【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： ISYXH9V  

&PR5q 7   01 OpticStudio 软件功能介绍; 2,DXc30I   02 材料库、镜头库介绍； Mo|;'+   03 如何定义新材料； [T8WThs   04 如何使用镜头库； u(z$fG:g   05 像差理论介绍； L7n D|   06 Zemax 里像差分析图谱； ;,hwZZ A   07 优化; `!obGMTQ<   08 局部优化 ef8s<5"4   09 全局优化； &Qf/>@ l}   10 锤形优化； "M<8UE\n   11 优化函数架构技巧； A!od9W6   12 单透镜优化实例 ui<N[   13 双胶合优化实例； H`*LBqDk   14 热分析及衍射光学元件的使用; p)KheLiZ   15 实例设计及分析； D#_3^Kiawj   16 MTF 5#HW2"7   17 双高斯镜头设计及优化； 0pZ4BZdT|   18 像质评价与图像模拟； 'j`=if   19 坐标变换； 8v:T.o;<   20 坐标断点面的使用技巧 ..IfP@   21 序列模式棱镜建模； bBiE   !8TlD-ZT/   22 扫描反射镜设计实例；

4V{:uuI;f   23 柯勒照明综合设计实例； bZ dNi bN   24 投影系统设计 qrb[-|ie&   25 集光系统设计； ;@mS^ik")$   j b!x:   26 暗盒系统介绍； T`9lV2x*P   27 分析工具应用； Xe3U`P7(   28 寻找最佳非球面 }fp-pe69z   29 曲率套样板； G4Q[Th   .e S<Dbku<   30 镜头匹配工具； 6Pz4\uE=   31 Zemax 公差分析功能介绍; R}-(cc%5   32 加工误差、装配误差； K%,2=.   33 灵敏度分析; Mer/G2#&   34 反灵敏度分析; qz"}g/;?   35 蒙特卡罗分析; ;0Q4<F   E~DQ-z   36 公差评价标准； e2AX0(   37 公差操作数； *^\Ef4Lh   38 补偿变量的使用； kDEXN   39 单透镜公差分析； D @,6M#SK   ;dkYf24   40 库克镜头公差分析； f&=AA@jLv   41 分析报告查看说明； )cW#Rwu_A4   42 公差脚本的使用； xzdf^Ce   43 镜头出图、CAD 出图； G'nmllB`]   44 小结及答疑。

课程信息： _mj,u64  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人
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(三人及以上组团报名可享八折优惠) |.(dq^  
报名方式：扫码报名 )Oq|amvC  
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