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Essential Macleod中文手册》 *Z KI02M ]P(:z 目 录 nE+sbfC yd`xmc) ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 X +*@ 第1章 介绍 ..........................................................1 F5wCl2I 第2章 软件安装 ..................................................... 3 qWGnIPk 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Iu jly f 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 C&,&~^_F 第5章 软件结构 ............................................................... 21 |J'@-*5?[8 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 5iz]3]}% 第7章 设计窗口 .................................................................. 62
b~Op1p 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 4g b2$" ! 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 \ZigG{ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 LgjL+w19 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 [95(%&k.Q 第12章 优化和综合 ..................................................................120 tjBs>w 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 w W1aG 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 pB&3JmgR$) 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 >:Na^ +c 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 &xgMqv2/ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 VljAAt 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 `g<@F^x5 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 tU>wRw=d 第20章 运行表单 .................................................................... 251 %UI.E=`n 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ZvpcjP 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 |[CsLn; 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 e ,/I}W 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 }\:3}'S.$ 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 LU l6^JU 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 /WRS6n 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 4!i`9w$$" 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 6B)(kPW w0)V3 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 MGfDxHg] -GD_xk 价 格:400元 %2f``48# n`2d 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 d=o|)kV 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) A07g@3n J_C<Erx[O 内容简介 +wXrQV
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 F^7qLvh 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 :.'<ndM 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ah1d0eP %%`Nq&' 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 n1 =B 目录 U s86.@| Preface 1 8*!<,k="9 内容简介 2 8i!AJF9IQ} 目录 i l
Q]&:%^\ 1 引言 1 SUINV_>7 2 光学薄膜基础 2 L3JFQc/oh~ 2.1 一般规则 2 %obR2% 2.2 正交入射规则 3 X^ckTIdR 2.3 斜入射规则 6 gELk u . 2.4 精确计算 7 ']Gqa$(YC 2.5 相干性 8 C8rD54A'M 2.6 参考文献 10 L^i=RGx 3 Essential Macleod的快速预览 10 5XySF # 4 Essential Macleod的特点 32 (4cWq!ax<$ 4.1 容量和局限性 33 cjAKc|N J 4.2 程序在哪里? 33 k"\%x=# 4.3 数据文件 35 nDuf<mw 4.4 设计规则 35 J(JsfU4 4.5 材料数据库和资料库 37 g6{.C7m 4.5.1材料损失 38 L`;p.L
Bs_ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 +%Q: 4.5.2 材料库 41 1j0OV9 -| 4.5.3导出材料数据 43 S-}MS" 4.6 常用单位 43 &E0L7?l 4.7 插值和外推法 46 g}"`@H(9r3 4.8 材料数据的平滑 50 %KHO}gad1 4.9 更多光学常数模型 54 +PgUbr[p 4.10 文档的一般编辑规则 55 0D/u`- 4.11 撤销和重做 56 BZejqDr* 4.12 设计文档 57 aDmyr_f$ 4.10.1 公式 58 ZUP\)[~ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 XK??5'&{ 4.10.3 沉积密度 59 C~4_Vc* 4.10.4 平行和楔形介质 60 W2/FGJD 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 gNF8&T 4.10.4 性能 61 ^`~M f 4.10.5 保存设计和性能 64 I$/*Pt]; 4.10.6 默认设计 64 +^ a9i5 4.11 图表 64 b&[9m\AX` 4.11.1 合并曲线图 67 JTK>[|c9oE 4.11.2 自适应绘制 68 qzS 9ls>> 4.11.3 动态绘图 68 .] mYpz 4.11.4 3D绘图 69 b~fX=!M 4.12 导入和导出 73 )]WWx-Uf' 4.12.1 剪贴板 73 Z?X0:WK 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 1c_gh12 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Ri4t/H 4.13 背景 77 N`XJA-DE 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 nv&uhu/q 4.15 生成Rugate 84
R)i 4.16 参考文献 91 Go~bQ2*'(/ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 bHVAa# 5.1 Jobs 92 [p[nK=&r 5.2 创建一个新Job(工作) 93 maAZI-H{ 5.3 输入材料 94 kms&o=^ 5.4 设计数据文件夹 95 wI.i\S 5.5 默认设计 95 jy@vz,/:%5 6 细化和合成 97 *z[G+JX 6.1 优化介绍 97 [M>Md-pj 6.2 细化 (Refinement) 98 7jvy]5y8&~ 6.3 合成 (Synthesis) 100 N<lejZ}!q 6.4 目标和评价函数 101 dv=y,q@W 6.4.1 目标输入 102 \{r-e 6.4.2 目标 103 h/~:}Bof 6.4.3 特殊的评价函数 104 5tPBTS<<"L 6.5 层锁定和连接 104 U
|I>CDp 6.6 细化技术 104 ?_mcg8A@@* 6.6.1 单纯形 105 hY
2nT 6.6.1.1 单纯形参数 106 zRTR 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Gt#Jr!N~ 6.6.2.1 Optimac参数 108 )"k>}&' 6.6.3 模拟退火算法 109 X-1<YG 6.6.3.1 模拟退火参数 109 MuNM)pyxp 6.6.4 共轭梯度 111 C
yg e 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 gXr"],OM; 6.6.5 拟牛顿法 112 A4LGF 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Y[%1?CREP 6.6.6 针合成 113 b3(pRg[Fp 6.6.6.1 针合成参数 114 z _qy> 6.6.7 差分进化 114 9$,x^Qx 6.6.8非局部细化 115 7sP;+G 6.6.8.1非局部细化参数 115 GC?X>AC: 6.7 我应该使用哪种技术? 116 [ZwZGAP 6.7.1 细化 116 \zj _6Os 6.7.2 合成 117 x._IP,vRx^ 6.8 参考文献 117 vZV+24YWb 7 导纳图及其他工具 118 WrK!]17or 7.1 简介 118 DxjD/?R8 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 bqugo 7.2.1 四分之一波长规则 119 ]zp5 6U|xa 7.2.2 导纳图 120 mk>L:+ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 6o@}k9AN 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 '[#a-8-JY_ 7.5 斜入射导纳图 141 49f- u 7.6 对称周期 141 )"?6Es SF 7.7 参考文献 142 #_yQv? J 8 典型的镀膜实例 143 Rz}?@zh_8 8.1 单层抗反射薄膜 145 V:F;Nq%+j 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 |1^>n,C 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ^l1tQnj)7 8.4 W-膜层 148 ;\`~M 8.5 V-膜层 149 bc}X.IC 8.6 V-膜层高折射基底 150 :xw2\:5~0 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 =4GJYhj 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 RZ)sCR 8.9 四层抗反射薄膜 153 4R!A.N 9 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 =ark?<E 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 hW*2Le!I 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 b i^h&H 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 2m.RM&TdB 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 `-zdjc d 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ?]%JQ]Gf* 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 97:1L4w.( 8.17 1/4波长堆栈 162 d
q=>-^o 8.18 陷波滤波器 163 _'&N0 1 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 PoMkFG6 8.20 褶皱 165 M0!;{1 8.21 消偏振分光器1 169 ||v=in 8.22 消偏振分光器2 171 6cof Zc$ 8.23 消偏振立体分光器 172 kg[u@LgvoN 8.24 消偏振截止滤光片 173 'Z2:u!E 8.25 立体偏振分束器1 174 EM/NT/ 8.26 立方偏振分束器2 177 mhTpR0 8.27 相位延迟器 178 1@IRx{v$ 8.28 红外截止器 179 OJE<2:K 8.29 21层长波带通滤波器 180 9@AGx<S1 8.30 49层长波带通滤波器 181 .4={K)kz|F 8.31 55层短波带通滤波器 182 H e]1<tx 8.32 47 红外截止器 183 >yvP[$]!6 8.33 宽带通滤波器 184 ${'gyD 8.34 诱导透射滤波器 186 pTq,"}J!+ 8.35 诱导透射滤波器2 188 \V@SCA' 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 g+/%r91hZ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 4mOw[}@A 8.35 增益平坦滤波器 193 E
[JXQ76 8.38 啁啾反射镜 1 196 tb,.f3; 8.39 啁啾反射镜2 198 M<JJQh5 8.40 啁啾反射镜3 199 >JT{~SRB|Y 8.41 带保护层的铝膜层 200 J*6I@_{/U 8.42 增加铝反射率膜 201 >(z{1'f{ 8.43 参考文献 202 b~06-dk1 9 多层膜 204 Sp)KtMV 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 -Nmf}`_ 9.2 内部透过率 204 7=XQgbY/ 9.3 内部透射率数据 205 Qi Wv 9.4 实例 206 hTI8hh 9.5 实例2 210 lEi,duS) 9.6 圆锥和带宽计算 212 d$ Mk 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 .jMm-vox} 10 光学薄膜的颜色 216 s#w+^Mw$ 10.1 导言 216 Ku LZg 10.2 色彩 216 b{)('C$ 10.3 主波长和纯度 220 EZ #UdK_ 10.4 色相和纯度 221 ))c;DJc 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 k/l@P 10.6 色差 226 BEvSX|M>x 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 l^xkXj 10.8 颜色渲染指数 234 IyG5Rj2 10.9 色差计算 235 yb/<
7 10.10 参考文献 236 U[d/` 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 DHpU?;|3 11.1 短脉冲 238 3M{!yPlj 11.2 群速度 239 T~$ePVk>L 11.3 群速度色散 241 nR/; uTTz 11.4 啁啾(chirped) 245 !boKrSw 11.5 光学薄膜—相变 245 ;]fpdu{ 11.6 群延迟和延迟色散 246 IZ')1 11.7 色度色散 246 fEs957$ 11.8 色散补偿 249 f[7'kv5S 11.9 空间光线偏移 256 u#p1W|\4 11.10 参考文献 258 1hZM)) 12 公差与误差 260 bI[!y#_z4 12.1 蒙特卡罗模型 260 !N$4.slr<p 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ;KQ'/nII 12.2.1 误差工具 267 B2d$!Any 12.2.2 灵敏度工具 271 w GZ(bKyO 12.2.2.1 独立灵敏度 271 {%D
"0* ^ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 dQM# -t4* 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 4:r^6m%% 12.3 参考文献 276 >|0yH9af 13 Runsheet 与Simulator 277 #BS]wj2# 13.1 原理介绍 277 |L;'In 13.2 截止滤光片设计 277 R
$'}Z 14 光学常数提取 289 -Kg@Sj/U}R 14.1 介绍 289 yD1*^~ loJ 14.2 电介质薄膜 289 t)XV'J 14.3 n 和k 的提取工具 295 L:Wy- Z 14.4 基底的参数提取 302 i?=3RdP/R1 14.5 金属的参数提取 306 };o R x) 14.6 不正确的模型 306 3\=8tg p 14.7 参考文献 311 C*Ws6s>+z 15 反演工程 313 w2]1ftY 15.1 随机性和系统性 313 0nx
<f>n 15.2 常见的系统性问题 314 8e>;E 15.3 单层膜 314 ?;)(O2p 15.4 多层膜 314 1+eC'&@Xjt 15.5 含义 319 74gU4T 15.6 反演工程实例 319 }/c.>U 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 6./&l9{h+ 15.6.2 反演工程提取折射率 327 |Q9S$l] 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 s+zb[3} 16.1 光学性质的热致偏移 329 D{N1.rSxv 16.2 应力工具 335 {w!}:8p 16.3 均匀性误差 339 w41#?VC/ 16.3.1 圆锥工具 339 tHoFnPd\| 16.3.2 波前问题 341 nr&G4t+%Hv 16.4 参考文献 343 Rp`}"x9 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 GsDSJz 17.1 引言 345 zN5i}U=|r 17.2 操作数 345 nt;A7pI` 18 如何在Function中编写脚本 351 /SMp`Q88 18.1 简介 351 8.-PQ 18.2 什么是脚本? 351 -HoPECe 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 pbqa 18.4 基础 352 W@wT,yJ8@ 18.4.1 Classes(类别) 352 ; UrwK 18.4.2 对象 352 ?\vJ8H[bD 18.4.3 信息(Messages) 352 =Rb, `% 18.4.4 属性 352 xmiF!R 18.4.5 方法 353 $6y1';A 18.4.6 变量声明 353 ;uoH+`pf 18.5 创建对象 354 E/U1g4S 18.5.1 创建对象函数 355 B/5C jHz 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 P:*'x9` 18.5.3 丢弃对象 356 f7s]:n*Ih 18.5.4 总结 356 L7D'wf 18.6 脚本中的表格 357 !]kn=7 18.6.1 方法1 357 42m`7uQ 18.6.2 方法2 357 TqQ>\h"&_ 18.7 2D Plots in Scripts 358 < |