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Essential Macleod中文手册》 ZcYxH|Gn 8;5 UO,`T 目 录 cZe,l1$ E@}t1!E< ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 94 H\,}i8 第1章 介绍 ..........................................................1 |0vY'A)] 第2章 软件安装 ..................................................... 3 G;Q)A$- 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Y`uL4)hR5 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 gLaFIeF<+ 第5章 软件结构 ............................................................... 21 }mxy6m , 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ((SN We 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 +w?RW^:Q= 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 &y;('w 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 R Q X 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ^*C8BzcH 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 y"<nx3 第12章 优化和综合 ..................................................................120 m;>HUTj 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 /VgA}[%y 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 GO.mT/rB 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 ~]*P/'-{# 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ?dl7!I@<E< 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 c*'D 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 nAZuA]p}S] 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 5%mc| 第20章 运行表单 .................................................................... 251 P5yS`v$@ 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ;sE;l7 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 C&^"]-t 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 XkHO = 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 : P>Wd3m 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 *[]7l]XK. 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 T$U,rOB" 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 4GH?$p|LX 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Psij*%I4 gI~Ru8 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 Y,RBTH ,]gYy00w0s 价 格:400元 t4R=$
km %a{$M{s 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 lEL&tZ} 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) +!\$SOaR{ %>_ZUu3M 内容简介 ^vS+xq|4" Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 tY-{uHW&h 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 H4ml0SS^ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 =B@owx v@_b"w_TY 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 paF$o6\ 目录 ak 94"<p Preface 1 ~4S@kYe{3K 内容简介 2 3qR%Mf' 目录 i 7dhip 1 引言 1 BUqe~E|I 2 光学薄膜基础 2 $TyV<
G 2.1 一般规则 2 `bw>.Ay 2.2 正交入射规则 3 1K.i>]}> 2.3 斜入射规则 6 Nb~.6bsL 2.4 精确计算 7 {s&6C- 2.5 相干性 8 ]|ew!N$ar= 2.6 参考文献 10 uO8z . 3 Essential Macleod的快速预览 10 'B ocMjRA 4 Essential Macleod的特点 32 3e+ Ih2 4.1 容量和局限性 33 bq#*XCt# 4.2 程序在哪里? 33 A0Pg|M 4.3 数据文件 35 P~/Glak 4.4 设计规则 35 7t
&KKKV 4.5 材料数据库和资料库 37 !)~b Un 4.5.1材料损失 38 Y -%g5 4.5.1材料数据库和导入材料 39 .\ K0+b; 4.5.2 材料库 41 [}Vne;V 4.5.3导出材料数据 43 eT* )r~ 4.6 常用单位 43 H/n3il_-I 4.7 插值和外推法 46 [(Ss^?AJW 4.8 材料数据的平滑 50 #\U;,r 4.9 更多光学常数模型 54 p2s*'dab7 4.10 文档的一般编辑规则 55 wPdp!h7B~N 4.11 撤销和重做 56 ;/T=ctIs 4.12 设计文档 57 3m:[o`L 4.10.1 公式 58 qP=4D
9 ] 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 P/uk]5H^
4.10.3 沉积密度 59 {+r0Nikx_ 4.10.4 平行和楔形介质 60
`R]B<gp 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ',`GdfAsH 4.10.4 性能 61 R3=PV{`M 4.10.5 保存设计和性能 64 faH113nc 4.10.6 默认设计 64 yzJ
VU0s 4.11 图表 64 Ni"n_Yun 4.11.1 合并曲线图 67 hZ6CiEJB 4.11.2 自适应绘制 68 1Z-f@PoM 4.11.3 动态绘图 68 vZ3/t8$* 4.11.4 3D绘图 69 JtA
tG% 4.12 导入和导出 73 ]@YBa4}w 4.12.1 剪贴板 73 $KDH"J 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 8Ac5K! 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Qxb5Y)/jn 4.13 背景 77 )rX["= 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =To}yJ# 4.15 生成Rugate 84 ,FWC|uM" 4.16 参考文献 91 {oQ.y 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 7&-i
:2 5.1 Jobs 92 RE~:+.eB 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Y)="of 5.3 输入材料 94 DPIIE2X 5.4 设计数据文件夹 95 HAa$pGb 5.5 默认设计 95 ~m4{GzB 6 细化和合成 97 %^1@c f?. 6.1 优化介绍 97 q=Cc2|Ve 6.2 细化 (Refinement) 98 m^hi}Am1 6.3 合成 (Synthesis) 100 =^ 6.4 目标和评价函数 101 ,|RS]I>X 6.4.1 目标输入 102 #{97<sU\ 6.4.2 目标 103 8bl&-F` 6.4.3 特殊的评价函数 104 v 809/c* 6.5 层锁定和连接 104 p) #7K 6.6 细化技术 104 zg)-RCG 6.6.1 单纯形 105 xB.h#x>_` 6.6.1.1 单纯形参数 106 gr]:u4} 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ^B)iBfZ 6.6.2.1 Optimac参数 108 mWhQds6 6.6.3 模拟退火算法 109 rmVF88/; 6.6.3.1 模拟退火参数 109 liu%K9-r 6.6.4 共轭梯度 111 Qe8F(k~k 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 rDr3)*H?0 6.6.5 拟牛顿法 112 ue?e}hF 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Qv~KGd9 6.6.6 针合成 113 ! n@*6 6.6.6.1 针合成参数 114 e}V3dC^pU 6.6.7 差分进化 114 ib$_x:OO" 6.6.8非局部细化 115 hRKAs
]^j 6.6.8.1非局部细化参数 115 $A>\I3B 6.7 我应该使用哪种技术? 116 +OGa}9j- 6.7.1 细化 116 Zp:(U3% 6.7.2 合成 117 %OS}BAh^i 6.8 参考文献 117 %qN_<W&Ze 7 导纳图及其他工具 118 P'wn$WE[n\ 7.1 简介 118 btb$C 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 k{M4.a[( 7.2.1 四分之一波长规则 119 <K6:" 7.2.2 导纳图 120 tXZE@JyuC 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 }r%Si 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ,_ zivUU 7.5 斜入射导纳图 141 |ATz<"q> 7.6 对称周期 141 u;-_%? 7.7 参考文献 142
S xn# 8 典型的镀膜实例 143 #2&DDy)Bf 8.1 单层抗反射薄膜 145 ?_hKhn%K9
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Q7<_>)e^ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 fV}: eEo|Y 8.4 W-膜层 148 H);O. m 8.5 V-膜层 149 dS+/G9X^ 8.6 V-膜层高折射基底 150 ;;A8*\*$ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 12W`7 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ! };OLQ 8.9 四层抗反射薄膜 153 u1@&o9 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 /&PRw<}>_o 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 dCbRlW 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 16;r+.FB' 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 (4;m*'X 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 O7]p `Xi8 8.15十五层宽带抗反射膜 159 j=&]=0F 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 Rv-`6eyAA 8.17 1/4波长堆栈 162 2h_XfY'3pX 8.18 陷波滤波器 163 pQ:7%+Om 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 R&lJ& SgC 8.20 褶皱 165 xEULV4Qw 8.21 消偏振分光器1 169 <FaF67[Q 8.22 消偏振分光器2 171 lfle7; 8.23 消偏振立体分光器 172 nTy8:k '] 8.24 消偏振截止滤光片 173 1R}rL#h;= 8.25 立体偏振分束器1 174 REEs}88);' 8.26 立方偏振分束器2 177 blUnAu
o~ 8.27 相位延迟器 178 NVt612/'7y 8.28 红外截止器 179 5X4 #T&. 8.29 21层长波带通滤波器 180 j@7%% 8.30 49层长波带通滤波器 181 QQ*`tmy 8.31 55层短波带通滤波器 182 Z%rMX} 8.32 47 红外截止器 183 "L?h@8sa 8.33 宽带通滤波器 184 /Qa'\X,f3 8.34 诱导透射滤波器 186 m'j]T/WF 8.35 诱导透射滤波器2 188 ~2HlAU))<& 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 8ztVv 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 (pDu 8.35 增益平坦滤波器 193 &3@{?K 8.38 啁啾反射镜 1 196 w)nFH)f 8.39 啁啾反射镜2 198 9A7LDHst7 8.40 啁啾反射镜3 199 a/@F?\A 8.41 带保护层的铝膜层 200 E}YJGFB7" 8.42 增加铝反射率膜 201 e1Ne{zg~ 8.43 参考文献 202 :!'!V>#g 9 多层膜 204 ZqONK^ 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 9 a$\l2 9.2 内部透过率 204 ?QJS6i'k 9.3 内部透射率数据 205 ` FJ2
? 9.4 实例 206 nfj8z@! 9.5 实例2 210 6h?v/\ 9.6 圆锥和带宽计算 212 >e'Hz (~'/ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 =yR$^VSY 10 光学薄膜的颜色 216 3dl#:Si 10.1 导言 216 t)p . $ 10.2 色彩 216 o(gEyK 10.3 主波长和纯度 220 /s/\5-U7q 10.4 色相和纯度 221 iNlY\67sW 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 c[E" 10.6 色差 226 cZb5h 9 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 dcn/|"jr 10.8 颜色渲染指数 234 @ P'("qb~ 10.9 色差计算 235 ;2&ym)` 10.10 参考文献 236 C6PlO 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 7NFRCCXHQ 11.1 短脉冲 238 u&E$( 11.2 群速度 239 ]ChGi[B~9 11.3 群速度色散 241 _aaQ1A`p 11.4 啁啾(chirped) 245 F%-KY$% 11.5 光学薄膜—相变 245 MsD@pa 11.6 群延迟和延迟色散 246 fPpFAO 11.7 色度色散 246 K/;*.u`: 11.8 色散补偿 249 eI^Q!b8n 11.9 空间光线偏移 256 (O(X k+L 11.10 参考文献 258 ((AsZ$[S 12 公差与误差 260 rGqT[~{t 12.1 蒙特卡罗模型 260 17C"@1n- 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 -(;<Q_'s{" 12.2.1 误差工具 267 Fr|Ts>Kx 12.2.2 灵敏度工具 271 _u]S/X- 12.2.2.1 独立灵敏度 271 fZ6-ap,u 12.2.2.2 灵敏度分布 275 OL2 b 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 e,X{.NS 12.3 参考文献 276 jE#&u DfI 13 Runsheet 与Simulator 277 m"|AD/2;( 13.1 原理介绍 277 @p\te7(P% 13.2 截止滤光片设计 277 Rf4}4ixkj 14 光学常数提取 289 gm1 7VrC 14.1 介绍 289 X }""=
S< 14.2 电介质薄膜 289 ^5{0mn_4i
14.3 n 和k 的提取工具 295 4e!>A 14.4 基底的参数提取 302 LP{@r ic 14.5 金属的参数提取 306 ;;]^d_ 14.6 不正确的模型 306 &UextG |