线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： D3;#:  
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培训大纲： 8Nf%<nUv  
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杂散光术语 32,Y3!%  
辐射度学基础 kt hy9<!$  
杂散光成因 -Y/c]g  
杂散光影响、杂散光控制 (wZ/I(4  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 [-JU(:Rh  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 $2pkh%  
散光特性、散射模型 hxuc4C\J  
消光漆/表面处理 _{YUWV50}  
光学表面污染 : ]~G9]R`  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 %8g1h)F"S  
衍射杂散光、 Q)\4 .d  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 E(Y}*.\]#s  
小孔衍射的杂散光分析 *
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鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 77p8|63  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 ]F*fQNcjy  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 S/7?6y~  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 o0F&,|'  
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培训书籍 #\$AB_[ot>  

图片:ASAP640.png

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报名培训即可免费赠送此书 1gDsL  
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培训详情： BBlYy5x  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， ,FDRU  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） *t,1(Gw|7q  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） 4 oZm0
 
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 ='<789wT  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 M)j.Uu  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 U
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） k?;B1D8-n  
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 {>n\B~*,"C  

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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。