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Essential Macleod中文手册》 12:h49AP B%%.@[o, 目 录 OQytgXED Z%Tq1O ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 <t?x 'r?@ 第1章 介绍 ..........................................................1 +X* F<6mZ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 xVsa,EX b 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 (!3Yc:~RE 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 eHVdZ'%x 第5章 软件结构 ............................................................... 21
g( ]b\rj 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 p~Yy"Ec;p 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 U,%s; 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 "fX_gN? 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 "xe7Dl 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 dJdD"xj 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ]97Xu_ 第12章 优化和综合 ..................................................................120 8Ehy9< 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 /32Ta 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 N<L$gw+)$D 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 V9 +xL 1U# 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 }
D/+< 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 &57qjA,8< 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ;x!,g5q"q 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 l1-4n*fU 第20章 运行表单 .................................................................... 251 Ap
F*a$), 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ~=`f]IL 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 T!m42EvIvE 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 E@5zd@[ 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 o-\ok|,)#j 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ,X9hl J 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 _/8_,9H 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ~u_K&X 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 !6XvvTs/< 4'+d"Ok 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 x><zGXvvp| 6obQ9L c 价 格:400元 bh= \ vqrBRlZ 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 a6;gBoV 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) ]}nu9z< )x$!K[= 内容简介 z{Hz;m:*_ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 r :fwrC 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Nbgp_:{ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 H"Q(2I 06PhrPVa!\ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 C$KaT3I 目录 qJ\X~5{ Preface 1 iP~sft6 内容简介 2 I?f"<5[0 目录 i !&@2 1 引言 1 CMC?R,d 2 光学薄膜基础 2 D"`%|`O 2.1 一般规则 2 -(6eVI 2.2 正交入射规则 3 >=4sPF) 2.3 斜入射规则 6 5|yZEwq 2.4 精确计算 7 'jh2**i 34 2.5 相干性 8 \ua9thOG 2.6 参考文献 10
bZxv/\ 3 Essential Macleod的快速预览 10 I'x$,s 4 Essential Macleod的特点 32 4qqF v?O[r 4.1 容量和局限性 33 V^j3y`K 4.2 程序在哪里? 33 S/a/1n$ U 4.3 数据文件 35 cge-'/8w% 4.4 设计规则 35
=Ov9Kf 4.5 材料数据库和资料库 37 }j&O/Up 4.5.1材料损失 38 'g. :MQ8 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Bfbl#ZkyL 4.5.2 材料库 41 g;$E1U=R-E 4.5.3导出材料数据 43 w+Ad$4Pf" 4.6 常用单位 43 ^%-NPo< 4.7 插值和外推法 46 cL6 6gOEL 4.8 材料数据的平滑 50 (&q@~
dJ 4.9 更多光学常数模型 54 ?(]a*~rx 4.10 文档的一般编辑规则 55 4;?1Kb# 4.11 撤销和重做 56 |__d 8a 4.12 设计文档 57 >r~0SMQr 4.10.1 公式 58 fwRGT|":B 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %wOOzp` 4.10.3 沉积密度 59 ,xYg 4.10.4 平行和楔形介质 60 #g,H("Qy({ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
Q{O/xLf 4.10.4 性能 61 X>2?
`8M 4.10.5 保存设计和性能 64 3QH(4N 4.10.6 默认设计 64 3)dP7rmZ 4.11 图表 64 `hzd|GmX 4.11.1 合并曲线图 67 H1Q''$}Z. 4.11.2 自适应绘制 68 Xu6jHJ@ x 4.11.3 动态绘图 68 ki#y&{v9Be 4.11.4 3D绘图 69 %cS#+aK6M' 4.12 导入和导出 73 [qSQ#Qzi2i 4.12.1 剪贴板 73 ,bxz]S1W 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 C:Vv!u 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 SF0Jb"kS 4.13 背景 77 x 96}#0' 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 xOhRTxic 4.15 生成Rugate 84 0"hiCGm' 4.16 参考文献 91 6ezcS}:+ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 OthG7+eF 5.1 Jobs 92 dZF8R 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Yi[4DfA 5.3 输入材料 94 NOV.Bs{
yL 5.4 设计数据文件夹 95 ehU"*9 5.5 默认设计 95 ZHz^S)o\[s 6 细化和合成 97 P?xA$_+ 6.1 优化介绍 97 9wzwY[{ 6.2 细化 (Refinement) 98 O(odNQy~ 6.3 合成 (Synthesis) 100 %t q& 6.4 目标和评价函数 101 /GyEV Cc 6.4.1 目标输入 102 av)?>J~; 6.4.2 目标 103 )4PB<[u 6.4.3 特殊的评价函数 104 W.IH#`-9E 6.5 层锁定和连接 104 ej<`CQ 6.6 细化技术 104 |l$
u<3
6.6.1 单纯形 105 -W9gH 6.6.1.1 单纯形参数 106 3=IG#6)~C 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 L,6MF,vx 6.6.2.1 Optimac参数 108 Ny]lvgu9X 6.6.3 模拟退火算法 109 a"k'm}hVY$ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 A3j"/eKi2 6.6.4 共轭梯度 111 N_0pO<<cs 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 s~=g*99H 6.6.5 拟牛顿法 112 a`s/ qi 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 _g65pxt =Z 6.6.6 针合成 113 Y!F!@`%G 6.6.6.1 针合成参数 114 Xt\Dy 6.6.7 差分进化 114 /Ad6+cY 6.6.8非局部细化 115 GZ
<nXU> 6.6.8.1非局部细化参数 115 9+t=| 6.7 我应该使用哪种技术? 116 [Q|M/|mnR1 6.7.1 细化 116 $:(z}sYQ7 6.7.2 合成 117 _Cj(fFL 6.8 参考文献 117 4Q$!c{Y
r 7 导纳图及其他工具 118 loLKm]yV 7.1 简介 118 x+K gc[r 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 .ByU 7.2.1 四分之一波长规则 119 O hi D 7.2.2 导纳图 120 ^zHRSO 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 y>)MAzz~\ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 4aA9\\hfGY 7.5 斜入射导纳图 141 Jb9F=s+ 7.6 对称周期 141 ?@>;/@ 7.7 参考文献 142 p+vh[+yp 8 典型的镀膜实例 143 qZ& |