【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： {W{;VJKQ2  

UJp'v_hN   01 OpticStudio 软件功能介绍; 9'~qA(=.?   02 材料库、镜头库介绍； ZHeue_~x4   03 如何定义新材料； paN=I=:*M   04 如何使用镜头库； 7=X6_AD   05 像差理论介绍； 5M'cOJ   06 Zemax 里像差分析图谱； @V^.eVM\R   07 优化; BHgs,   08 局部优化 =Oh$pZRymu   09 全局优化； P%yL{   10 锤形优化； v+sF0 j\P   11 优化函数架构技巧； 6=JJ!`"<2   12 单透镜优化实例 "#0P *3-c   13 双胶合优化实例； {df;R|8l   14 热分析及衍射光学元件的使用; .i_ gE5   15 实例设计及分析； IRk)u`   16 MTF H*0g*(   17 双高斯镜头设计及优化； HES$.a   18 像质评价与图像模拟； 6.45^'t]   19 坐标变换； "N&ix*($   20 坐标断点面的使用技巧 ph(LsPT-   21 序列模式棱镜建模； [-Y~g%M   ~MB)}!S:   22 扫描反射镜设计实例；

F:<+}{Av   23 柯勒照明综合设计实例； N`N=}&v ]   24 投影系统设计 ] X]!xvN@   25 集光系统设计； /i@.Xg@:   hB\BFVUSn/   26 暗盒系统介绍； s/~[/2[bnf   27 分析工具应用； :&z!o"K   28 寻找最佳非球面 !}U3{L-   29 曲率套样板； f`>\bdz   w > GW   30 镜头匹配工具； .*YOyK3H   31 Zemax 公差分析功能介绍; }>y~P~`S:   32 加工误差、装配误差； =|$U`~YB   33 灵敏度分析; MMaS   34 反灵敏度分析; ]CS N7Q+l   35 蒙特卡罗分析; d@JavcR   dXY}B=C   36 公差评价标准； k8}'@w   37 公差操作数； JDnW BEV   38 补偿变量的使用； p.4Sgeh#   39 单透镜公差分析； G 5 )"%G.   4Vf-D% h>a   40 库克镜头公差分析； 30Q77,Nsny   41 分析报告查看说明； IWN18 aaL?   42 公差脚本的使用； {t0!N]'   43 镜头出图、CAD 出图； Y@ ;/Sf$Q   44 小结及答疑。

课程信息： 5c%Fb:BW=  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 9 s2z=^  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) ~k 6V?z}  
报名方式：扫码报名 }L{GwiDMDl  
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