线上培训（第21期） | Ansys Zemax 成像设计 招生中！！

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培训大纲 $"Nqto~  
q?#w%0}  
01 OpticStudio 软件功能介绍; -J++b2R\%  
02 材料库、镜头库介绍； U?ZxQj66}  
03 如何定义新材料； kk aS&r>  
04 如何使用镜头库； I0sw/,J/Z  
05 像差理论介绍； `~LaiN.  
06 Zemax 里像差分析图谱； ~-NlTx  
07 优化; *w1R>  
08 局部优化 s?&UFyYb,  
09 全局优化； )eBCO~HS  
10 锤形优化； )(`,!s,8)  
11 优化函数架构技巧； !(qaudX{>k  
12 单透镜优化实例 =UFmN"  
13 双胶合优化实例； /x&52~X5-  
14 热分析及衍射光学元件的使用; $p.0[A(N  
15 实例设计及分析； T?8N$J  
16 MTF >\ PNKpn{  
17 双高斯镜头设计及优化； N#
vV;
 
18 像质评价与图像模拟； 5~xv"S(E}  
19 坐标变换； .4,l0Nn`W  
20 坐标断点面的使用技巧 S{)'1J_0  
21 序列模式棱镜建模； XNB4KjT  
22 扫描反射镜设计实例； 9X87"  
23 柯勒照明综合设计实例； gK-$y9]~+  
24 投影系统设计 .KE2sodq  
25 集光系统设计； p}k\l dmh{  
26 暗盒系统介绍； = k>ygD_  
27 分析工具应用； 4CioVQdj  
28 寻找最佳非球面 /PtmJ2[  
29 曲率套样板； 8Sg:HU\  
30 镜头匹配工具； N`!=z++G  
31 Zemax公差分析功能介绍; X:gE mcXc  
32 加工误差、装配误差； )R"deb=s  
33 灵敏度分析; `Z~\&r=  
34 反灵敏度分析; O.wk
*m!9  
35 蒙特卡罗分析; Dq~D4
|  
36 公差评价标准； t+O7dZt%r  
37 公差操作数； YBY!!qjPx  
38 补偿变量的使用； W8s/"  
39 单透镜公差分析； 7Dwf0Re`  
40 库克镜头公差分析； atjrn:X  
41 分析报告查看说明； Ed&M  
42 公差脚本的使用； V?+Y[Q  
43 镜头出图、CAD 出图； Z<6Fq*I  
44 小结及答疑。 #kL4Rm;  

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培训信息 NW@guhK.  
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主办单位：武汉宇熠科技有限公司 >-<7 r?~  
会议主题：Zemax 成像设计 +#0,2wR#  
培训讲师：武汉宇熠科技有限公司光学高级工程师 'P<T,:z?  
培训时间：2022年10月26日- 27日（9：00-17：00） WG.J-2#3  
培训费用：￥ 1980元 / 人 \j3XT}  
三人及以上组团报名可享受八折优惠！ tz"zQC$  
报名方式：扫码报名
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