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Essential Macleod中文手册》 )b&-3$? R{)
Q1~H=q 目 录 \/*Nf?; 'cAc{\) ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 k]Alp;hVd 第1章 介绍 ..........................................................1 )Ab6!"' 第2章 软件安装 ..................................................... 3 Cx+WLD 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 !0ce kSesr 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 (/SGT$#8 第5章 软件结构 ............................................................... 21 ,'C30 A*p 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ^}o7* 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 \6lh `U 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ms}f>f= 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 8VP"ydg-U 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 `k(u:yGK 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 T3Frc ]6,4 第12章 优化和综合 ..................................................................120 T0`"kjE 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ]am~aJ|L
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 pd4cg?K 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 &:c:9w 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 T~%H%O(F 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 /Fv/oY 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Z&FkLww 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 OGJ=VQA 第20章 运行表单 .................................................................... 251 [dj5$l| 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 4l&"]9D 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 E
&7@#'l 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 {J~(#i
k
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 g4:VR:o 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 e=t<H"& 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 2wx!Lpr<i_ 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 B(j02<- 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 )Fqy%uR8 5M%,N-P^ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 tu\mFHvlg iOT)0@f' 价 格:400元 O)`fvpVU Ue(r}* 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 i`prv& 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) Tu]&^[B(' E:
9o;JU 内容简介 ;rd6ko Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 [}>#YPZ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 FU%~9NKX 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 S|"Fgoj r '#v71, 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 K7IyCcdB 目录 )`w=qCn1 Y Preface 1 6W5d7`A 内容简介 2 U1l0Uke 目录 i /b.$jnqL 1 引言 1 o2DtCU-A 2 光学薄膜基础 2 P7z:3o. 2.1 一般规则 2 >DL/.. 2.2 正交入射规则 3 ><[|
G9 2.3 斜入射规则 6 lDo(@nM 2.4 精确计算 7 q"S(7xWS 2.5 相干性 8 \}Dpb%^\ 2.6 参考文献 10 Hk,lX r 3 Essential Macleod的快速预览 10 TfJL+a0 4 Essential Macleod的特点 32 J"-_{)0lD 4.1 容量和局限性 33 TMK'(6dH 4.2 程序在哪里? 33 Vu}806kB 4.3 数据文件 35 T?>E{1pS 4.4 设计规则 35 Rho5s@N 7 4.5 材料数据库和资料库 37 [FGgkd} 4.5.1材料损失 38 O@s{uZ|A6 4.5.1材料数据库和导入材料 39 @rF/]UJ 4.5.2 材料库 41 \/!ZA[D|E\ 4.5.3导出材料数据 43 Ls]@icH0 4.6 常用单位 43 R*087X7
N| 4.7 插值和外推法 46 c15r':.5 4.8 材料数据的平滑 50 sTkIR5Z 4.9 更多光学常数模型 54 *8PN!^ 4.10 文档的一般编辑规则 55 0Q'v HZ" 4.11 撤销和重做 56 r@iASITX 4.12 设计文档 57 x=.tiM {# 4.10.1 公式 58 7F9;Su3. 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 |Ab{H% 4.10.3 沉积密度 59 2JVxzj<~` 4.10.4 平行和楔形介质 60 ryg4hHspl 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ~b Rd)1 4.10.4 性能 61 V5AW&kfd 4.10.5 保存设计和性能 64 u_LY\'n 4.10.6 默认设计 64 r'p =`2= 4.11 图表 64 c`
,
2h# 4.11.1 合并曲线图 67 FPF6H puV 4.11.2 自适应绘制 68
O}C)~GU 4.11.3 动态绘图 68 %(`#A.yaE 4.11.4 3D绘图 69 =h|wwQE 4.12 导入和导出 73 MLV:U 4.12.1 剪贴板 73 # ORO&78 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 1* ^'\W. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 "b]#MO}P 4.13 背景 77 cD2+hp|9 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 fywvJ$HD]L 4.15 生成Rugate 84 `XW*kxpm 4.16 参考文献 91 f"Vgefk 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ^/dS>_gtHv 5.1 Jobs 92 tiYOMA 5.2 创建一个新Job(工作) 93 1CkdpYjsj 5.3 输入材料 94 B_k2u 5.4 设计数据文件夹 95 b{M}5~e=B 5.5 默认设计 95 OQScW2a& 6 细化和合成 97 FW#P*}# 6.1 优化介绍 97 vc8?I."? 6.2 细化 (Refinement) 98 ~zF2`. 6.3 合成 (Synthesis) 100 l}rS{+:wK 6.4 目标和评价函数 101 xx }GOY.J 6.4.1 目标输入 102 +?[BU<X6u 6.4.2 目标 103 wAFW*rO5o 6.4.3 特殊的评价函数 104 rCBfD 6.5 层锁定和连接 104 :$g8Zm,y 6.6 细化技术 104 S@xXq{j 6.6.1 单纯形 105 %WGuy@tL 6.6.1.1 单纯形参数 106 3F+Jdr' 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 q+ pOrGh 6.6.2.1 Optimac参数 108 R?pR xY 6.6.3 模拟退火算法 109 ,%W<O. 6.6.3.1 模拟退火参数 109 gg^1b77hT 6.6.4 共轭梯度 111 _U0$ =V 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 \:v$ZEDJ> 6.6.5 拟牛顿法 112 L9FHgl? 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 }gGkV] 6.6.6 针合成 113 ^$-Ye]< 6.6.6.1 针合成参数 114 }$kQs!# 6.6.7 差分进化 114 ?WpenUWk 6.6.8非局部细化 115 ]|U-y645 6.6.8.1非局部细化参数 115 y&oNv
xG- 6.7 我应该使用哪种技术? 116 9o0!m Cq 6.7.1 细化 116 >MG(qi 6.7.2 合成 117 TWd;EnNM 6.8 参考文献 117 E4i0i!<z 7 导纳图及其他工具 118 C$9z 7.1 简介 118 yz\c5 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
eZL MP 7.2.1 四分之一波长规则 119 !bU\zH 7.2.2 导纳图 120 xHo&[{ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 z;Q<F 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Ai"-w" 7.5 斜入射导纳图 141 Jblj^n?Bm 7.6 对称周期 141 kKiA 7.7 参考文献 142 u~1o(Zn
= 8 典型的镀膜实例 143 7&B$HZ 8.1 单层抗反射薄膜 145 j1-,Sqi 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ZA(T
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %ow^dzW 8.4 W-膜层 148 (Yb[)m>fQ} 8.5 V-膜层 149 wy,p&g)> 8.6 V-膜层高折射基底 150 P"_$uO( 5x 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ',I0ih#Ls 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Vj?DA5W`' 8.9 四层抗反射薄膜 153 r0]4=6U 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 |=dC
)Azs 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 bh p5< |