【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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课程大纲： W<OO:B.ty  

mP+rPDGp   01 OpticStudio 软件功能介绍; tRzo}_+N   02 材料库、镜头库介绍； QMBV"E_aY   03 如何定义新材料； a4D4*=!G0   04 如何使用镜头库； ^#,cWG}z   05 像差理论介绍； :}[[G2|9   06 Zemax 里像差分析图谱； .ta*M{t   07 优化; .,( ,<   08 局部优化 S$%Y{   09 全局优化； HHae rc   10 锤形优化； [.*o< KP   11 优化函数架构技巧； r/BiR0$E   12 单透镜优化实例 h| ]BA}D   13 双胶合优化实例； M$AQZ')9   14 热分析及衍射光学元件的使用; d+Bz pS@p   15 实例设计及分析； }RY&f4&GV,   16 MTF G[[NDK   17 双高斯镜头设计及优化； n+;PfQ|   18 像质评价与图像模拟； G8ksm2}   19 坐标变换； }dSxrT   20 坐标断点面的使用技巧 sow/JLlbC   21 序列模式棱镜建模； i4*!t.eI   >6cENe_@t   22 扫描反射镜设计实例；

y1zep\-D   23 柯勒照明综合设计实例； ?$\y0lHw/7   24 投影系统设计 WX9pJ9d   25 集光系统设计； KqT~MP l   x1ID6kI[{*   26 暗盒系统介绍； g+iV0bbT   27 分析工具应用； >`'>,n|   28 寻找最佳非球面 ^iwM(d]#5   29 曲率套样板； j[ o5fr)L   mca9 +v   30 镜头匹配工具； #pz{,   31 Zemax 公差分析功能介绍; c&T14!lfn   32 加工误差、装配误差； .1C|J   33 灵敏度分析; :j m|)   34 反灵敏度分析; kg_f;uk+   35 蒙特卡罗分析; `[J(au$z   3tTz$$-#   36 公差评价标准； 5"JnJH   37 公差操作数； lZu pn?   38 补偿变量的使用； mmn1yX:d   39 单透镜公差分析； dLek4q `l   =7Y gES   40 库克镜头公差分析； 5bzYTK&-   41 分析报告查看说明； _\Cd.   42 公差脚本的使用； |fk,&5s   43 镜头出图、CAD 出图； <.<Q.z   44 小结及答疑。

课程信息： >MI
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主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 8@a|~\3-  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) WxS=Aip'  
报名方式：扫码报名 ~Zd n#z\  
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