切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 光学系统设计：理论、仿真与系统检测 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 光学设计与光学元件 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1177阅读
    • 0回复

    [技术]光波导上的光栅分析和平滑调制光栅参数 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6441
    光币
    26350
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-03-18
    {C+blzh6  
    为了控制用于 AR/MR 应用的光导设备的均匀性和效率，有必要在某些区域，例如 在扩展和输出耦合光栅区域，引入变化的光栅参数，例如填充因子或光栅高度值。 ko-|hBNv  
    为此，VirtualLab Fusion 能够在一个区域内引入平滑变化的光栅参数，其中可以以非常不同的方式配置所需的变化。 这还包括一个工具，用于研究针对特定入射条件和光栅参数提供的衍射效率。 这个例子解释了如何应用这些工具。 OCR`1  
    hp ?4w),  
     ?\|QDJXY  
    8:*   
    2. 建模任务的说明 K?]><z{  
     5Ii`|?vg  
    在光导上引入连续调制的光栅参数（例如，填充因子）。 ybsQ[9_36  
    U$zd3a_(  
     GWb=X cx  
     UZJ^ e$N  
    3. 带有附加引导的常规工作流程 }_,\yC9F  
    uY6]rt_#a  
    起点是一个现有的、可执行的光导系统，它具有基本的几何配置（所需的距离和定位的光栅区域）和光栅规格（方向、周期、阶数）。 %H)^k${  
    Vf28R,~m  
     7 'T3W c  
    需要参数调制的区域必须使用真实的光栅结构进行配置。 ['~E _z  
    6-"@j@l5<  
     > 4n\  
    足迹和光栅分析工具用于指定光栅参数变化的所需范围，在光栅相互作用的指定条件下严格计算相应的瑞利系数，并生成可以定义实际参数变化的光学设置 . V { #8+  
    "==fWf  
     ].AAHu5  
    注意：光栅调制是为单个光栅区域定义的。 5"~F#vt  
      kwI[BF  
    4. 打开足迹和光栅分析工具并设置光学装置 gX29c  
    ,|5|aVfh  
     g=G>4Ua3  
    :V,agAMn  
    5. 足迹和光栅分析工具 S10"yhn(-t  
    YK xkO  
     sd5%Szx  
    aMU0BS"   
    6. 光栅参数和相关范围的选择 G5MoIC  
    =()Vrk|uK  
    }4Q~<2  
    • 可以同时改变一个或两个光栅参数。 |DUWB;  
    • 参数空间的采样可以相对粗略，因为随后将在计算点之间应用插值技术。 c{"=p8F_  
    • 该表列出了光栅的所有可用参数。 对于在一个区域内引入调制光栅参数，不允许使用改变光路的参数（如周期等）。 9w)W|9  
    sej$$m R  
     /)+V(Jlu  
    rXh*nC  
    7. 查找表的计算 +aY]?]  
    d76nyQKK  
    在配置所需的光栅参数变化后，可以通过单击计算查找表来计算生成的光栅特性并将其存储在查找表中。 RIm8PV;N  
    -eE r|Gs)  
    $U/|+*  
    %XC3V7  
    查找表是针对在足迹和光栅分析工具的第一步中确定的光栅参数和 FOV 模式的定义变化计算的。 查找表会自动保存到指定文件夹：  a,ff8Qm  
    o;[?b'\[d  
    U ;%cp  
    If>bE!_BO  
     uM"_3je{W2  
    m%ec=%L9  
    8. 光栅性能的研究 Q[n*ce7L0  
    !"d"3coQ?  
    ur$=%3vM  
     >TQNrS^$J  
    5eLm  
    9. 从查找表加载瑞利矩阵 E4QLXx6Wa&  
    iNCT(N~.  
    TCWt3\  
     6 l,8ev  
    oKMr Pr[`  
    10. 更新光学系统的产生 6*&$ha}X  
    saa3BuV 6  
    P Dgd'y  
    M\_IQj  
     f1$'av  
    11. 光栅调制配置 -HU4Ow  
    Ee3 -oHa  
    w}qLI4  
     A8X3|<n=  
    12. 基于采样位置或网格的调制 ~K/_51O'  
    Ur9L8EdC  
    dW5@Z-9  
    j 06 mky  
    elGwS\sw  
    :Tcvj5  
     R wTzS;  
    (V x2*Aw]  
    13. 基于解析描述的调制 *S<d`mp[  
    egmNX't6f5  
     B#;6z%WK  
    e>2KW5.  
    14. 基于数学描述的调制 #&}j'oD|N  
    >ZwDcuJ~Lz  
    \0veld  
     7G+E+A5o&  
    lyD=n  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表