线上培训（第21期） | Ansys Zemax 成像设计 招生中！！

](3=7!!J  
y/ vE  
 QL  
培训大纲 ld}-}W-cq  
.hn"NXy  
01 OpticStudio 软件功能介绍; _AK-AY  
02 材料库、镜头库介绍； &(irri_  
03 如何定义新材料； &Q 3!ty  
04 如何使用镜头库； na>UF
w7>*  
05 像差理论介绍； y1@{(CDp"  
06 Zemax 里像差分析图谱； _sx]`3/86  
07 优化; ~#OnA1)  
08 局部优化 >~2oQ[n  
09 全局优化； T&cf6soo  
10 锤形优化； $M#G;W
5c  
11 优化函数架构技巧； 0<
nk>o  
12 单透镜优化实例 s}X2*o`,  
13 双胶合优化实例； Pe~[qETv  
14 热分析及衍射光学元件的使用; T[q2quXgk  
15 实例设计及分析； #sN]6  
16 MTF _-^a8F>/19  
17 双高斯镜头设计及优化； FAo\`x  
18 像质评价与图像模拟； =`99ez+y  
19 坐标变换； ;MR8E9  
20 坐标断点面的使用技巧 9K~X}]u  
21 序列模式棱镜建模； "! m6U#^  
22 扫描反射镜设计实例； GK~uoz:^O  
23 柯勒照明综合设计实例； <V>]-bl/  
24 投影系统设计 sA#}0>`3S  
25 集光系统设计； <0T|RhbY  
26 暗盒系统介绍； =g UOHH  
27 分析工具应用； 0EKi?vP@y7  
28 寻找最佳非球面 #8i DM5:EQ  
29 曲率套样板；  l|j  
30 镜头匹配工具； }&F|u0@b  
31 Zemax公差分析功能介绍; GO2mccIB  
32 加工误差、装配误差； xG/B$DLn  
33 灵敏度分析; +
<a-;e{  
34 反灵敏度分析; pE,2pT2>  
35 蒙特卡罗分析; kc-=5l  
36 公差评价标准； #p*D.We  
37 公差操作数； -U.>K,M  
38 补偿变量的使用； Qzt'ZK  
39 单透镜公差分析； )[+82~F  
40 库克镜头公差分析； L 4V,y>  
41 分析报告查看说明； ?(0=+o(`  
42 公差脚本的使用； S6Y2(qdP  
43 镜头出图、CAD 出图； Gh>&+UA'$1  
44 小结及答疑。 ~G,_4}#"pM  
0"}J!c<g  
Ra)wlIx  
培训信息 ^m~&2l\N=  
t-B5,,`  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司 %D1 |0v8}  
会议主题：Zemax 成像设计 Bs)'Gk`1  
培训讲师：武汉宇熠科技有限公司光学高级工程师 <-;/,uu  
培训时间：2022年10月26日- 27日（9：00-17：00） `i`+yh>pc#  
培训费用：￥ 1980元 / 人 4PjC[A*  
三人及以上组团报名可享受八折优惠！ i'V("  
报名方式：扫码报名 ,4:=n$e 0  
,.9k)\/V  
<div 50px"="" style="box-sizing: border-box; margin: 0px; padding: 0px; outline: none; font-size: 12px; font-family: Helvetica, Tahoma, Arial, STXihei, 黑体, "Microsoft YaHei", 华文细黑, SimSun, 宋体, Heiti, 微软雅黑, sans-serif; color: rgb(51, 51, 51); background-color: rgb(255, 255, 255);">