线上培训（第16期）| 名额有限！ZEMAX 成像设计培训7月6日开讲！

培训大纲： #MlpOk*G  

图片:7.6成像.jpg

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23 柯勒照明综合设计实例； 3_Xu3hNH!  
24 投影系统设计 O"+0 b|  
25 集光系统设计； $q)YC.5$  
,d,2Q  
26 暗盒系统介绍； m|B=&#  
27 分析工具应用； (=Cb)/s0  
28 寻找最佳非球面 M|K^u.4
 
29 曲率套样板； SXZ9+<\  
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30 镜头匹配工具； p>;@]!YWQ  
31 Zemax公差分析功能介绍; 26rg-?;V^  
32 加工误差、装配误差； &<]f-  
33 灵敏度分析; wCB*v<*  
34 反灵敏度分析; 0^gY4qx[u  
35 蒙特卡罗分析; LWT
\1#  
$vfgYl4q  
36 公差评价标准； 8ROKfPj;z  
37 公差操作数； Ze eV-  
38 补偿变量的使用； xBVOIc[4(  
39 单透镜公差分析； 3WJk04r  
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40 库克镜头公差分析； d@$|zr6  
41 分析报告查看说明； > 0MP[  
42 公差脚本的使用； G/<zd)  
43 镜头出图、CAD 出图； eKvr1m- -  
44 小结及答疑。 Iz09O:ER  
培训信息：主办单位：武汉宇熠科技有限公司 >8"Svt$  
培训主题：Zemax 成像设计 Giv,%3'  
培训形式：线上培训 eZa*WI=  
培训时间：2022年7月6~7日 (9:00-17:00) vTO9XHc E  
培训费用：￥ 1980元 / 人 q2vD)r  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) OL
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报名方式：扫码报名 @@Ybg6.+*  
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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。 /'rj L<M