ..................................................... 3 t7DT5SrR 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 0l ]K%5# 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 VSt)~ 第5章 软件结构 ............................................................... 21 *]
cm{N 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Xn3Ph!\Z5e 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 viY &D 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 [&
&9F}; 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 F.JvMy3 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 4jl-? 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 `H6kC$^Ofx 第12章 优化和综合 ..................................................................120 !_gHIJiq} 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 H6XlSj 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 'e>0*hF[ 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 wGf SVA-q\ 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 vN%SN>=L< 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 3 tp'}v 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ~O}LAzGb 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 H?>R#Ds- 第20章 运行表单 .................................................................... 251 8?O6IDeW 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 x-/ `c 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 R"=pAO.4l 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 _0<EbJ8Z 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 (TV ye4Z 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 qJN2\e2~f 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 eZm,K'/! 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 N?h=Zl| 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 #yk
m TnqspS2;R 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 gG^K\+S s^b2H
!~ 价 格:400元 {?
jr M38QA 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 ^U.8grA 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) !e>EDYbY COa"zg 内容简介 #xS8 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 V\"x#uB 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 r-+ .Ax4L" 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 +tNu8M@xFo wYJ. F 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 uf (`I 目录 *;wPAQE Preface 1 T,,,+gPx 内容简介 2 "3A.x1uQ 目录 i !K#Q[Ee 1 引言 1 d([NU; 2 光学薄膜基础 2 YAqv: 2.1 一般规则 2 I_IDrS)O 2.2 正交入射规则 3 #]'#\d#i 2.3 斜入射规则 6 vl<W`)' 2.4 精确计算 7 p*8LS7UT 2.5 相干性 8 {(i>$RG_ 2.6 参考文献 10 T<"Hh.h 3 Essential Macleod的快速预览 10 #=@(
m.k:s 4 Essential Macleod的特点 32 @54D<Lj 4.1 容量和局限性 33 `g&<7~\=A 4.2 程序在哪里? 33 A=/|f$s+ 4.3 数据文件 35 *4;MO2g 4.4 设计规则 35 p`)( 4.5 材料数据库和资料库 37 V^WR(Q} 4.5.1材料损失 38 %l!Gt"\xm 4.5.1材料数据库和导入材料 39 /ov&h; 4.5.2 材料库 41 w%&lCu@v 4.5.3导出材料数据 43 UUGwXq96i 4.6 常用单位 43 Iq`:h&'!L 4.7 插值和外推法 46 rYbb&z!u 4.8 材料数据的平滑 50 00 Qn1 4.9 更多光学常数模型 54 {%ZD^YSA 4.10 文档的一般编辑规则 55 JW ;DA E< 4.11 撤销和重做 56 u;m[, 4.12 设计文档 57 GU\}}j] 4.10.1 公式 58 3zU!5tg 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <J4|FOz!= 4.10.3 沉积密度 59 st"uD\L1p: 4.10.4 平行和楔形介质 60 7KOM,FWKe 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 e$M \HPc 4.10.4 性能 61 S+G!o]&2 4.10.5 保存设计和性能 64 y~CK&[H 4.10.6 默认设计 64 !%<bLD8 4.11 图表 64 hiWfVz{~ 4.11.1 合并曲线图 67 E(F<shT# 4.11.2 自适应绘制 68 V)CS,w 4.11.3 动态绘图 68 :!a'N3o> 4.11.4 3D绘图 69 C~IsYdln 4.12 导入和导出 73 Zb<IZ)i# 1 4.12.1 剪贴板 73 C=&7V 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 j]\3>. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 v`ckvl)(C 4.13 背景 77 zrWkz3FN 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 1@*qz\ YY 4.15 生成Rugate 84 og<mFbqkq7 4.16 参考文献 91 RM8p[lfX 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 AV\6K;~ 5.1 Jobs 92 dYdZt<6W<( 5.2 创建一个新Job(工作) 93 `,XCD-R^ 5.3 输入材料 94 Sq"O<FmI 5.4 设计数据文件夹 95 iq_y80g`8h 5.5 默认设计 95 RO(~c-fV 6 细化和合成 97 B2\R#&X. 6.1 优化介绍 97 x9Veg4Z7 6.2 细化 (Refinement) 98 RN(>37B3_ 6.3 合成 (Synthesis) 100 I^>m-M. 6.4 目标和评价函数 101 gPs%v`y)*D 6.4.1 目标输入 102 R0dIxG% 6.4.2 目标 103 w8$rt 6.4.3 特殊的评价函数 104 dHp(U
:) 6.5 层锁定和连接 104 &VG|*&M 6.6 细化技术 104 {kGcZf3h 6.6.1 单纯形 105 $e66j V 6.6.1.1 单纯形参数 106 n]$50_@ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 DK8eFyG^2 6.6.2.1 Optimac参数 108 d4OWnPHv&} 6.6.3 模拟退火算法 109 =\;yxl 6.6.3.1 模拟退火参数 109 w E^6DNh 6.6.4 共轭梯度 111 $^|I?5xD 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 y{CyjYpz^ 6.6.5 拟牛顿法 112 H'N$Vv2q 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 TX7B (JZD 6.6.6 针合成 113 NjT#p8d X 6.6.6.1 针合成参数 114 gd~# uR\ 6.6.7 差分进化 114 VJ1(|v{D4[ 6.6.8非局部细化 115 KLqn`m`O; 6.6.8.1非局部细化参数 115 1<Fh
aK 6.7 我应该使用哪种技术? 116 QJ{to% 6.7.1 细化 116 .kO!8Q-;% 6.7.2 合成 117 kkfwICBI 6.8 参考文献 117 Z|&Y1k-h 7 导纳图及其他工具 118 /">A3bq 7.1 简介 118 )Ih'0>= 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 `uRf*- 7.2.1 四分之一波长规则 119 VO"f=gFg 7.2.2 导纳图 120 Hd)z[6u8eT 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ]^9B%t
s9 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 (x7AV$N 7.5 斜入射导纳图 141 ^zjQ(ca@"x 7.6 对称周期 141 Q}#5mf&cD 7.7 参考文献 142 QIl![% 8 典型的镀膜实例 143 @o&.]FZs 8.1 单层抗反射薄膜 145 UO%VuC5B 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 !Gwf"-TQ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @R+bR<}] 8.4 W-膜层 148 d0(GE4+/ 8.5 V-膜层 149 y>+xdD0+ 8.6 V-膜层高折射基底 150 c-S_{~~ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 XI6LPA0% 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 0fc]RkHs" 8.9 四层抗反射薄膜 153 7/*a 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 UO-<~DgH 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 2q2;Uo`"S. 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 xgl~4 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 "X/cG9Lw 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 =\v./Q- 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ]KX _a1e 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 "]BefvE 8.17 1/4波长堆栈 162 ). +!/x 8.18 陷波滤波器 163 -OLXR c= 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 @D.]PZf 8.20 褶皱 165 p)M\q fZ 8.21 消偏振分光器1 169 VKa- 8.22 消偏振分光器2 171 {4\hxyw 8.23 消偏振立体分光器 172 H]:z:AAvX 8.24 消偏振截止滤光片 173 '8g/^Y@ 8.25 立体偏振分束器1 174 .;gK*`G2W) 8.26 立方偏振分束器2 177 ^Pc>/lY$Q% 8.27 相位延迟器 178 .f'iod- 8.28 红外截止器 179 [.e
Y xZ{= 8.29 21层长波带通滤波器 180 2Z]<MiAx D 8.30 49层长波带通滤波器 181 u*R9x3&/5 8.31 55层短波带通滤波器 182 s
}P-4Sg 8.32 47 红外截止器 183 %y
zFWDg 8.33 宽带通滤波器 184 1c=Roiq 8.34 诱导透射滤波器 186 I0\}S [+H 8.35 诱导透射滤波器2 188 'TPRGX~& 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 j[/'`1tOe 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Q>gU( 8.35 增益平坦滤波器 193 , WF)GS|7V 8.38 啁啾反射镜 1 196 iR-MuDM 8.39 啁啾反射镜2 198 !x9j~D'C` 8.40 啁啾反射镜3 199 \!8`kC 8.41 带保护层的铝膜层 200 y%T5"p$, 8.42 增加铝反射率膜 201 -la~p~8 8.43 参考文献 202 c"+N{$ vp 9 多层膜 204 V'h
O 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 bTzVmqGY 9.2 内部透过率 204 ^
K8JE, 9.3 内部透射率数据 205 |=.z0{A7H 9.4 实例 206 md[FtcY\ 9.5 实例2 210 !=#230Y 9.6 圆锥和带宽计算 212 k
fx<T 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 +NRn>1] 10 光学薄膜的颜色 216 X-di^%< 10.1 导言 216 XezO_V 10.2 色彩 216 kmM4KP#&| 10.3 主波长和纯度 220 dG{`Jk 10.4 色相和纯度 221 t/cjz/] 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ?V_Qa0k 10.6 色差 226 x q93>Hs 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 1Oo^ 10.8 颜色渲染指数 234 vx=I3o 10.9 色差计算 235 P[{w23`4 10.10 参考文献 236 ^o't& 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 +P6#7.p`Z 11.1 短脉冲 238 4ei
.- 11.2 群速度 239 [|{yr 11.3 群速度色散 241 5Ah-aDBj 11.4 啁啾(chirped) 245 :=04_5 z 11.5 光学薄膜—相变 245 9frx 60 11.6 群延迟和延迟色散 246 0_bt*.wI+ 11.7 色度色散 246 /qF7^9LtaY 11.8 色散补偿 249 S[UHx}. 11.9 空间光线偏移 256 a34'[R 11.10 参考文献 258 G?QFF6)}! 12 公差与误差 260
(H9%a-3 12.1 蒙特卡罗模型 260 -5\aL"?4 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 $JmL)r 12.2.1 误差工具 267 :o$ R@l 12.2.2 灵敏度工具 271 |6B:tw/. 12.2.2.1 独立灵敏度 271 ~nb%w?vv 12.2.2.2 灵敏度分布 275 c>K/f7 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 9Q :IgY?T 12.3 参考文献 276 8 Oeg"d 13 Runsheet 与Simulator 277 CTtF=\ 13.1 原理介绍 277 u*Oz1~ 13.2 截止滤光片设计 277 L&ws[8- 14 光学常数提取 289 HH6b{f@^ 14.1 介绍 289 BmrP]3 W? 14.2 电介质薄膜 289 #s1M>M) 14.3 n 和k 的提取工具 295 @Risabn 14.4 基底的参数提取 302 ^g[\.Q 14.5 金属的参数提取 306 >4\V/
I 14.6 不正确的模型 306 K_`*ZV{r 14.7 参考文献 311 2Z@<llsi 15 反演工程 313 /+RNPQO O 15.1 随机性和系统性 313 5 LX3. 15.2 常见的系统性问题 314 .Z&OKWL 15.3 单层膜 314 ~< |