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Essential Macleod中文手册》 H:6$)# d5hE!= 目 录 ?>&Zm$5V DcHMiiVM ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 4pv:u:Z 第1章 介绍 ..........................................................1 pXa? Q@6 第2章 软件安装 ..................................................... 3 K(S/D(\
FL 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 k6S<46}h| 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Y1IlH8+0 第5章 软件结构 ............................................................... 21 ~yN,F pD 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 CXZeL 1+ 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ;0'v`ob'.? 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 :_*Q
IyW 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ,vPF=wq 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 v'tk:Hm1 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 |#6Lcz7[ 第12章 优化和综合 ..................................................................120 IIkJ"Qg. 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 |e\%pfZ 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 _!7o 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 9j`-fs@: 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 C+5nft6: 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 )VC) } 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 .2xkf@OP 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 l.$#IE 第20章 运行表单 .................................................................... 251 .&y1gh!= 第21章 模拟器 ...................................................................... 271
~A/_\- 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 pyKag;ZtP 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 )w-?|2-w5 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 'S"F=)*- 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 M %~kh" 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 >YLm]7v} 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 #eYVZ=E 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 kns]P<g +zsya4r 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 o6 /?WR 9 zKNk(/y 价 格:400元 eORt
qX8* 3nO|A: t 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元 *C \O]r:' 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) OjZ@_V: JFZ p^{ 内容简介 i weP3u## Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 W=!f 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 I1gu<a 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 7nmo p7 -g0>>{M' 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 jJ|;Nwm<[ 目录 4rm/+Zes Preface 1 iwbjjQPr 内容简介 2 4tI~d8?pk+ 目录 i gA6C(##0 1 引言 1 H<
j+-u4b 2 光学薄膜基础 2 s>5 Z 2.1 一般规则 2 *q
RQN+% 2.2 正交入射规则 3 Fr~xN!
2.3 斜入射规则 6 S~T[*Z/m 2.4 精确计算 7 l_:%?4MA 2.5 相干性 8 {8' 5 2.6 参考文献 10 fOVRtSls 3 Essential Macleod的快速预览 10 utr_fFu 4 Essential Macleod的特点 32 Z(L>~+% 4.1 容量和局限性 33 {)mlXo(On 4.2 程序在哪里? 33 i+;EuHf 4.3 数据文件 35 gP3[=a"\ 4.4 设计规则 35 157X0&EX 4.5 材料数据库和资料库 37 nMhc3t 4.5.1材料损失 38 Z]tz<YSkG 4.5.1材料数据库和导入材料 39 y;;@T X 4.5.2 材料库 41 L|<Mtw 4.5.3导出材料数据 43 %9j]N$.V 4.6 常用单位 43 STI8[e7{ 4.7 插值和外推法 46 }^H_|;e1p 4.8 材料数据的平滑 50 M-NR!? 9 4.9 更多光学常数模型 54 %X3T<3< 4.10 文档的一般编辑规则 55 7$ 'ja 4.11 撤销和重做 56 @bZb#,n] 4.12 设计文档 57 jzQgDed ] 4.10.1 公式 58 "ggq7cJ}_ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 b#sO1MXv 4.10.3 沉积密度 59 SC# 4.10.4 平行和楔形介质 60 FEkx&9] 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 =6Z1yw7s 4.10.4 性能 61 8:f(PN 4.10.5 保存设计和性能 64 u%FA. 4.10.6 默认设计 64 hYLu 4.11 图表 64 fA8 ,wy|> 4.11.1 合并曲线图 67 s
SDBl~g 4.11.2 自适应绘制 68 ?IK[]=! 4.11.3 动态绘图 68 %n^]1R# 4.11.4 3D绘图 69 y=t
-/*K 4.12 导入和导出 73 k@?<Aw8_X 4.12.1 剪贴板 73 B#=dz,} 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 F
J)la9 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ="V6z$N 4.13 背景 77 .m
.v$( 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 .L}ar7 4.15 生成Rugate 84 C`fQ` RL\ 4.16 参考文献 91 /wQDcz 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 E11"uWk` 5.1 Jobs 92 b<%6aRC\ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Lr`yl$6 5.3 输入材料 94 #soWX_> 5.4 设计数据文件夹 95 d2pVO]l YZ 5.5 默认设计 95 .mMM]*e[0 6 细化和合成 97 L!\I>a5C0G 6.1 优化介绍 97 ,ecFHkT> 6.2 细化 (Refinement) 98 N*eZ4s' 6.3 合成 (Synthesis) 100 RJ`F2b sYN 6.4 目标和评价函数 101 HM`;%0T0( 6.4.1 目标输入 102 'h$1vT 6.4.2 目标 103 OmsNo0OA 6.4.3 特殊的评价函数 104 (f7R~le 6.5 层锁定和连接 104 yovC~ 6.6 细化技术 104 ]`LMyt0 6.6.1 单纯形 105 YM-,L-HMA 6.6.1.1 单纯形参数 106 kEi!q 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 q%nWBmPZ~y 6.6.2.1 Optimac参数 108 LBTf}T\ 6.6.3 模拟退火算法 109 PA Jt M 6.6.3.1 模拟退火参数 109 o<Q~pd#Ip, 6.6.4 共轭梯度 111 lwSA!W 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 yTv#T(of 6.6.5 拟牛顿法 112 HUZI7rC[=) 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 $%ps:ui~X 6.6.6 针合成 113 )KG.:BO< 6.6.6.1 针合成参数 114 q.*k
J/L 6.6.7 差分进化 114 eGjEO&$ 6.6.8非局部细化 115 J%{>I 6.6.8.1非局部细化参数 115 :U=*@p4? 6.7 我应该使用哪种技术? 116 g/eE^o~; 6.7.1 细化 116 ^I7iEv 6.7.2 合成 117 `$05+UU 6.8 参考文献 117 r3'0{Nn+ 7 导纳图及其他工具 118 K1Mn_)% 7.1 简介 118 (V&$KDOA 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 09/Mg 7.2.1 四分之一波长规则 119 idEhxvAo 7.2.2 导纳图 120 U<K)'l6#2n 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 J.$N<. 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 vkp_v1F%+ 7.5 斜入射导纳图 141 H>X:#xOA_ 7.6 对称周期 141 vr"O9L
w 7.7 参考文献 142 xQ%N%
` 8 典型的镀膜实例 143 m9 1Gc?c 8.1 单层抗反射薄膜 145 |cs]98FEf 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Pd)mLs Jg 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 A{MMY{K3 8.4 W-膜层 148 dSkM A 8.5 V-膜层 149 c~SR@ZU 8.6 V-膜层高折射基底 150 ~6DaM! 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 I;FHjnn( 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 n&1q* 8.9 四层抗反射薄膜 153 }Y:V&4DW 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 7v't# = 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 {\hjKP 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 QWcQtM 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 3?5JY;}h>" 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 4
Fl>XM 8.15十五层宽带抗反射膜 159 >P@g].Q- 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 JVydTvc 8.17 1/4波长堆栈 162 )V d^#p 8.18 陷波滤波器 163 a`I
\19p] 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 2{|Z?3FJ^ 8.20 褶皱 165 ||D PIn] 8.21 消偏振分光器1 169 z9Z4MXl 8.22 消偏振分光器2 171 T5|e\<l 8.23 消偏振立体分光器 172 MQ#k`b#() 8.24 消偏振截止滤光片 173 gWQ(B 8.25 立体偏振分束器1 174 tTOBKA89 8.26 立方偏振分束器2 177 'hR0JXy 8.27 相位延迟器 178 j<'ftKk 8.28 红外截止器 179 jI Entk 8.29 21层长波带通滤波器 180 "%lIB{ 8.30 49层长波带通滤波器 181 L+N\B@ 0- 8.31 55层短波带通滤波器 182 U$|q]N 8.32 47 红外截止器 183 uP G\1 8.33 宽带通滤波器 184 `R;i1/ 8.34 诱导透射滤波器 186 t'1g+g 8.35 诱导透射滤波器2 188 $Q"D>Qf{G 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 P?p]sLrP 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 zzK<>@c 8.35 增益平坦滤波器 193 e>6|# d 8.38 啁啾反射镜 1 196 E5!vw@, 8.39 啁啾反射镜2 198 'i',M+0>jC 8.40 啁啾反射镜3 199 !0dQfj^_ 8.41 带保护层的铝膜层 200 }ZK%@b> 8.42 增加铝反射率膜 201 )xq=V 8.43 参考文献 202 tk]D)+{u&c 9 多层膜 204 4C/G &w& 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 ?r0rY? 9.2 内部透过率 204 Unvl~lm6 9.3 内部透射率数据 205 z%S$~^=b 9.4 实例 206 @R%*; )*F 9.5 实例2 210 URceq2_ 9.6 圆锥和带宽计算 212 w?>f:2(=[ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 /poGhB1k 10 光学薄膜的颜色 216 >$7x]f 10.1 导言 216 XLC9B3Jt 10.2 色彩 216 @Ddz|4 vEi 10.3 主波长和纯度 220 SIapY%)h 10.4 色相和纯度 221 "\i H/ 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ( +Sv3h 10.6 色差 226 QEg[ 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ynv{
rMl 10.8 颜色渲染指数 234 )X-'Q - 10.9 色差计算 235 b{qN7X~> 10.10 参考文献 236 WG A1XQ{ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 rRg,{:;A 11.1 短脉冲 238 ltfKqY- 11.2 群速度 239 f-3CDUQ` 11.3 群速度色散 241 ;89kL] 11.4 啁啾(chirped) 245
yUj`vu2 11.5 光学薄膜—相变 245 1~ W@[D
11.6 群延迟和延迟色散 246 gUNhN1= 11.7 色度色散 246 /cb`%"Z 11.8 色散补偿 249 +}O -WX? 11.9 空间光线偏移 256 T?Kh' 11.10 参考文献 258 M^[;{p2uZ 12 公差与误差 260 gu3iaM$W 12.1 蒙特卡罗模型 260
&nDXn| 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 <Xl#}6II 12.2.1 误差工具 267 tPQ|znB| 12.2.2 灵敏度工具 271 1l$2T
y+
= 12.2.2.1 独立灵敏度 271 sEFQ8S 12.2.2.2 灵敏度分布 275 g:z<CSIq/ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 arDl2T,igF 12.3 参考文献 276 T[ZmD{6l 13 Runsheet 与Simulator 277 p;>A:i 13.1 原理介绍 277 kh9'W<tE 13.2 截止滤光片设计 277 n74\{`8]o 14 光学常数提取 289 g35!a<JW
14.1 介绍 289 nm@h5ON_ 14.2 电介质薄膜 289 gYhY1Mym 14.3 n 和k 的提取工具 295 GuO}CQs^W 14.4 基底的参数提取 302 r5DRF4,7 14.5 金属的参数提取 306 `*Yw-HL 14.6 不正确的模型 306 H0;Iv#S! 14.7 参考文献 311 HwHF8#D*l 15 反演工程 313 1(-!TJ{ 15.1 随机性和系统性 313 ;.V/ngaj 15.2 常见的系统性问题 314 x=t(#R m 15.3 单层膜 314 C<
9x\JY% 15.4 多层膜 314 6@s!J8! 15.5 含义 319 r }lGcG) 15.6 反演工程实例 319 ~ubvdQEW 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ~Jk&!IE2 15.6.2 反演工程提取折射率 327 <Z]#vrq 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 ^O18\a 16.1 光学性质的热致偏移 329 g}s$s} 16.2 应力工具 335 umIGI 16.3 均匀性误差 339 i)?7+<X 16.3.1 圆锥工具 339 C`hdj/!A 16.3.2 波前问题 341 23wztEp{a 16.4 参考文献 343 6nZ]y&$G-k 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 e0TYHr)X>3 17.1 引言 345 _#u\ar) 17.2 操作数 345 @|\9<S 18 如何在Function中编写脚本 351 hx9{?3# 18.1 简介 351 t>[W]%op 18.2 什么是脚本? 351 iApq!u, 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 m\56BP-AM 18.4 基础 352 hq
3n&/ 18.4.1 Classes(类别) 352 uzBQK 18.4.2 对象 352 ; ~pgF_ 18.4.3 信息(Messages) 352 ~[HzGm% 18.4.4 属性 352 <y@vv 18.4.5 方法 353 i>YS%&O? 18.4.6 变量声明 353 'XK 'T\m 18.5 创建对象 354 6kYluV+j 18.5.1 创建对象函数 355 ,U~A=bsa 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 JT?u[pQ^ 18.5.3 丢弃对象 356 8zp?WUb 18.5.4 总结 356 ye(b 7CX 18.6 脚本中的表格 357 tm+*ik=x| 18.6.1 方法1 357 %L=e%E=m 18.6.2 方法2 357 aKDY_D 18.7 2D Plots in Scripts 358 'JOUx_@z 18.8 3D Plots in Scripts 359 { ADd[V 18.9 注释 360 50cVS)hG6d 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 gJQ#j~' 18.11 一个更高级的脚本 362 Zw]"p63eMa 18.12 <esc>键 364 o-\h;aQJ 18.13 包含文件 365 WC#6(H5t$ 18.14 脚本被优化调用 366 XQo\27Fo 18.15 脚本中的对话框 368 \ %Mcvb.? 18.15.1 介绍 368 dua F?\vv 18.15.2 消息框-MsgBox 368 Anz{u$0M[ 18.15.3 输入框函数 370 P([!psgu 18.15.4 自定义对话框 371 /j~~S'sw 18.15.5 对话框编辑器 371 'H530Y\ 18.15.6 控制对话框 377 ;z'&$#pA 18.15.7 更高级的对话框 380 rtj/&> 18.16 Types语句 384 W'C>Fn}lO? 18.17 打开文件 385 ~/L:$ 18.18 Bags 387 S%iK); 18.13 进一步研究 388 OG5{oH#K 19 vStack 389 J :O!4gI 19.1 vStack基本原理 389 8,U~ p<Gz 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 #_DpiiS,.Q 19.3 五棱镜 393 Fi i(dmn 19.4 光束距离 396 riIubX# 19.5 误差 399 ,X|Oe@/ 19.6 二向分色棱镜 399 ^B<-.(F 19.7 偏振泄漏 404 &qx/ZT 19.8 波前误差—相位 405 H8eEBMGo 19.9 其它计算参数 405 90vWqL! 20 报表生成器 406 %Psg53N 20.1 入门 406 C~ &E7w |