线上培训(第16期)| 名额有限!ZEMAX 成像设计培训7月6日开讲!

发布:ueotek 2022-05-30 14:52 阅读:1327
培训大纲: V+()`>44  
kd9GHN;7  
01 OpticStudio 软件功能介绍;
02 材料库、镜头库介绍;
03 如何定义新材料;
04 如何使用镜头库;
05 像差理论介绍;
06 Zemax 里像差分析图谱;
07 优化;
08 局部优化
09 全局优化;
10 锤形优化;
11 优化函数架构技巧;
12 单透镜优化实例
13 双胶合优化实例;
14 热分析及衍射光学元件的使用;
15 实例设计及分析;
16 MTF
17 双高斯镜头设计及优化;
18 像质评价与图像模拟
19 坐标变换;
20 坐标断点面的使用技巧
21 序列模式棱镜建模; BHwQB2t gc  
22 扫描反射镜设计实例;
\kpk-[W*x{  
23 柯勒照明综合设计实例; d`| W6Do  
24 投影系统设计 vYD>m~Qc^  
25 集光系统设计; GLe(?\Ug=  
`ecuquX'  
26 暗盒系统介绍; qO<'_7TN[  
27 分析工具应用; H]. 4~ 8  
28 寻找最佳非球面 Bu'PDy~W,  
29 曲率套样板; N>OF tP  
H7e/6t<x  
30 镜头匹配工具; >8 V;:(nt  
31 Zemax公差分析功能介绍; 3986;>v  
32 加工误差、装配误差; sX3Vr&r  
33 灵敏度分析; 62}bs/%  
34 反灵敏度分析; (WK $ )f  
35 蒙特卡罗分析; lHpo/ R :  
Q~4o{"3.'  
36 公差评价标准; [H#I:d-+\  
37 公差操作数; NA`3   
38 补偿变量的使用; gFvFd:"uZ  
39 单透镜公差分析; j\nnx8`7  
rbnu:+!  
40 库克镜头公差分析; <?P UF,  
41 分析报告查看说明; i&^?p|eKa  
42 公差脚本的使用; R0fZ9_d7}  
43 镜头出图、CAD 出图; n%Xw6qV:  
44 小结及答疑。 $&m^WrZaY  
培训信息:主办单位:武汉宇熠科技有限公司 _tQ=ASe0  
培训主题:Zemax 成像设计 Nh41o0  
培训形式:线上培训 Kbc-$ oneR  
培训时间:2022年7月6~7日 (9:00-17:00) Q=yQEh|Y  
培训费用:¥ 1980元 / 人 0.nS306  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) piO+K!C0n:  
报名方式:扫码报名 Y}"|J ~  
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长按图片识别二维码
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注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。 1+o>#8D  
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