线上培训（第21期） | Ansys Zemax 成像设计 招生中！！

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培训大纲 ?bTfQH vX  
U&!TA(Yr  
01 OpticStudio 软件功能介绍; 3<0b_b  
02 材料库、镜头库介绍； 8Sbz)X  
03 如何定义新材料； j{@O%fv=  
04 如何使用镜头库； *Rgr4-eS  
05 像差理论介绍； uZqL'l+/y  
06 Zemax 里像差分析图谱； vB:\ZX4  
07 优化; :ym?]EL4o  
08 局部优化 +&GV-z~o  
09 全局优化； YW}$eW*  
10 锤形优化； \Z-th,t  
11 优化函数架构技巧； b IDUa  
12 单透镜优化实例 BZq#OAp  
13 双胶合优化实例； -^_m(@A<~  
14 热分析及衍射光学元件的使用; om3 %\  
15 实例设计及分析； 3]
Z1kB  
16 MTF YagfCi ?  
17 双高斯镜头设计及优化； a)_3r]sv^  
18 像质评价与图像模拟； 'o AmA=  
19 坐标变换； ]33!obM  
20 坐标断点面的使用技巧 t^s&1#iC  
21 序列模式棱镜建模； b?H"/Mu.  
22 扫描反射镜设计实例； tpfgUZ{  
23 柯勒照明综合设计实例； *t@A-Sn  
24 投影系统设计
5NU{y+  
25 集光系统设计； 2g.lb&3W  
26 暗盒系统介绍； L^J4wYFTO  
27 分析工具应用； yx-{PjX  
28 寻找最佳非球面 !3Q0Ahf  
29 曲率套样板； c[dSO(=  
30 镜头匹配工具； DUp`zW;B  
31 Zemax公差分析功能介绍; 8-Abg:)  
32 加工误差、装配误差； S{c/3k~  
33 灵敏度分析; q<3nAE$?=  
34 反灵敏度分析; P/%7kD@5;  
35 蒙特卡罗分析; ZU4=&K  
36 公差评价标准； uLhGp@Dx  
37 公差操作数； iaGA9l<b  
38 补偿变量的使用； IH|zNg{\Y  
39 单透镜公差分析； pUIN`ya[[  
40 库克镜头公差分析； ,jU>V]YC  
41 分析报告查看说明； qu=~\t1[6  
42 公差脚本的使用； cslC+e/  
43 镜头出图、CAD 出图； dwOfEYC  
44 小结及答疑。 Xp<q`w0I,  
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培训信息 ,
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主办单位：武汉宇熠科技有限公司 19 5_1?'<  
会议主题：Zemax 成像设计 Z@~gN5@,M  
培训讲师：武汉宇熠科技有限公司光学高级工程师 FP@_V-  
培训时间：2022年10月26日- 27日（9：00-17：00） `3TR`,=  
培训费用：￥ 1980元 / 人 5100fX}  
三人及以上组团报名可享受八折优惠！ Sd+5Uf`
 
报名方式：扫码报名 w$]G$e  
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