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Essential Macleod中文手册》 mafAC73 b AA'=z< 目 录 E9~&f^f ?M*C*/R ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 X m_Ub>N5 第1章 介绍 ..........................................................1 DzX6U[= 第2章 软件安装 ..................................................... 3 KD[)O7hYC 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Zq2H9^![y~ 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 2c*VHIl; 第5章 软件结构 ............................................................... 21 DYy@t^sC 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 #R"9)vHp 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 jk WBw.( 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ~|$) 1 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 UcKWa>:Fi 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ;iwD/=Y 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 W#oEF/G 第12章 优化和综合 ..................................................................120 )[^:]}%r 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 f4@#pnJ3po 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ;n:H6cp 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 #=)?s
8T 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 hs -}:^S` 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 Z(Ls#hp 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 <E(-QJ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 DcFV^8O& 第20章 运行表单 .................................................................... 251 {4V:[*3 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 9v5.4a} 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 {kY`X[fvZ 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 $AL|d[[T[ 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 %o SfL;W7 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 >E2WZHzd2 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 T^f&58{ 7 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 YA/H;707l 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 K7d1(. BhhK| U/ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 hH|XtQ.n^ &`\kb2uep 价 格:400元 k^vmRe<lk 4^jZv$l5 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 ;#Crh}~ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) =^".{h'- G41$oalQ1 内容简介 }!J/ 9WKgU Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 6=[ PJM 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 .bY1N5=sz 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 _#\5]D~""
ZeDDH 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 a7 '\* 目录 Ov{B-zCA Preface 1 sjVl/t`l 内容简介 2 ES:p^/ =* 目录 i :L+zUlsf 1 引言 1 H603L|4 2 光学薄膜基础 2 6`{)p&9 2.1 一般规则 2 dsft=t8s 2.2 正交入射规则 3 E rRMiT 2.3 斜入射规则 6 Snvj9Nr 2.4 精确计算 7 {3yws4 2.5 相干性 8 :Q%yW%St$ 2.6 参考文献 10
h hNFp 3 Essential Macleod的快速预览 10 ^LAS9K1. 4 Essential Macleod的特点 32 %%-Tjw o 4.1 容量和局限性 33 Bg
8t'dw?K 4.2 程序在哪里? 33 t3h \.(mq 4.3 数据文件 35 i~M.F=I5 4.4 设计规则 35 8i+jFSZ$ 4.5 材料数据库和资料库 37 l.t. ,: 4.5.1材料损失 38 ?)ZLxLV:: 4.5.1材料数据库和导入材料 39 l>Oe ,`9O 4.5.2 材料库 41 :O2v0Kx 4.5.3导出材料数据 43 xdSj+507 4.6 常用单位 43 <MDFfnj 4.7 插值和外推法 46 JO;`Kz_$ 4.8 材料数据的平滑 50 /)HEx&SQmZ 4.9 更多光学常数模型 54 B\~3p4S 4.10 文档的一般编辑规则 55 !-Tmu 4.11 撤销和重做 56 i=+<7]Q 4.12 设计文档 57 Pp" )hFx 4.10.1 公式 58 :r[-7
[/ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 'G
By^hj? 4.10.3 沉积密度 59 iS^^Z ZyR 4.10.4 平行和楔形介质 60 S&g- 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 N_~Wu 4.10.4 性能 61 MDXQj5s^ 4.10.5 保存设计和性能 64 MZ#2WP)F 4.10.6 默认设计 64 UHm+5%ZC 4.11 图表 64 Y K 62#; 4.11.1 合并曲线图 67 b+fy&rk@- 4.11.2 自适应绘制 68 DL/*t.)"et 4.11.3 动态绘图 68 B=qRZA!DQ? 4.11.4 3D绘图 69 7.=s1~p 4.12 导入和导出 73 0DjBqh$ 4.12.1 剪贴板 73 {`SGB;ho
4.12.2 不通过剪贴板导入 76 jYssz4)tp 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 AI`1N%Owi 4.13 背景 77 X\:(8C;+ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 gl4
f9Ff 4.15 生成Rugate 84 j-\^
}K.& 4.16 参考文献 91 xn#I7]]G 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 t7&
GCZ 5.1 Jobs 92 )eVDp,.^ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 oHGf | 5.3 输入材料 94 6j.(l4} 5.4 设计数据文件夹 95 K0bmU(Xxp 5.5 默认设计 95 vVRCM 6 细化和合成 97 z[I/ AORl 6.1 优化介绍 97 jfhDi6N 6.2 细化 (Refinement) 98 i7E7%~S 6.3 合成 (Synthesis) 100 [ Sa
C 6.4 目标和评价函数 101 q>h+Ke 6.4.1 目标输入 102 sJ*U Fm{ 6.4.2 目标 103 *fyEw\`a 6.4.3 特殊的评价函数 104 <i@jD 6.5 层锁定和连接 104 <\Dl#DH 6.6 细化技术 104 k.VOS0 6.6.1 单纯形 105 8J@OMW&[l 6.6.1.1 单纯形参数 106
oEf^o*5( 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 m,"tdVo . 6.6.2.1 Optimac参数 108 "pJEzC 6.6.3 模拟退火算法 109 [1X5r<(W5 6.6.3.1 模拟退火参数 109 c35vjYQx0 6.6.4 共轭梯度 111 :re(khZq# 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 E<[
bgL 6.6.5 拟牛顿法 112 JaN_[ou 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ty8!"-V1 6.6.6 针合成 113 #8HXR3L5=! 6.6.6.1 针合成参数 114 2:0Y'\nn 6.6.7 差分进化 114 o*S $j Cf? 6.6.8非局部细化 115 nqW:P$ 6.6.8.1非局部细化参数 115 jtJ8r5j 1 6.7 我应该使用哪种技术? 116 }Bg<Fm 6.7.1 细化 116 [Cr~gd+q 6.7.2 合成 117 --hnv/AjI 6.8 参考文献 117 |I<-x)joIK 7 导纳图及其他工具 118 n Fn`>kQ 7.1 简介 118 Jm^jz 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 + {dIs 7.2.1 四分之一波长规则 119 %HS!^j3C% 7.2.2 导纳图 120 ;'+cT.cmH 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 VZ!$'?? 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 meWq9:z 7.5 斜入射导纳图 141 LR.+CxQ 7.6 对称周期 141 2fA9L _:0 7.7 参考文献 142 ZOsn,nF 8 典型的镀膜实例 143 smS0Rk 8.1 单层抗反射薄膜 145 j ZafwBi 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 I=-;*3g6 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 a-hGpYJJG 8.4 W-膜层 148 I8:&Btf 8.5 V-膜层 149 VAzJclB 8.6 V-膜层高折射基底 150 (!=aRC.- 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 a
VMFjkW 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 @=1``z# 8.9 四层抗反射薄膜 153 ,_-*/- 7;8 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 1W7BN~p14 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 I(S6DkU 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 md
s\~l73 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 SHh(ujz, 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 DgP%Q 8.15十五层宽带抗反射膜 159 pdu 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 w\4m-Z{ 8.17 1/4波长堆栈 162 (`xnA~BN 8.18 陷波滤波器 163 S!cXc/H-R 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 T`;M!-)2 8.20 褶皱 165 y?hW#l~#X 8.21 消偏振分光器1 169 }A^,y 8.22 消偏振分光器2 171 GjG3aqP&! 8.23 消偏振立体分光器 172 <ZdNPcT<s 8.24 消偏振截止滤光片 173 u{z{3fW_ 8.25 立体偏振分束器1 174 x~^nlnKVf 8.26 立方偏振分束器2 177 0&~u0B{ 8.27 相位延迟器 178 '& :"/4@) 8.28 红外截止器 179 CB1u_E_ 8.29 21层长波带通滤波器 180 5w9<_W0d 8.30 49层长波带通滤波器 181 2N]s}/l 8.31 55层短波带通滤波器 182 .@V>p6MV 8.32 47 红外截止器 183 ARo5 Ss{ 8.33 宽带通滤波器 184 YJ$
=`lIM 8.34 诱导透射滤波器 186 [t'"4 8.35 诱导透射滤波器2 188 ]42l:at 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 mws.) 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 h='=uj8o5 8.35 增益平坦滤波器 193 J>35q'nN]F 8.38 啁啾反射镜 1 196 xcA:Q`c.{ 8.39 啁啾反射镜2 198 W
aU_Z/{0 8.40 啁啾反射镜3 199 >d\I*"C+d 8.41 带保护层的铝膜层 200 ,,gYU_V 8.42 增加铝反射率膜 201 j C? 8.43 参考文献 202 \9^@,kfP 9 多层膜 204 b.&YUg[# 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 <Z;BB)I&C` 9.2 内部透过率 204 jEI L(0_H 9.3 内部透射率数据 205 ~O6=dR
9.4 实例 206 %#~Wk|8} Q 9.5 实例2 210 <5%We(3 9.6 圆锥和带宽计算 212 {{\HU0g>& 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 aT #|mk=\ 10 光学薄膜的颜色 216 6~LpBlb 10.1 导言 216 yM@cml6Ox 10.2 色彩 216 I4'j_X
t 10.3 主波长和纯度 220 e`^j_VnEH 10.4 色相和纯度 221 r^)<Jy0|r 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 v},sWjv 10.6 色差 226 9`AQsZ2 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 b8&9pLl 10.8 颜色渲染指数 234 /Y:Zqk3 10.9 色差计算 235 p20Nk$. 10.10 参考文献 236 O/Vue 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 4tjRju? 11.1 短脉冲 238 p
WH u[Fu 11.2 群速度 239 6%-2G@6d 11.3 群速度色散 241 Ai;Pht9qi 11.4 啁啾(chirped) 245 R#>E{[9 11.5 光学薄膜—相变 245 [aC(Ga} 11.6 群延迟和延迟色散 246 Nsq%b?# 11.7 色度色散 246 <3KrhhH 11.8 色散补偿 249 %~~Q XH\ 11.9 空间光线偏移 256 YQ/*| 11.10 参考文献 258 c1[;a> 12 公差与误差 260 gQ~4udla. 12.1 蒙特卡罗模型 260 @p;4g_F 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 l}x{.q7Ul 12.2.1 误差工具 267 \] K-<&f 12.2.2 灵敏度工具 271 /Q-!><riD 12.2.2.1 独立灵敏度 271 <9"i_d% 12.2.2.2 灵敏度分布 275 n !QjptQ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 6C:Lq%} 12.3 参考文献 276 ctGjqHo 13 Runsheet 与Simulator 277 <IYt*vlm 13.1 原理介绍 277 9p XFC9 13.2 截止滤光片设计 277 F3q5!1 14 光学常数提取 289 DWI!\lK 14.1 介绍 289 u8*0r{kOH 14.2 电介质薄膜 289 ag6S"IXh 14.3 n 和k 的提取工具 295 S<TfvQ\,"@ 14.4 基底的参数提取 302 t%)L8%Jr 14.5 金属的参数提取 306 vd~O:=)4 14.6 不正确的模型 306 X^ovP'c2 14.7 参考文献 311 Xp'KQ1w) 15 反演工程 313 j[9B,C4 15.1 随机性和系统性 313 2rxdRg'YLQ 15.2 常见的系统性问题 314 sb1/4u/W 15.3 单层膜 314 ;.Kzc3yz} 15.4 多层膜 314 rO
NLbrj 15.5 含义 319 q~qig,$Y 15.6 反演工程实例 319 \vI_%su1N 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 A)xI.Q6 15.6.2 反演工程提取折射率 327 =xgW$c/yB 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 }~7>S5 16.1 光学性质的热致偏移 329 ^/c|s!U^ 16.2 应力工具 335 .D :v0Zm}m 16.3 均匀性误差 339 PSRGlxdO 16.3.1 圆锥工具 339 -$7Jc=:> 16.3.2 波前问题 341 @wo9;DW` 16.4 参考文献 343 4AGc2e'u 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 X@arUs7 17.1 引言 345 :!%oQQO 17.2 操作数 345 A#T;Gi 18 如何在Function中编写脚本 351 P5N"7/PfW 18.1 简介 351 .m<-)Kx 18.2 什么是脚本? 351 L8V'mUyD 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 t*COzE 18.4 基础 352 RKe19l_V 18.4.1 Classes(类别) 352 /:S.("Unv 18.4.2 对象 352 O&}0 7( 18.4.3 信息(Messages) 352 |PWLFiT(> 18.4.4 属性 352 2]@U$E='s 18.4.5 方法 353 n1H*][CK 18.4.6 变量声明 353 o*<(,I% 18.5 创建对象 354 9(m^^ 18.5.1 创建对象函数 355 ar6Z?v$ 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 kr3ZqMfeI 18.5.3 丢弃对象 356 $lO\eQGxB 18.5.4 总结 356 Y$(G)Fs 18.6 脚本中的表格 357 &P\T{d2" 18.6.1 方法1 357 9<R:)Df 18.6.2 方法2 357 4-m}W;igu 18.7 2D Plots in Scripts 358 `aCcTs7~]p 18.8 3D Plots in Scripts 359 QPBf++| 18.9 注释 360 C4b3ZcD2 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 FCg,p2 18.11 一个更高级的脚本 362 Qc6323/" 18.12 <esc>键 364 il:+O08_ 18.13 包含文件 365 *{XbC\j 18.14 脚本被优化调用 366 ?f a/}|T 18.15 脚本中的对话框 368 L:~
"Vw6]_ 18.15.1 介绍 368 _Wgg=A"G 18.15.2 消息框-MsgBox 368 " I:j a7 18.15.3 输入框函数 370 r>
NgJf, 18.15.4 自定义对话框 371 I+}h+[W 18.15.5 对话框编辑器 371 &ed.%: 18.15.6 控制对话框 377 oqG
0 @@ 18.15.7 更高级的对话框 380 $PNR? 18.16 Types语句 384 :
G< |