【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： 5\EnD,y  

X`(fJ ',   01 OpticStudio 软件功能介绍; MH|F<$42   02 材料库、镜头库介绍； D4N(FZ 0~   03 如何定义新材料； oj[~H}>   04 如何使用镜头库； 4H^ACw   05 像差理论介绍； !9{hbmF#   06 Zemax 里像差分析图谱； {r~=mQ   07 优化; njZJp|y6   08 局部优化 }4T`)   09 全局优化； yk'L_M(=   10 锤形优化； $NCR V:J   11 优化函数架构技巧； ilXKJJda   12 单透镜优化实例 JeN]sK)8x   13 双胶合优化实例； |@~_&g   14 热分析及衍射光学元件的使用; J(K/z,4h   15 实例设计及分析； .^2.h   16 MTF }d>X h8:%)   17 双高斯镜头设计及优化； *kpP)\P   18 像质评价与图像模拟； 052Cf dq   19 坐标变换； E+|K3EJ   20 坐标断点面的使用技巧 eso-{W,D   21 序列模式棱镜建模； M~7Cb>%<   ]imVIu   22 扫描反射镜设计实例；

C>'G?   23 柯勒照明综合设计实例； Bd 0oA )i   24 投影系统设计 xC9{hXg!   25 集光系统设计； spTz}p^\O   XdmpfUR,13   26 暗盒系统介绍； M7T *J>i   27 分析工具应用； aOw#]pB|   28 寻找最佳非球面 ;5.<M<PH   29 曲率套样板； /CH]'u^j   9Zj3"v+b   30 镜头匹配工具； 71>,tq   31 Zemax 公差分析功能介绍; Sa%%3_&   32 加工误差、装配误差； .jg@UAK   33 灵敏度分析; xY/F)JOeG   34 反灵敏度分析; mr/?w0(C   35 蒙特卡罗分析; zy%0;%   NMfHrYHbh   36 公差评价标准； J<0d"'   37 公差操作数； A'rd1"K   38 补偿变量的使用； O9zMD8   39 单透镜公差分析； IU5T5p   ke!   40 库克镜头公差分析； t)Cf]]dV   41 分析报告查看说明； pdR\Ne0P*   42 公差脚本的使用； @C!&lrf3   43 镜头出图、CAD 出图； |/H?\]7   44 小结及答疑。

课程信息： |O6/p7+.  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 LGW:+c  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) f^*Yqa  
报名方式：扫码报名 *r[V[9+y-D  
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