【线上培训】Zemax 成像设计课程 招生中

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图片:ZEMAX 0414.jpg

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课程大纲： 4zbV' ]  

c4W"CD;D   01 OpticStudio 软件功能介绍; NZ9,9   02 材料库、镜头库介绍； >m{-&1Tx   03 如何定义新材料； :8T@96]P   04 如何使用镜头库； o!0a8i   05 像差理论介绍； sJ()ItU5i   06 Zemax 里像差分析图谱； v3#47F)   07 优化; I@v.Hqg+7   08 局部优化 1&E&8In]$r   09 全局优化； 8#-}3~l[   10 锤形优化； MRu+:Y=K   11 优化函数架构技巧； D)6||z}   12 单透镜优化实例 >pHvBFa3G   13 双胶合优化实例； P^+>QJ1   14 热分析及衍射光学元件的使用; * OFT)S   15 实例设计及分析； Py<vN!   16 MTF #2,L)E\G8e   17 双高斯镜头设计及优化； ^E*C~;^S   18 像质评价与图像模拟； xF0*q   19 坐标变换； PmTd+Gj$   20 坐标断点面的使用技巧 $"1&!   21 序列模式棱镜建模； mz'8   5OE?;PJ(   22 扫描反射镜设计实例；

6Z:|"AwC2   23 柯勒照明综合设计实例； .1M>KRSr,   24 投影系统设计 wt,N<L   25 集光系统设计； m!if_Iq   !OemS7{   26 暗盒系统介绍； N`fY%"5U>   27 分析工具应用； :g_ +{4   28 寻找最佳非球面 -7Wmq[L/   29 曲率套样板； 1N*~\rV*?   2N#L'v@g=+   30 镜头匹配工具； _~"3 LB   31 Zemax 公差分析功能介绍; ]P^ +~   32 加工误差、装配误差； [r'M_foga*   33 灵敏度分析; Gu=bPQOj   34 反灵敏度分析; _bsfM;u.%   35 蒙特卡罗分析; 2YQ$hL~   >48Y-w   36 公差评价标准； VtFh1FDI\   37 公差操作数； j+seJg<_   38 补偿变量的使用； p%'((!a2   39 单透镜公差分析； c8MNo'h   ,B><la87   40 库克镜头公差分析； "m5ZZG#R`   41 分析报告查看说明； <u\G&cd_tA   42 公差脚本的使用； A}# Mrb   43 镜头出图、CAD 出图； p6*D^-   44 小结及答疑。

课程信息： (reD  
主办单位：武汉宇熠科技有限公司培训主题：Zemax 成像设计培训形式：线上培训培训时间：2022年4月14~15日 (9:00-17:00)培训费用：￥ 1980元 / 人 |n/id(R+  
(三人及以上组团报名可享八折优惠) ~ME=!;<_  
报名方式：扫码报名 hBw~l?G  
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