H][TH2H1 a({Rb?b 在高约束
芯片上与亚微米波导上耦合光的两种主要方法是
光栅或锥形耦合器。[1]
aB~k8]q. 耦合器由高折射率比
材料组成,是基于具有
纳米尺寸尖端的短锥形。[2]
s3A(`heoq 锥形耦合器实际上是
光纤和亚微米波导之间的紧凑模式转换器。[2]
'Iw`+=iVz 锥形耦合器可以是线性[1]或抛物线性[2]过渡。
YG0/e#5 选择Silicon-on-insulator(SOI)技术作为纳米锥和波导的平台,因为它提供高折射率比,包括二氧化硅层作为
光学缓冲器,并允许与集成
电子电路兼容。[2]
'L O3[G{ ru`7iqcz bTeuOpp geK;r0(f [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014)
-'miM ~kG[ [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003);
p9i7<X2& ;q-c[TZC 3D FDTD仿真 sT1OAK\^ ek5j;%~g1 hd'QMr[; 要
模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导(160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波导中(注意:使用的尺寸减小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便达到更快的模拟时间)
Zex~ $r 为了精确模拟线性锥形硅波导,锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些,因此在这种情况下使用不均匀的网格。
<#BK(W~$ 光源在时域中设置为CW( = 1.55 um),在空间域上设置为高斯横向分布,并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
aOg9Dqtg)f 注意:模拟时间应足够长,以确保稳态结果
BDfMFH[1 4ZUtK/i+r oO[eer_S- tBzE(vW 仿真结果 *sp")h#Z _)vX_gCi zZ-/S~l r|}Pg}O 顶视图展示了锥形硅波导的有效耦合。
?pJ2"/K
Vr1r2G2 底部视图显示了不同位置的模式转换(左:25 um,中间:65 um,右:103 um)
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