线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： jH>8bXQqZ  
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培训大纲： _({@B`N}  
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杂散光术语 R_1qn  
辐射度学基础 H_w%'v&  
杂散光成因 <~{du ?4n  
杂散光影响、杂散光控制 nO{ x^b <  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 E1 |<Pt  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 ]78!!G[`  
散光特性、散射模型 /[K_ &  
消光漆/表面处理 M-J<n>hl  
光学表面污染 XJgh>^R^  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 F_=1;,K%  
衍射杂散光、 OQp, 3M{_  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 1u~ MXGF  
小孔衍射的杂散光分析 (}smW_`5  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 S2K#[mDG  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 ;+U<bqL6  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 pJBg?D  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 ,%[4j9#!_  
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培训书籍 7
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图片:ASAP640.png

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报名培训即可免费赠送此书 ObG=>WPJa  
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培训详情： 5\hd4  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， 8{0k0 &x  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） 8 #}D :(  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） iWA|8$u4gm  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 vXv;1T  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 m$wlflt  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 !GwL,)0@^  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） O
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 9GU]l7C=z  

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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。