【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

描述:请输入描述

图片:ZEMAX 0414.jpg

B&uz;L3  
课程大纲： JFk lUgg  

[HZv8HU|   01 OpticStudio 软件功能介绍; A~t j/yq9   02 材料库、镜头库介绍； Z?m3~L9L2   03 如何定义新材料； 6~w@PRy   04 如何使用镜头库； WI-1)1t   05 像差理论介绍； %8 ~NqS|=   06 Zemax 里像差分析图谱； "1M[5\Ax   07 优化; >I&5j/&}+   08 局部优化 AkQ~k0i}b   09 全局优化； JnM["Q=`   10 锤形优化； v^ VitLC   11 优化函数架构技巧； j#q-^ h3H   12 单透镜优化实例 0Z{ZO*rK   13 双胶合优化实例； B,epzI   14 热分析及衍射光学元件的使用; ut7zVp<"   15 实例设计及分析； ^3L0w }#   16 MTF SKsKPqz   17 双高斯镜头设计及优化； N5b!.B x-w   18 像质评价与图像模拟； j+ 0I-p   19 坐标变换； A{D];pE`   20 坐标断点面的使用技巧 &FN.:_E   21 序列模式棱镜建模； j HJ`,#   Qn)a/w-   22 扫描反射镜设计实例；

rCdu0 gYT   23 柯勒照明综合设计实例； y/ef>ZZ   24 投影系统设计 Qjv}$`M   25 集光系统设计； ZX./P0   338k?nHxv   26 暗盒系统介绍； 7\Y0z   27 分析工具应用； zue~ce73J   28 寻找最佳非球面 %aVq+kC h   29 曲率套样板； -4{<=y?"a   \n|EM@=eE   30 镜头匹配工具； 5uj?#)N   31 Zemax 公差分析功能介绍; H]Z$OpI   32 加工误差、装配误差； 4)urU7[ &)   33 灵敏度分析; 8>in_h9   34 反灵敏度分析; K^<BW (s   35 蒙特卡罗分析; ]K,Tnyp   #fn)k1   36 公差评价标准； ?QdWrE_   37 公差操作数； p]2128kqx   38 补偿变量的使用； R|87%&6']   39 单透镜公差分析； *d4eK+U$5   LIF7/$,0   40 库克镜头公差分析； :emiQ   41 分析报告查看说明； ^Q?   42 公差脚本的使用； dn$!&    43 镜头出图、CAD 出图； Gm^U;u}=f   44 小结及答疑。

课程信息： |~mOfuQb  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 }Sh?S]]`  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) N]=q|D  
报名方式：扫码报名 ,w:U#r~s"  
uo%)1NS!