从20世纪30年代开始,光学薄膜逐渐被广泛应用于日常生活、工业、天文学、军事、宇航、光通信等领域,在国民经济和国防建设中起到了重大作用,因而得到了科学技术工作者的日益重视。而今新兴技术的发展对薄膜技术不断提出新的要求,又进一步促使了光学薄膜技术的蓬勃发展。所以近年来,对光学薄膜的研究及其应用一直是非常活跃的课题。 Z `O.JE
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一、光学薄膜的制备方法 '{XDhK
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在光学薄膜发展的历程中,各种先进的薄膜制备技术不断应用到光学薄膜制备的技术中。这些技术不仅大大拓宽了光学薄膜可以利用的材料范围,而且极大地改进了光学薄膜的性能和功能,进而给光学薄膜提供了更为宽广深远的发展空间。下面介绍几种常见的光学薄膜制备方法。 `x$d8(1J`#
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1.物理气相沉积法 84)$ CA+NX
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物理气相沉积法简单地说,在真空条件下,采用物理方法,将材料源—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 发展到目前,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。之所以选择高真空环境是因为薄膜材料在沉积的过程中不会与空气中的活泼气体反应,以及蒸汽分子在真空环境中不会与气体分子碰撞,而是直接地到达基片。在实际薄膜沉积的过程中,需要控制的工艺参数非常多,通常涉及到真空技术、材料科学、精密机械制造、光电技术、计算机技术、自动控制技术等领域。 aUSxy8%
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2.离子束辅助沉积法 X}p#9^%N
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离子束辅助沉积法是在气相沉积镀膜的同时,利用高能粒子轰击薄膜沉积表面,对薄膜表面环境产生影响,从而改变沉积薄膜成分、结构的过程。这种把离子辅助与反应蒸发法结合起来的镀膜技术能够实现低温成膜,改善薄膜的微观结构、力学性能并且提高薄膜和基体的结合力,从而提高薄膜的综合性能。但由于离子束轰击基片的能量束密度不均匀以及高能量离子引起的反溅射等因素,使得离子束辅助蒸发技术在生产应用中受到限制。通常对硫化锌、氟化镁等软膜采用离子辅助技术以后,膜层的牢固性获得了明显的改善,但无论对软膜或电子束蒸发的氧化物硬膜在抗激光损伤方面的效果均不明显。 .Br2^F
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3.反应离子镀膜法 z*ZEw
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是利用热阴极弧源诱发膜料离子放电在镀膜室内形成等离子体,蒸发膜料离子部分被电离,在处于悬浮电位的工件架形成电场作用下抵达基片,这样具有一定动能的离子态的膜料粒子与反应气体结合后淀积成膜,该膜层与玻璃基片附着牢固,薄膜的硬度与耐摩擦性能显著提高,因此受到了光学薄膜领域科学工作者的重视。但此项技术设备成本较高,对提高抗激光损伤能力的潜力有待进一步研究。 7!w@u6Q
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