国内首款全自主计算光刻EDA软件研发成功

近日，光谷企业成功研发出全国首款完全自主可控的OPC软件。OPC软件，即“光学邻近校正软件”，是芯片设计工具EDA的一种，没有它，即使用了光刻机，也造不出芯片。 J/D~]U  
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记者尚大原：“所谓光刻，就是把这个黑色版图上的电路图形通过光学成像的方式呈现在这块红色的硅片上，就像是照相机照相片，但是随着芯片关键尺寸从90nm到32nm不断降低，相片上的图形会不可避免地出现失真，而OPC软件就是避免这种失真。” ~:k r;n2  
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在180纳米以下芯片的光刻前，都必须采用OPC软件进行优化。目前，这一软件市场由三家美国公司垄断。 [qV/&t|O*h  
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华中科技大学教授、宇微光学软件有限公司创始人刘世元：“可以这么讲，没有OPC的话，即使有最好的光刻机也发挥不了作用，我们自主可控，最核心的就是（掌握）物理算法。” 5D=U.UdR  
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此次研发出OPC软件的光谷企业宇微光学，创始人刘世元来自华中科技大学，师从杨叔子院士。专注集成电路计算光刻的基础研究20余年。 ^t71${w##  
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华中科技大学教授、宇微光学软件有限公司创始人刘世元：“20年前参加国家的重大专项，100纳米分辨率光刻机的研制，回到学校以后就一直在从事计算光刻这方面的研究工作，坚持做基础的研究，做关键技术的攻关。” [O'aka Q  
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十多年来，刘世元团队坚持最底层的代码一行行敲、最基础的公式一个个算，终于打造出自主可控的OPC软件算法。目前，企业正在做集成与测试，并到芯片生产厂商进行验证，孵化企业的武汉光电工研院也将提供技术转化服务。 j~S=kYrGM  
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武汉光电工业技术研究院有限公司总经理韩道：“搭建一个产业生态，让我们更多解决了卡脖子的、拥有核心技术的工具，能够被客户所接受，并且稳定地升级，稳定地使用。” sw}^@0ua=  
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