【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： H1B%}G*Ir-  

M'<% d[   01 OpticStudio 软件功能介绍; P-gjSE|yh   02 材料库、镜头库介绍； BO7HJF)a   03 如何定义新材料； av|T|J/(   04 如何使用镜头库； E z}1Xse   05 像差理论介绍； O!f37n-TB   06 Zemax 里像差分析图谱； .!0Rh9yyl   07 优化; Uoe;=P@   08 局部优化 ?{aJ#w   09 全局优化； Qc&Y|]p"   10 锤形优化； [>54?4{|.   11 优化函数架构技巧； ;5[OS8   12 单透镜优化实例 ud5}jyJ   13 双胶合优化实例； vVvF e~y]   14 热分析及衍射光学元件的使用; 6d;}mhH   15 实例设计及分析； d[,Rgdd@I   16 MTF B!x#|vGXL   17 双高斯镜头设计及优化； b)KEB9w   18 像质评价与图像模拟； ^U5N!"6R   19 坐标变换； xO>z )3A   20 坐标断点面的使用技巧 s)]T"87H'_   21 序列模式棱镜建模； ]goJ- &   *1kFy_Gx   22 扫描反射镜设计实例；

*w(n%f   23 柯勒照明综合设计实例； >xS({1A}   24 投影系统设计 ?<3 d Fb   25 集光系统设计； d%qi~koN_   u3O@ccJ;   26 暗盒系统介绍； ,:L^v G@*   27 分析工具应用； grgs r_)[   28 寻找最佳非球面 6}N`YOJ.   29 曲率套样板； 3WQa^'u   j#2Xw25   30 镜头匹配工具； 2yn"K|   31 Zemax 公差分析功能介绍; L%Zr3Ct   32 加工误差、装配误差； 0{ mm%@o   33 灵敏度分析; |}z5ST%   34 反灵敏度分析; J?J4<l9   35 蒙特卡罗分析; ;-~E!_$   ^uUA41o`eJ   36 公差评价标准； .t G3g:   37 公差操作数； vFdI?(c-   38 补偿变量的使用； >v@3]a i   39 单透镜公差分析； QK6_dIvDz   5\h 6"/6Df   40 库克镜头公差分析； RN)XIf$@_   41 分析报告查看说明； 59 g//;35@   42 公差脚本的使用； 0~BaQ, A@   43 镜头出图、CAD 出图； :$K=LV#Iru   44 小结及答疑。

课程信息： AA^K/y  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 <bhGpLh-E  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) d'MZ%.#  
报名方式：扫码报名 bR"4:b>K  
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