高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
~B!O~nvdQ U+;>S$
.NkAD-k` T@|l@xm~L 2. 建模任务 z8[H:W#G
bW9"0=j[{
Blbq3y+Sq 20VVOnDY 3. 概述 m*!f%}T @vQa\|j cVay=5]. 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 /u)Rppu 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
3u*hTT *sw-eyn(
ck+b/.gw` NaA+/: 4. 光线追迹仿真 h/Hl?O8[ ISS\uj63M *v
rWA 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
^IGyuj0]jG 点击“Go!”。
:,kU#eZ$- 随即获得3D光线追迹结果
,?k%jcR C.>
GVG!sMmnX %5h^`lp 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。
x=5P+_ 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
!&`}]qQZ
#9`r XEz 5. 场追迹仿真 nlzW.OLM ejklpa ./ A)Qh 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
3@)obb 点击“Go!”。
8?7kIin i-,D_
0/\PZX+ YOV : 6. 场追迹结果(相机探测器) pp~3@_)b 7]|zkjgI i3Hz"Qs; 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
q_T]9d 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
a@#Q:O)4 R-pH Quu3
Wp5]Uk 7. 场追迹结果(电磁场探测器) c^=R8y-N 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
oYz!O]j;a J/'M N