高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
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~HB#7+b <D/K[mz- 2. 建模任务 lo$G*LWu:
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'#7k9\ ga;nM#/ 3. 概述 9\4x<* h$&Tg_/'#D ZAr6RRv ^ 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 ZaYiby@Ci 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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|*NLWN.ja) I?'*vAW< 4. 光线追迹仿真 NV*
2 wH ,PA: \}$|Uo$O 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
I _KHQ&Z* 点击“Go!”。
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IVQ 随即获得3D光线追迹结果
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g>VtPS5 y |Q/LC0? 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。
^*}D*=>\ 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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~^2w)-N 5. 场追迹仿真 &V?+Y2 l$gJ^Wf2gY l ms^|? 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
*:CTIV5N0 点击“Go!”。
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p%$r\G-x GJB+]b- 6. 场追迹结果(相机探测器) !0l|[c4 e> 16AlmegDk jWUrw 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
\^(#b,k# 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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-9om,U`t 7. 场追迹结果(电磁场探测器) >GIQT?O6 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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