线上培训(第16期)| 名额有限!ZEMAX 成像设计培训7月6日开讲!

发布:ueotek 2022-05-30 14:52 阅读:1340
培训大纲: 'h87 A-\!F  
*CCh\+S7m  
01 OpticStudio 软件功能介绍;
02 材料库、镜头库介绍;
03 如何定义新材料;
04 如何使用镜头库;
05 像差理论介绍;
06 Zemax 里像差分析图谱;
07 优化;
08 局部优化
09 全局优化;
10 锤形优化;
11 优化函数架构技巧;
12 单透镜优化实例
13 双胶合优化实例;
14 热分析及衍射光学元件的使用;
15 实例设计及分析;
16 MTF
17 双高斯镜头设计及优化;
18 像质评价与图像模拟
19 坐标变换;
20 坐标断点面的使用技巧
21 序列模式棱镜建模; Q N]y.(S)y  
22 扫描反射镜设计实例;
]sZ! -q'8  
23 柯勒照明综合设计实例; Ctx`b[&KXX  
24 投影系统设计 8(>2+#exw  
25 集光系统设计; YL&)@h  
i]15g@  
26 暗盒系统介绍; ):lH   
27 分析工具应用; G| b I$   
28 寻找最佳非球面 ipC <p?PpR  
29 曲率套样板; :nS$cC0x*  
1) Nj.#)  
30 镜头匹配工具; /|m0)H.>  
31 Zemax公差分析功能介绍; "1Y'VpKm(~  
32 加工误差、装配误差; '81c>qA  
33 灵敏度分析; 6d(D >a  
34 反灵敏度分析; ~L4L|q 7  
35 蒙特卡罗分析; Z;y(D_;_  
>%H(0G#X  
36 公差评价标准; ,c,@WQ2:-  
37 公差操作数; B \LmE+a>  
38 补偿变量的使用; l[<U UEjZJ  
39 单透镜公差分析; 8d7 NESYl  
G%ZP `  
40 库克镜头公差分析; _tRRIW"Vx"  
41 分析报告查看说明; ly#jl5wmT  
42 公差脚本的使用; =&F~GC Z>  
43 镜头出图、CAD 出图; a"&cm'\lL  
44 小结及答疑。 {fJCj152.  
培训信息:主办单位:武汉宇熠科技有限公司  ]0XlI;ah  
培训主题:Zemax 成像设计 :gn&wi  
培训形式:线上培训 #$ 4g&8  
培训时间:2022年7月6~7日 (9:00-17:00) 3EHB~rL/C  
培训费用:¥ 1980元 / 人 '+\t,>nRkl  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) 2ck0k,WP  
报名方式:扫码报名 G#fF("Ndu`  
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长按图片识别二维码
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注:如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。 )|/%]@` N  
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