高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
5.d[C/pRw TyhO+;
5Ky(C6E$s .F},Z[a& 2. 建模任务 49.B!DqQW&
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Jb*E6-9G +\]Gu(z< 3. 概述 2F
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"S H=|5+ #MFIsx)r 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 +/ rt'0o 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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JED\"(d( }i{A4f` 4. 光线追迹仿真 k(he<-GF\ e|N~tUVrrN $*;`$5.x^ 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
J6Vx7 点击“Go!”。
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UncV 随即获得3D光线追迹结果
?4^ 0xGyE aW-6$=W
&~=r .T .cm2L,1h 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。 点击“Go!”。
m?kyAW'| 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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.$@+ /@4 5. 场追迹仿真 w2db=9 2+_a<5l~ Ol~M
BQs 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
$<AaeyR!N 点击“Go!”。
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`Qjs{H stUUez> 6. 场追迹结果(相机探测器) Ss%1{s~ok |Ve,Y oKb"Ky@s 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
cPv(VjS1; 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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K`2(Q 7. 场追迹结果(电磁场探测器) . P+Qu
利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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